公开(公告)号：CN101803001A

公开(公告)日：2010-08-11

申请号：CN200880107793.X

申请日：2008-09-19

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： A·J·C·斯吉本 ,  T·A·R·凡埃姆派尔 ,  R·维色 ,  J·H·G·弗朗森 ,  阳宗全 ,  A·布拉尔斯 ,  A·P·瑞吉普玛

IPC分类号： H01L21/683 ,  H01L21/687

CPC分类号： H01L21/6831 ,  G03F7/70708 ,  H01L21/6875

摘要： 本发明涉及一种用于光刻设备中的静电夹持装置，其包括设置有突节的材料层，其中由绝缘体和/或电介质材料包围的电极设置在突节之间，以及本发明涉及一种制造这种静电夹持装置的方法。该静电夹持装置可以用于将物体夹持到光刻设备中的物体支撑结构。

公开(公告)号：CN101803001B

公开(公告)日：2012-11-07

申请号：CN200880107793.X

申请日：2008-09-19

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： A·J·C·斯吉本 ,  T·A·R·凡埃姆派尔 ,  R·维色 ,  J·H·G·弗朗森 ,  阳宗全 ,  A·布拉尔斯 ,  A·P·瑞吉普玛

IPC分类号： H01L21/683 ,  H01L21/687

CPC分类号： H01L21/6831 ,  G03F7/70708 ,  H01L21/6875

摘要： 本发明涉及一种用于光刻设备中的静电夹持装置，其包括设置有突节的材料层，其中由绝缘体和/或电介质材料包围的电极设置在突节之间，以及本发明涉及一种制造这种静电夹持装置的方法。该静电夹持装置可以用于将物体夹持到光刻设备中的物体支撑结构。

公开(公告)号：CN110799904A

公开(公告)日：2020-02-14

申请号：CN201880041791.9

申请日：2018-06-08

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： H·帕特尔 ,  马悦 ,  G·纳基伯格鲁 ,  A·P·里杰普马 ,  A·J·范德内特 ,  R·H·弗黑斯 ,  阳宗全

IPC分类号： G03F7/20 ,  H05G2/00

摘要： 一种辐射源(SO)，包括：燃料供给装置(3)，被配置为供给燃料；激发装置(1)，被配置为将燃料激发成等离子体(7)；收集器(5)，被配置为收集由等离子体发射的辐射并且将该辐射引导至束出口；碎片缓解系统(20)，被配置为收集由等离子生成的碎片，该碎片缓解系统具有部件(3，9B，21，22，23，24，27，28，29)，该部件具有从中穿过的管道(301)；以及温度控制系统(300)，被配置为通过选择性地加热或冷却穿过管道循环的热传递流体来选择性地增加或降低该部件的温度。