公开(公告)号：CN108369382B

公开(公告)日：2021-02-05

申请号：CN201680071426.3

申请日：2016-09-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： E·M·赫尔斯埃博 ,  P·A·J·蒂内曼斯 ,  R·布林克霍夫 ,  P·J·赫利斯 ,  J·K·卢卡什 ,  L·J·P·维尔希斯 ,  I·M·A·范唐克拉尔 ,  F·G·C·比基恩

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 在一种控制光刻设备的方法中，使用历史性能测量值(512)计算与光刻过程相关的过程模型(PM)。测量设置在当前衬底上的多个对准标记的当前位置(502)且使用所述当前位置计算与当前衬底相关的衬底模型。另外，使用(530)在处理先前衬底时所获得的历史位置测量值(522)和历史性能测量值以计算模型映射(M)。应用(520)该模型映射以修改该衬底模型。一起使用过程模型和被修改的衬底模型(SM′)(PSM)来控制(508)该光刻设备。通过避免过程模型和衬底模型的相关分量的过校正或欠校正来改善重叠性能。模型映射可以是子空间映射，且可以在使用该模型映射之前减少该模型映射的维度。

公开(公告)号：CN108369382A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201680071426.3

申请日：2016-09-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： E·M·赫尔斯埃博 ,  P·A·J·蒂内曼斯 ,  R·布林克霍夫 ,  P·J·赫利斯 ,  J·K·卢卡什 ,  L·J·P·维尔希斯 ,  I·M·A·范唐克拉尔 ,  F·G·C·比基恩

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 在一种控制光刻设备的方法中，使用历史性能测量值(512)计算与光刻过程相关的过程模型(PM)。测量设置在当前衬底上的多个对准标记的当前位置(502)且使用所述当前位置计算与当前衬底相关的衬底模型。另外，使用(530)在处理先前衬底时所获得的历史位置测量值(522)和历史性能测量值以计算模型映射(M)。应用(520)该模型映射以修改该衬底模型。一起使用过程模型和被修改的衬底模型(SM′)(PSM)来控制(508)该光刻设备。通过避免过程模型和衬底模型的相关分量的过校正或欠校正来改善重叠性能。模型映射可以是子空间映射，且可以在使用该模型映射之前减少该模型映射的维度。