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公开(公告)号：CN105911821B
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201610366219.2
申请日：2005-06-07
申请人： 株式会社尼康
发明人： 白石健一
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03F7/70875 , G03F7/70916
摘要： 本发明有关于一种曝光装置及元件制造方法，一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)的性质和/或成分。本发明还公开了元件制造方法及曝光装置的维护方法。
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公开(公告)号：CN106168738A
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201610577265.7
申请日：2013-06-04
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7015 , G03B27/42 , G03F7/70291
摘要： 本公开涉及一种光学投影阵列曝光系统。公开了一种空间光调制器成像系统。该系统包括照明模块、投影模块及照明‑投影光束分离器，该照明模块被配置为提供照明光，其中，该照明光呈现由该空间光调制器成像系统成像的数据图案；该投影模块被配置为将该照明光投射至基板；该照明投影光束分离器耦接于该照明模块与该投影模块之间；其中，该照明一投影光束分离器被配置为接收沿照明光轴的该照明光，并将所接收的照明光沿投影光轴传送至该投影模块，其中该照明光轴与该投影光轴实质上彼此平行。
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公开(公告)号：CN101776850A
公开(公告)日：2010-07-14
申请号：CN201010127815.8
申请日：2005-06-07
申请人： 尼康股份有限公司
发明人： 白石健一
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70875 , G03B27/42 , G03F7/70341 , G03F7/70916
摘要： 本发明有关于一种曝光装置及元件制造方法，一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)的性质和/或成分。本发明还公开了元件制造方法及曝光装置的维护方法。
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公开(公告)号：CN101340746A
公开(公告)日：2009-01-07
申请号：CN200810107926.5
申请日：2008-05-21
申请人： 索尼株式会社
发明人： 花轮幸治
IPC分类号： H05B33/10
CPC分类号： G03B27/42 , H01L51/0013
摘要： 本发明提供能使被转移的层的形状和质量均一的转移方法和转移设备以及制造有机发光元件的方法。该转移方法包括以下步骤：设置转移基板和受体基板以使它们彼此面对，在所述转移基板上设置有转移层，而在所述受体基板中布置有多个区域；以及通过从转移基板侧发射辐射射线将该转移层转移到该多个区域。所述辐射射线成形为带状，并且在辐射射线的长轴方向上中心部分中的短轴宽度设定为大于端部的短轴宽度。
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公开(公告)号：CN100345252C
公开(公告)日：2007-10-24
申请号：CN03802931.6
申请日：2003-01-29
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03B21/18 , G03B27/42 , G03F7/70258 , G03F7/705 , G03F7/70508 , G03F7/70525 , G03F7/706
摘要： 第二通信服务器(930)通过第一通信服务器(920)获得曝光装置(9221～9223)中调节单元的调节信息以及涉及当作基准的曝光条件下投影光学系统成像质量(如，波前像差)的信息，并根据该信息计算目标曝光条件下调节单元的最佳调节量。此外，第二通信服务器通过第一通信服务器(920)获得调节的调节信息和投影光学系统成像质量的实际测量数据，并再根据该信息计算在目标曝光条件下调节单元的最佳调节量。第二通信服务器根据计算结果，通过第一通信服务器(920)控制曝光装置中的调节单元。
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公开(公告)号：CN1201206C
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：CN01101347.8
申请日：2001-01-10
申请人： 东芝株式会社
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01J9/227
CPC分类号： G03B27/42
摘要： 一种曝光装置，具有掩模支承部，该掩模支承部支承已形成曝光图形的光掩模，使之在与被曝光物接触的曝光位置和离开被曝光物的离开位置之间移动。设有曝光光源，该曝光光源在光掩模移至曝光位置的状态下，穿过光掩模而对被曝光物曝光。净化气体供给器在光掩模移至离开位置时由第1供给部向被曝光物和光掩模之间提供净化气体以防止异物进入，在光掩模移至曝光位置时，由第2供给部向光掩模的外侧面提供净化气体以使光掩模冷却。
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公开(公告)号：CN1534380A
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：CN200310124030.5
申请日：2003-12-31
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
CPC分类号： G03F1/20 , G03B27/42 , G03F1/00 , G03F7/70475
摘要： 本发明公开了一种转移光罩图形的方法与装置以及制造光罩的方法，可藉以补偿光罩接合区(Stitching Area)因为接合效应(Stitching Effect)所产生的误差。本发明的转移光罩图形的方法至少包括以下步骤。首先，提供用以产生一光罩的一数据文件，并将此数据文件分成复数个部分，其中每一部分至少包括一主要图形区与一接合区，且此接合区至少包括一几何图形。然后，于接合区形成一组几何特征，其中于一照射过程后此组几何特征形成一半色调灰阶曝光剂量分布。
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公开(公告)号：CN1438512A
公开(公告)日：2003-08-27
申请号：CN03102517.X
申请日：2003-02-09
申请人： 柯尼卡株式会社
发明人： 鈴木厚司
CPC分类号： G03B27/42
摘要： 用于混合从不同方向入射的多束光后在1个方向上射出的光学器件，包含：分别接收从第1、第2和第3发光元件列射出的第1、第2和第3光的第1、第2和第3透明部件；设置接合第1透明部件和第2透明部件，在使第1以及第3光透过的同时使第2光在和已透过的第1以及第3光相同的方向上反射的第1光选择膜的第1接合面；设置接合第1透明部件和第3透明部件，在使第3光透过的同时使第1光在和已透过的第3光相同的方向上反射的第2光选择膜的第2接合面；使在第1光选择膜中在P偏振光从透过向反射转换时的波长和S偏振光从透过向反射转换时的波长的差异区域上，不包含第1光的波长区域的波长控制元件。
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公开(公告)号：CN105467775A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201510891261.1
申请日：2005-06-07
申请人： 株式会社尼康
发明人： 白石健一
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03B27/42 , G03F7/70341 , G03F7/70916
摘要： 本发明有关于一种曝光装置及元件制造方法，一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)的性质和/或成分。本发明还公开了元件制造方法及曝光装置的维护方法。
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公开(公告)号：CN102566319B
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201210036739.9
申请日：2007-03-28
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/42 , G03F7/70341 , G03F7/70716
摘要： 本发明公开一种光刻装置及器件制造方法。本申请记载了光刻投影装置中的排放装置的各个实施例，这些实施例例如具有一特征，当在排放装置中不存在液体时该特征可减小流入排放装置的气体。在一个示例中，提供一被动型液体去除装置，使得该排放装置中的气体压力等于环境气体压力，在另一个实施例中，提供一挡板以在不需要去除液体时封闭该腔室。
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