公开(公告)号：CN117999517A

公开(公告)日：2024-05-07

申请号：CN202280060764.2

申请日：2022-08-02

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·A·J·蒂内曼斯 ,  L·J·卡尔塞迈耶尔

IPC: G03F7/20

Abstract: 披露了一种确定与至少一个衬底相关的衬底变形指标的方法，所述衬底变形指标描述跨所述至少一个衬底的变形。所述方法包括：获得与使用多种照射条件对所述衬底上的多个结构进行的测量相关的对准数据；和确定所述衬底变形指标的衬底变形指标值，所述衬底变形指标值使扩展由于所述多个结构的结构变形而引起的分散所需的基矢量的数量最少化。

公开(公告)号：CN117157586A

公开(公告)日：2023-12-01

申请号：CN202280026085.3

申请日：2022-03-21

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·亚当斯 ,  L·G·蒙特帝纳 ,  N·F·W·蒂森 ,  L·J·卡尔塞迈耶尔 ,  I·M·P·阿蒂斯 ,  萨哈拉萨达特·达斯特瑞

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供用于校正被设置在衬底上的对准标记的检测位置且使用经校正的数据来对准所述衬底以确保对所述衬底上的一个或更多个图案的准确曝光的系统、设备和方法。一种示例方法可以包括接收指示从设置在衬底上的多个对准标记衍射或从所述衬底反射的光之间的干涉的测量数据。所述示例方法还可以包括基于所述测量数据来确定衬底变形数据。所述示例方法还可以包括基于所述测量数据来确定对准标记变形数据。所述对准标记变形数据可以包括对准标记变形光谱图案数据、对准标记变形幅值数据、和对准标记变形偏移数据。随后，所述示例方法可以包括基于所述衬底变形数据和所述对准标记变形数据来确定对所述测量数据的校正。

公开(公告)号：CN114868084A

公开(公告)日：2022-08-05

申请号：CN202080087952.5

申请日：2020-12-03

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

Inventor： P·A·J·廷纳曼斯 ,  I·M·P·阿蒂斯 ,  K·巴塔查里亚 ,  R·布林克霍夫 ,  L·J·卡尔塞迈耶尔 ,  S·C·J·A·凯吉 ,  H·V·考克 ,  S·G·J·马西森 ,  H·J·L·梅根斯 ,  S·U·雷曼

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 披露了一种涉及测量衬底上的结构的量测方法，所述结构经受一个或更多个不对称偏差。所述方法包括：获得与不对称偏差相关的至少一个强度不对称性值，其中至少一个强度不对称性值包括与由所述结构衍射的辐射的至少两个衍射阶的各自的强度或幅度之间的差异或不平衡性相关的指标；基于所述至少一个强度不对称性值确定与所述一个或更多个不对称偏差相对应的至少一个相位偏移值；以及根据所述一个或更多个相位偏移确定针对所述一个或更多个不对称偏差的一个或更多个测量校正。

公开(公告)号：CN116964530A

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN202280018266.1

申请日：2022-02-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·F·W·蒂森 ,  L·J·卡尔塞迈耶尔

IPC: G03F9/00

Abstract: 披露了一种用于确定一组校正权重以校正量测数据的方法。所述方法包括：获得与用于执行测量的测量辐射的多个照射设置相关的第一量测数据，其中每个照射设置包括不同的波长、偏振或其组合；将量测数据拟合到用于表示所述量测数据的模型，并且确定拟合残差；以及确定所述校正权重为最小化所述拟合残差的校正权重。