公开(公告)号：CN102636963A

公开(公告)日：2012-08-15

申请号：CN201210026185.4

申请日：2012-02-07

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： K·巴哈特塔卡里雅 ,  A·J·登博夫 ,  S·C·J·A·凯吉 ,  P·C·P·瓦诺鹏

IPC分类号： G03F7/20 ,  G01B11/26

CPC分类号： G03F7/70625 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/956 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70633

摘要： 本发明提供一种检查设备和方法、光刻设备、光刻处理单元及器件制造方法。本发明确定衬底上的周期性目标(例如晶片上的光栅)的不对称性质。检查设备具有宽带照射光源，其具有在高数值孔径物镜的光瞳平面内点镜像的照射束。从相对衬底的平面呈镜像反射关系的第二和第一方向经由物镜照射衬底和目标。四方楔形件光学装置分别地改变由衬底散射的辐射的衍射级的方向并且将衍射级与沿第一方向和第二方向中每一个方向的照射分离。例如，对每个入射方向分离零级和第一级。在多模光纤捕获之后，分光计用于测量作为波长(I0′(λ)，I0(λ)，I+1′(λ)以及I-1(λ))的函数的分别被改变方向的衍射级的强度。这可以随后用于计算单个光栅的不对称参数的重构或(堆叠重叠目标光栅的)重叠误差。

公开(公告)号：CN102636963B

公开(公告)日：2014-11-26

申请号：CN201210026185.4

申请日：2012-02-07

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： K·巴哈特塔卡里雅 ,  A·J·登博夫 ,  S·C·J·A·凯吉 ,  P·C·P·瓦诺鹏

IPC分类号： G03F7/20 ,  G01B11/26

CPC分类号： G03F7/70625 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/956 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70633

摘要： 本发明提供一种检查设备和方法、光刻设备、光刻处理单元及器件制造方法。本发明确定衬底上的周期性目标(例如晶片上的光栅)的不对称性质。检查设备具有宽带照射光源，其具有在高数值孔径物镜的光瞳平面内点镜像的照射束。从相对衬底的平面呈镜像反射关系的第二和第一方向经由物镜照射衬底和目标。四方楔形件光学装置分别地改变由衬底散射的辐射的衍射级的方向并且将衍射级与沿第一方向和第二方向中每一个方向的照射分离。例如，对每个入射方向分离零级和第一级。在多模光纤捕获之后，分光计用于测量作为波长(I0′(λ)，I0(λ)，I+1′(λ)以及I-1(λ))的函数的分别被改变方向的衍射级的强度。这可以随后用于计算单个光栅的不对称参数的重构或(堆叠重叠目标光栅的)重叠误差。