公开(公告)号：CN101581887A

公开(公告)日：2009-11-18

申请号：CN200910140581.8

申请日：2009-05-08

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： D·J·M·狄莱克斯 ,  D·M·H·菲利浦斯 ,  C·J·G·范德顿根 ,  K·斯蒂芬斯 ,  A·J·范普登

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/02

CPC分类号： G03F7/70341 ,  Y10T29/49401 ,  Y10T137/8593

摘要： 本发明公开一种流体处理结构、一种光刻设备和一种器件制造方法，其中实施测量以提高弯液面发生破裂的速度。测量包括流体处理结构中的多个流体抽取开口的形状和多个流体供给开口的形状和密度。

公开(公告)号：CN113711698A

公开(公告)日：2021-11-26

申请号：CN202080029371.6

申请日：2020-03-10

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： S·C·R·德尔克斯 ,  D·J·M·狄莱克斯 ,  M·W·L·H·菲特斯 ,  P·G·M·霍伊马克斯 ,  K·C·J·C·摩尔 ,  V·纳瓦罗帕雷德斯 ,  W·P·范德伦特 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯

IPC分类号： H05G2/00

摘要： 一种用于辐射源的碎片减少系统的污染物陷阱，污染物陷阱包括被配置为捕获从辐射源的等离子体形成区域发射的燃料碎片的多个叶片；其中多个叶片中的至少一个叶片或每个叶片包括材料，所述材料包括高于30W m‑1K‑1的热导率。

公开(公告)号：CN101581887B

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN200910140581.8

申请日：2009-05-08

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： D·J·M·狄莱克斯 ,  D·M·H·菲利浦斯 ,  C·J·G·范德顿根 ,  K·斯蒂芬斯 ,  A·J·范普登

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/02

CPC分类号： G03F7/70341 ,  Y10T29/49401 ,  Y10T137/8593

摘要： 本发明公开一种流体处理结构、一种光刻设备和一种器件制造方法，其中实施测量以提高弯液面发生破裂的速度。测量包括流体处理结构中的多个流体抽取开口的形状和多个流体供给开口的形状和密度。

公开(公告)号：CN118476316A

公开(公告)日：2024-08-09

申请号：CN202280084793.2

申请日：2022-11-11

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 丹尼斯·赫尔曼·卡斯帕·范班宁 ,  D·J·M·狄莱克斯 ,  P·A·威廉斯

IPC分类号： H05G2/00

摘要： 一种用于EUV辐射源的容器，所述容器包括：引导部，所述引导部用于将燃料碎片从辐射源的等离子体形成区朝向燃料碎片去除装置引导；包括开口的壁，其中所述引导部的至少一部分布置在所述壁的开口中，以便在所述引导部与所述壁之间限定间隙；以及气体供给系统，所述气体供给系统被配置成将气体供给到所述间隙中以控制所述引导部与所述壁之间的热传递。

公开(公告)号：CN118285157A

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202280077258.4

申请日：2022-10-26

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·H·W·雅各布斯 ,  D·J·M·狄莱克斯 ,  W·P·范德伦特

IPC分类号： H05G2/00

摘要： 本发明涉及一种用于将目标材料供应到辐射源的设备的阀系统，所述目标材料具有高于室温的熔化温度且处于至少200巴的压力下，其中，阀系统包括：‑腔室，所述腔室具有圆形横截面；‑圆形阀体，所述圆形阀体布置于腔室中并且匹配腔室的圆形横截面，其中，腔室包括第一端口和第二端口，其中，阀体能够围绕旋转轴线在平行于圆形横截面的平面的平面中在打开位置与关闭位置之间旋转；在打开位置处，阀体中的通道在第一端口与第二端口之间提供流动路径；在关闭位置处，阀体中的通道至少与第一端口断开连接。