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公开(公告)号：CN109154771A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201780025510.6
申请日：2017-04-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·A·纳萨莱维奇 , E·A·阿贝格 , N·班纳吉 , M·A·布劳 , 德克·S·G·布龙 , 保罗·詹森 , M·可鲁依宁嘉 , E·兰德林克 , N·马克西姆 , A·尼基帕罗夫 , A·W·诺滕博姆 , C·彼烈戈 , M·彼得 , G·里斯朋斯 , N·舒 , M·A·范德柯克霍夫 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , A·W·弗尔堡 , J·P·M·B·沃缪伦 , D·F·弗莱斯 , W-P·福尔蒂森 , A·N·兹德拉夫科夫
摘要： 公开了一种用于EUV光刻术的隔膜。在一种布置中，隔膜包括具有成以下顺序的层的叠层：第一覆盖层，包括第一金属的氧化物；包括化合物的基层，所述化合物包括第二金属和选自由Si、B、C和N组成的组的附加元素；和第二覆盖层，包括第三金属的氧化物，其中第一金属与第二金属不同，第三金属与第一金属相同或不同。
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公开(公告)号：CN114942566A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202210555114.7
申请日：2017-04-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·A·纳萨莱维奇 , E·A·阿贝格 , N·班纳吉 , M·A·布劳 , 德克·S·G·布龙 , 保罗·詹森 , M·可鲁依宁嘉 , E·兰德林克 , N·马克西姆 , A·尼基帕罗夫 , A·W·诺滕博姆 , C·彼烈戈 , M·彼得 , G·里斯朋斯 , N·舒 , M·A·范德柯克霍夫 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , A·W·弗尔堡 , J·P·M·B·沃缪伦 , D·F·弗莱斯 , W-P·福尔蒂森 , A·N·兹德拉夫科夫
摘要： 公开了一种用于EUV光刻术的隔膜。在一种布置中，隔膜包括具有成以下顺序的层的叠层：第一覆盖层，包括第一金属的氧化物；包括化合物的基层，所述化合物包括第二金属和选自由Si、B、C和N组成的组的附加元素；和第二覆盖层，包括第三金属的氧化物，其中第一金属与第二金属不同，第三金属与第一金属相同或不同。
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公开(公告)号：CN109154771B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN201780025510.6
申请日：2017-04-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·A·纳萨莱维奇 , E·A·阿贝格 , N·班纳吉 , M·A·布劳 , 德克·S·G·布龙 , 保罗·詹森 , M·可鲁依宁嘉 , E·兰德林克 , N·马克西姆 , A·尼基帕罗夫 , A·W·诺滕博姆 , C·彼烈戈 , M·彼得 , G·里斯朋斯 , N·舒 , M·A·范德柯克霍夫 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , A·W·弗尔堡 , J·P·M·B·沃缪伦 , D·F·弗莱斯 , W-P·福尔蒂森 , A·N·兹德拉夫科夫
摘要： 公开了一种用于EUV光刻术的隔膜。在一种布置中，隔膜包括具有成以下顺序的层的叠层：第一覆盖层，包括第一金属的氧化物；包括化合物的基层，所述化合物包括第二金属和选自由Si、B、C和N组成的组的附加元素；和第二覆盖层，包括第三金属的氧化物，其中第一金属与第二金属不同，第三金属与第一金属相同或不同。
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公开(公告)号：CN113260925A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN201980087196.3
申请日：2019-12-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·J·M·巴塞曼斯 , P·J·M·范艾德丽切姆 , E·兰德林克
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本文中描述了一种用于确定图案化过程的光学特性的分量的方法。该方法包括获得(i)多个期望特征，(ii)基于多个期望特征的多个模拟特征和图案化过程的光学特性，以及(iii)与多个期望特征中的期望特征和多个模拟特征中的相关模拟特征相关的性能度量(例如，EPE)；通过基于光学特性的值的变化计算性能度量的值的变化来确定图案化过程的光学灵敏度的集合；以及基于该光学灵敏度的集合辨识包括性能度量的值的改变的主要贡献者的光学特性的分量的集合(例如，主分量)。
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