公开(公告)号：CN113227905B

公开(公告)日：2024-06-11

申请号：CN201980085858.3

申请日：2019-12-06

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： I·里埃布雷格茨 ,  N·森 ,  K·图伊斯 ,  R·J·G·古森斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/66

Abstract: 本文公开了一种用于涉及将图案加工到衬底上的器件制造过程的计算机实施的缺陷预测方法。不可校正误差用于帮助预测可能存在缺陷的位置，从而提高计量生良品率。在一个实施例中，不可校正误差信息涉及由于光刻系统的透镜硬件、成像狭缝大小以及其他物理特性的限制而导致的成像误差。在一个实施例中，不可校正误差信息涉及由透镜加热效应引起的成像误差。

公开(公告)号：CN113508338A

公开(公告)日：2021-10-15

申请号：CN202080015560.8

申请日：2020-02-06

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： W·T·特尔 ,  H·A·迪伦 ,  M·J·基亚 ,  K·图伊斯 ,  M·J·马斯洛 ,  P·D·恩格布罗姆 ,  R·T·休伊吉恩 ,  D·M·斯洛特布姆 ,  J·C·H·姆肯斯

IPC: G03F7/20

Abstract: 该文档中提供了一种确定用于在衬底上制造特征的一个或多个工艺的特性的方法，该方法包括：获取衬底上的至少一个区域的至少部分上的多个特征的图像数据；使用图像数据以获取多个特征中的至少一些特征中的每个特征的一个或多个尺寸的测量数据；确定取决于多个特征中的至少一些特征中的每个特征的一个或多个尺寸的测量数据的变化的统计参数；根据图像数据中的缺陷特征的确定数目，确定特征的缺陷制造的概率；并且确定具有特征的缺陷制造的概率和统计参数的一个或多个工艺的特性。

公开(公告)号：CN113508338B

公开(公告)日：2024-08-27

申请号：CN202080015560.8

申请日：2020-02-06

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： W·T·特尔 ,  H·A·迪伦 ,  M·J·基亚 ,  K·图伊斯 ,  M·J·马斯洛 ,  P·D·恩格布罗姆 ,  R·T·休伊吉恩 ,  D·M·斯洛特布姆 ,  J·C·H·姆肯斯

IPC: G03F7/20

Abstract: 该文档中提供了一种确定用于在衬底上制造特征的一个或多个工艺的特性的方法，该方法包括：获取衬底上的至少一个区域的至少部分上的多个特征的图像数据；使用图像数据以获取多个特征中的至少一些特征中的每个特征的一个或多个尺寸的测量数据；确定取决于多个特征中的至少一些特征中的每个特征的一个或多个尺寸的测量数据的变化的统计参数；根据图像数据中的缺陷特征的确定数目，确定特征的缺陷制造的概率；并且确定具有特征的缺陷制造的概率和统计参数的一个或多个工艺的特性。

公开(公告)号：CN113227905A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201980085858.3

申请日：2019-12-06

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： I·里埃布雷格茨 ,  N·森 ,  K·图伊斯 ,  R·J·G·古森斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/66

Abstract: 本文公开了一种用于涉及将图案加工到衬底上的器件制造过程的计算机实施的缺陷预测方法。不可校正误差用于帮助预测可能存在缺陷的位置，从而提高计量生良品率。在一个实施例中，不可校正误差信息涉及由于光刻系统的透镜硬件、成像狭缝大小以及其他物理特性的限制而导致的成像误差。在一个实施例中，不可校正误差信息涉及由透镜加热效应引起的成像误差。