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公开(公告)号：CN112731770A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN202011588035.3
申请日：2016-10-18
申请人： 西默有限公司 , ASML荷兰有限公司
摘要： 公开了根据激光器以其被操作的重复率对激光器性能的在线校准。校准可以是周期性的，并且可以在非曝光时段期间的计划期间进行。可以使用各种标准来自动选择产生可靠的符合规范的性能的重复率。然后使重复率的可靠值可用于扫描仪以作为所允许的值，并且然后允许激光器/扫描仪系统使用那些允许的重复率。
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公开(公告)号：CN106462081A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580030283.7
申请日：2015-06-03
申请人： 西默有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述了一种用于估计由光源产生的并且被引导朝向光刻装置的晶片的脉冲光束的光谱特征的方法。方法包括：接收光束的脉冲的N个光谱的集合；将所接收的N个光谱保存到保存的集合；对保存的集合中的光谱进行变换以形成变换后的光谱的集合；对变换后的光谱求平均以形成平均光谱；以及基于平均光谱来估计脉冲光束的光谱特征。
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公开(公告)号：CN113474731A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202080016473.4
申请日：2020-01-27
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： H·P·戈德弗里德 , W·P·E·M·奥普特鲁特
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种辐射测量系统(200)包括被配置为接收辐射束(210)并且改变辐射束的强度分布以输出经调节的辐射束(215)的光学设备(205)、以及可操作以接收经调节的辐射束并且确定经调节的辐射束的光谱含量的光谱仪(220)。辐射测量系统可以形成光刻设备的部分。
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公开(公告)号：CN110178087B
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201780083474.9
申请日：2017-12-04
申请人： 西默有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种方法包括：产生由具有深紫外范围中的波长的脉冲构成的光束，每个脉冲具有由第一时间相干长度定义的第一时间相干性，并且每个脉冲由脉冲持续时间定义；对于一个或多个脉冲，在脉冲的脉冲持续时间上调制光学相位以产生具有由第二时间相干长度定义的第二时间相干性的修改的脉冲，该第二时间相干长度小于脉冲的第一时间相干长度；至少从修改的脉冲形成脉冲光束；并且将形成的脉冲光束朝向光刻曝光设备内的衬底引导。
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公开(公告)号：CN113703287A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202111015096.5
申请日：2017-12-04
申请人： 西默有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种减少准分子光源中的散斑的方法包括：产生由具有深紫外范围中的波长的脉冲构成的光束，每个脉冲具有由第一时间相干长度定义的第一时间相干性，并且每个脉冲由脉冲持续时间定义；对于一个或多个脉冲，在脉冲的脉冲持续时间上调制光学相位以产生具有由第二时间相干长度定义的第二时间相干性的修改的脉冲，该第二时间相干长度小于脉冲的第一时间相干长度；至少从修改的脉冲形成脉冲光束；并且将形成的脉冲光束朝向光刻曝光设备内的衬底引导。
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公开(公告)号：CN108474689B
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201680073543.3
申请日：2016-10-18
申请人： 西默有限公司 , ASML荷兰有限公司
摘要： 公开了根据激光器以其被操作的重复率对激光器性能的在线校准。校准可以是周期性的，并且可以在非曝光时段期间的计划期间进行。可以使用各种标准来自动选择产生可靠的符合规范的性能的重复率。然后使重复率的可靠值可用于扫描仪以作为所允许的值，并且然后允许激光器/扫描仪系统使用那些允许的重复率。
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公开(公告)号：CN111819741A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201980017695.5
申请日：2019-02-21
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： H·P·戈德弗里德 , F·埃弗茨 , W·P·E·M·奥普特·鲁特
摘要： 一种用于控制激光器的控制系统，包括：用于感测物理值的传感器，物理值指示由激光器发出的激光束的特性；开关；第一控制器和第二控制器。每个控制器被配置为：从传感器接收又一传感器值；基于接收到的又一传感器值调整接收到的设定点值以给出输出值；并且使激光器根据该输出值进行操作。开关被配置为在控制器之间切换，使得输出值以循环的方式从每个控制器被提供。
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公开(公告)号：CN112585542A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN201980054804.0
申请日：2019-08-05
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： H·P·戈德弗里德 , W·P·E·M·奥普特·鲁特
摘要： 一种用于增加脉冲式辐射束的脉冲长度的装置(10)，该装置包括：分束器(16)，被配置为将输入辐射束(18)分成第一光束(24)和第二光束(22)；光学器件(12、14)，其中分束器和光学器件被配置为使得在光学器件所引起的第一光束的光学延迟之后，第一光束的至少一部分与第二光束重新组合为经修改光束；以及至少一个光学元件(30)，位于第一光束的光路中，该至少一个光学元件被配置为使得第一光束的波前的不同部分的相位发生变化，以减小第一光束与第二光束之间的相干性。
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公开(公告)号：CN106462081B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：CN201580030283.7
申请日：2015-06-03
申请人： 西默有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述了一种用于估计由光源产生的并且被引导朝向光刻装置的晶片的脉冲光束的光谱特征的方法。方法包括：接收光束的脉冲的N个光谱的集合；将所接收的N个光谱保存到保存的集合；对保存的集合中的光谱进行变换以形成变换后的光谱的集合；对变换后的光谱求平均以形成平均光谱；以及基于平均光谱来估计脉冲光束的光谱特征。
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