公开(公告)号：CN117157586A

公开(公告)日：2023-12-01

申请号：CN202280026085.3

申请日：2022-03-21

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·亚当斯 ,  L·G·蒙特帝纳 ,  N·F·W·蒂森 ,  L·J·卡尔塞迈耶尔 ,  I·M·P·阿蒂斯 ,  萨哈拉萨达特·达斯特瑞

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供用于校正被设置在衬底上的对准标记的检测位置且使用经校正的数据来对准所述衬底以确保对所述衬底上的一个或更多个图案的准确曝光的系统、设备和方法。一种示例方法可以包括接收指示从设置在衬底上的多个对准标记衍射或从所述衬底反射的光之间的干涉的测量数据。所述示例方法还可以包括基于所述测量数据来确定衬底变形数据。所述示例方法还可以包括基于所述测量数据来确定对准标记变形数据。所述对准标记变形数据可以包括对准标记变形光谱图案数据、对准标记变形幅值数据、和对准标记变形偏移数据。随后，所述示例方法可以包括基于所述衬底变形数据和所述对准标记变形数据来确定对所述测量数据的校正。

公开(公告)号：CN119487446A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202380048829.6

申请日：2023-10-23

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·F·W·蒂森 ,  S·G·J·马斯杰森

IPC: G03F7/00 ,  G03F9/00

Abstract: 公开了一种用于确定至少一组校正权重以校正量测数据的方法。该方法包括获得分别与第一层和第二层相关的第一量测数据和第二量测数据。将第一量测数据和第二量测数据中的每一者拟合至用于表示该量测数据的模型，以确定第一组拟合残差及第二组拟合残差。确定作为至少一组校正权重的至少一组校正权重，以最小化所述第一组拟合残差和所述第二组拟合残差之间的差值。

公开(公告)号：CN116964530A

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN202280018266.1

申请日：2022-02-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·F·W·蒂森 ,  L·J·卡尔塞迈耶尔

IPC: G03F9/00

Abstract: 披露了一种用于确定一组校正权重以校正量测数据的方法。所述方法包括：获得与用于执行测量的测量辐射的多个照射设置相关的第一量测数据，其中每个照射设置包括不同的波长、偏振或其组合；将量测数据拟合到用于表示所述量测数据的模型，并且确定拟合残差；以及确定所述校正权重为最小化所述拟合残差的校正权重。