公开(公告)号：CN105229535A

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201480028983.8

申请日：2014-04-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： W·奥普特鲁特 ,  A·博默 ,  R·德琼 ,  F·埃弗茨 ,  H·戈德弗雷德 ,  R·斯托尔克 ,  P·范德文

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01S3/225 ,  H01S3/104 ,  H01S3/0975

CPC分类号： G03F7/70558 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70516 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/225

摘要： 一种选择待施加至辐射源的变量的周期性调制(401)的方法，其中源传递辐射以用于投射至衬底上以及其中在衬底和辐射之间存在以扫描速度的相对运动，方法包括：针对系统参数集合以及针对衬底上的位置，计算量值，量值是源自于被施加至源的变量的调制的对于被传递至该位置的能量剂量(403)贡献的度量，其中对能量剂量的贡献被计算为以下项的卷积：辐射的分布(402)，以及对由源传递的辐射的辐照度的贡献；以及选择调制频率，在该频率处针对系统参数集合和衬底上的位置的量值满足特定准则。

公开(公告)号：CN105229535B

公开(公告)日：2017-09-15

申请号：CN201480028983.8

申请日：2014-04-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： W·奥普特鲁特 ,  A·博默 ,  R·德琼 ,  F·埃弗茨 ,  H·戈德弗雷德 ,  R·斯托尔克 ,  P·范德文

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01S3/225 ,  H01S3/104 ,  H01S3/0975

CPC分类号： G03F7/70558 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70516 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/225

摘要： 一种选择待施加至辐射源的变量的周期性调制(401)的方法，其中源传递辐射以用于投射至衬底上以及其中在衬底和辐射之间存在以扫描速度的相对运动，方法包括：针对系统参数集合以及针对衬底上的位置，计算量值，量值是源自于被施加至源的变量的调制的对于被传递至该位置的能量剂量(403)贡献的度量，其中对能量剂量的贡献被计算为以下项的卷积：辐射的分布(402)，以及对由源传递的辐射的辐照度的贡献；以及选择调制频率，在该频率处针对系统参数集合和衬底上的位置的量值满足特定准则。