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公开(公告)号：CN111742266A
公开(公告)日：2020-10-02
申请号：CN201980014794.8
申请日：2019-01-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本文中描述了一种用于确定对图案化工艺的调节的方法。该方法包括：基于与经受图案化工艺的衬底的特征有关的参数的测量，获取参数的概率密度函数；由硬件计算机系统，确定概率密度函数的不对称性；以及由硬件计算机系统，基于参数的概率密度函数的不对称性，确定对图案化工艺的调节，以降低特征的参数值落在参数的阈值之间的范围之外的概率。
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公开(公告)号：CN116300350A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310275006.9
申请日：2017-11-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F9/00 , G01N21/956 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种用于确定涉及衬底的特征的位置的方法、系统和程序。所述方法包括：测量所述特征的位置；接收所述特征的预期方位；和基于对涉及衬底上的第一层的第一参考特征相对于涉及衬底上的第二层的第二参考特征的相对位置的知晓来确定置放误差的估计。可使用更新位置来定位包括所述特征的所述衬底的所述层，或所述衬底的另一层，或另一衬底的另一层。本发明也提供一种用于控制衬底的定位的方法、系统和程序。
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公开(公告)号：CN110869854B
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN201880046240.1
申请日：2018-06-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种方法，包括获得由器件制造过程产生的衬底上的多个图案的特征验证值；使用非概率模型获得特征计算值；基于验证值和计算值获得非概率模型的残差值；以及基于残差值获得残差分布的属性。本文还公开了计算由器件制造过程产生的衬底上的缺陷的概率的方法，以及获得非概率模型残差分布的属性的方法。
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公开(公告)号：CN110100207A
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201780079879.5
申请日：2017-11-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本发明提供一种用于确定涉及衬底的特征的位置的方法、系统和程序。所述方法包括：测量所述特征的位置；接收所述特征的预期方位；和基于对涉及衬底上的第一层的第一参考特征相对于涉及衬底上的第二层的第二参考特征的相对位置的知晓来确定置放误差的估计。可使用更新位置来定位包括所述特征的所述衬底的所述层，或所述衬底的另一层，或另一衬底的另一层。本发明也提供一种用于控制衬底的定位的方法、系统和程序。
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公开(公告)号：CN110100207B
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN201780079879.5
申请日：2017-11-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本发明提供一种用于确定涉及衬底的特征的位置的方法、系统和程序。所述方法包括：测量所述特征的位置；接收所述特征的预期方位；和基于对涉及衬底上的第一层的第一参考特征相对于涉及衬底上的第二层的第二参考特征的相对位置的知晓来确定置放误差的估计。可使用更新位置来定位包括所述特征的所述衬底的所述层，或所述衬底的另一层，或另一衬底的另一层。本发明也提供一种用于控制衬底的定位的方法、系统和程序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113508338A
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN202080015560.8
申请日：2020-02-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 该文档中提供了一种确定用于在衬底上制造特征的一个或多个工艺的特性的方法，该方法包括：获取衬底上的至少一个区域的至少部分上的多个特征的图像数据；使用图像数据以获取多个特征中的至少一些特征中的每个特征的一个或多个尺寸的测量数据；确定取决于多个特征中的至少一些特征中的每个特征的一个或多个尺寸的测量数据的变化的统计参数；根据图像数据中的缺陷特征的确定数目，确定特征的缺陷制造的概率；并且确定具有特征的缺陷制造的概率和统计参数的一个或多个工艺的特性。
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公开(公告)号：CN110869854A
公开(公告)日：2020-03-06
申请号：CN201880046240.1
申请日：2018-06-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种方法，包括获得由器件制造过程产生的衬底上的多个图案的特征验证值；使用非概率模型获得特征计算值；基于验证值和计算值获得非概率模型的残差值；以及基于残差值获得残差分布的属性。本文还公开了计算由器件制造过程产生的衬底上的缺陷的概率的方法，以及获得非概率模型残差分布的属性的方法。
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公开(公告)号：CN119343697A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202380043609.4
申请日：2023-05-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·O·斯普拉 , V·E·卡拉多 , H·A·迪伦 , 范期翔 , M·D·陆 , W·T·特尔 , W·L·范迈罗 , 叶芸伶 , 尹炜华 , 余奕贤 , 孙岩 , M·J·基亚
IPC: G06T7/00 , H01J37/147 , H01J37/22
Abstract: 一种用于调整图像中的失真的系统、装置和方法。各实施例包括：获得多个图像；确定多个图像上的多个特征和与多个图像相对应的布局数据中的对应特征之间的对准差异；对该对准差异进行建模；以及使用建模来调整以下各项中的至少一项：与获得多个图像相对应的机器设置；或多个图像中的至少一个图像上的多个特征中的至少一个特征。
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公开(公告)号：CN113508338B
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202080015560.8
申请日：2020-02-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 该文档中提供了一种确定用于在衬底上制造特征的一个或多个工艺的特性的方法，该方法包括：获取衬底上的至少一个区域的至少部分上的多个特征的图像数据；使用图像数据以获取多个特征中的至少一些特征中的每个特征的一个或多个尺寸的测量数据；确定取决于多个特征中的至少一些特征中的每个特征的一个或多个尺寸的测量数据的变化的统计参数；根据图像数据中的缺陷特征的确定数目，确定特征的缺陷制造的概率；并且确定具有特征的缺陷制造的概率和统计参数的一个或多个工艺的特性。
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公开(公告)号：CN116615645A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202180084304.9
申请日：2021-11-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G01N21/956
Abstract: 本文中公开了图像对准的系统和方法。图像对准方法可以包括：获得样品的图像；获得与对应参考图像相关联的信息；通过使对应参考图像的渲染图像模糊以使得渲染图像的拓扑结构基本被保留来生成经修改的渲染图像，其中模糊程度基于拓扑结构的特性；以及将样品的图像与经模糊的渲染图像对准。该方法还可以包括：基于样品的图像和经模糊的渲染图像之间的对准来将样品的图像与对应参考图像对准。
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