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    辐射源模块和光刻设备
    1.
    发明公开
    辐射源模块和光刻设备 审中-公开

    公开(公告)号：CN110799904A

    公开(公告)日：2020-02-14

    申请号：CN201880041791.9

    申请日：2018-06-08

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： H·帕特尔 ,  马悦 ,  G·纳基伯格鲁 ,  A·P·里杰普马 ,  A·J·范德内特 ,  R·H·弗黑斯 ,  阳宗全

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H05G2/00

    摘要： 一种辐射源(SO)，包括：燃料供给装置(3)，被配置为供给燃料；激发装置(1)，被配置为将燃料激发成等离子体(7)；收集器(5)，被配置为收集由等离子体发射的辐射并且将该辐射引导至束出口；碎片缓解系统(20)，被配置为收集由等离子生成的碎片，该碎片缓解系统具有部件(3，9B，21，22，23，24，27，28，29)，该部件具有从中穿过的管道(301)；以及温度控制系统(300)，被配置为通过选择性地加热或冷却穿过管道循环的热传递流体来选择性地增加或降低该部件的温度。

    光刻投影装置、气体净化方法、器件制造方法以及净化气体供应系统
    9.
    发明公开
    光刻投影装置、气体净化方法、器件制造方法以及净化气体供应系统 失效 复审申请

    公开(公告)号：CN1853142A

    公开(公告)日：2006-10-25

    申请号：CN200480026605.2

    申请日：2004-07-20

    申请人： ASML荷兰有限公司 ,  诚实公司

    发明人： A·J·范德内特 ,  J·斯佩格尔曼 ,  J·J·范布拉格特

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G02B27/0006 ,  G03F7/70933

    摘要： 一种投影装置(1)包括：用于支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用具根据所需图案对投影光束进行图案化。该装置设有用于固定衬底的衬底台(WT)，用于将图案化光束投影到衬底的目标部分上的投影系统(PL)。该装置还设有用于在光刻投影装置的元件表面附近提供净化气体的净化气体供应系统(100)。该净化气体供应系统包括净化气体混合物生成器(120)。该净化气体混合物生成器(120)配置为生成包括至少一种净化气体和湿气的净化气体混合物。净化气体混合物生成器(120)设有配置为用于向净化气体加入湿气的加湿器件，以及连接于净化气体混合物生成器用于在表面附近供应净化气体混合物的净化气体混合物出口(130－133)。

    吹扫气体供应
    10.
    发明公开
    吹扫气体供应 审中-公开

    公开(公告)号：CN118435124A

    公开(公告)日：2024-08-02

    申请号：CN202280084206.X

    申请日：2022-12-07

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： S·范德格拉费 ,  K·T·苏加萨 ,  K·F·佛斯特拉 ,  M·A·G·默凯科斯 ,  A·J·范德内特

    IPC分类号： G03F7/20

    摘要： 一种用于生成包括氢气和氧气的吹扫气体的气体供应设备，该设备包括：氢气入口，被配置为接收氢气气流；混合气体入口，被配置为接收包括氮气和氧气的混合气流；质量流量控制器，与混合气体入口流体连通并且被配置为提供具有受控质量流率的受控气流；浓缩器，被配置为生成浓缩气流，该浓缩气流的氮氧比例低于第一气流；以及混合器，被配置为将氢气气流与包含混合气体的流混合。