-
公开(公告)号：CN102636963A
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：CN201210026185.4
申请日：2012-02-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： K·巴哈特塔卡里雅 , A·J·登博夫 , S·C·J·A·凯吉 , P·C·P·瓦诺鹏
CPC classification number: G03F7/70625 , G01B2210/56 , G01N21/956 , G03F7/705 , G03F7/70633
Abstract: 本发明提供一种检查设备和方法、光刻设备、光刻处理单元及器件制造方法。本发明确定衬底上的周期性目标(例如晶片上的光栅)的不对称性质。检查设备具有宽带照射光源，其具有在高数值孔径物镜的光瞳平面内点镜像的照射束。从相对衬底的平面呈镜像反射关系的第二和第一方向经由物镜照射衬底和目标。四方楔形件光学装置分别地改变由衬底散射的辐射的衍射级的方向并且将衍射级与沿第一方向和第二方向中每一个方向的照射分离。例如，对每个入射方向分离零级和第一级。在多模光纤捕获之后，分光计用于测量作为波长(I0′(λ)，I0(λ)，I+1′(λ)以及I-1(λ))的函数的分别被改变方向的衍射级的强度。这可以随后用于计算单个光栅的不对称参数的重构或(堆叠重叠目标光栅的)重叠误差。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104471484B
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：CN201380035631.0
申请日：2013-06-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G01B11/27 , G01B11/30 , G03F7/20 , G03F7/70633 , H01L23/544 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 一种光刻过程用于形成在横跨衬底的多个部位处分布且具有重叠的周期结构的多个目标结构(92，94)，所述重叠的周期结构具有横跨所述目标结构分布的多个不同的重叠偏置值。所述目标结构中的至少一些包括多个重叠的周期结构(例如光栅)，所述多个重叠的周期结构比所述多个不同的重叠偏置值少。不对称度测量针对于目标结构获得。所检测的不对称度用于确定光刻过程的参数。可以在校正底光栅不对称度的效应和使用横跨衬底的重叠误差的多参数模型的同时计算重叠模型参数，包括平移、放大和旋转。
-
公开(公告)号：CN102636963B
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201210026185.4
申请日：2012-02-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： K·巴哈特塔卡里雅 , A·J·登博夫 , S·C·J·A·凯吉 , P·C·P·瓦诺鹏
CPC classification number: G03F7/70625 , G01B2210/56 , G01N21/956 , G03F7/705 , G03F7/70633
Abstract: 本发明提供一种检查设备和方法、光刻设备、光刻处理单元及器件制造方法。本发明确定衬底上的周期性目标(例如晶片上的光栅)的不对称性质。检查设备具有宽带照射光源，其具有在高数值孔径物镜的光瞳平面内点镜像的照射束。从相对衬底的平面呈镜像反射关系的第二和第一方向经由物镜照射衬底和目标。四方楔形件光学装置分别地改变由衬底散射的辐射的衍射级的方向并且将衍射级与沿第一方向和第二方向中每一个方向的照射分离。例如，对每个入射方向分离零级和第一级。在多模光纤捕获之后，分光计用于测量作为波长(I0′(λ)，I0(λ)，I+1′(λ)以及I-1(λ))的函数的分别被改变方向的衍射级的强度。这可以随后用于计算单个光栅的不对称参数的重构或(堆叠重叠目标光栅的)重叠误差。
-
公开(公告)号：CN104471484A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201380035631.0
申请日：2013-06-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G01B11/27 , G01B11/30 , G03F7/20 , G03F7/70633 , H01L23/544 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 一种光刻过程用于形成在横跨衬底的多个部位处分布且具有重叠的周期结构的多个目标结构(92，94)，所述重叠的周期结构具有横跨所述目标结构分布的多个不同的重叠偏置值。所述目标结构中的至少一些包括多个重叠的周期结构(例如光栅)，所述多个重叠的周期结构比所述多个不同的重叠偏置值少。不对称度测量针对于目标结构获得。所检测的不对称度用于确定光刻过程的参数。可以在校正底光栅不对称度的效应和使用横跨衬底的重叠误差的多参数模型的同时计算重叠模型参数，包括平移、放大和旋转。
-
公开(公告)号：CN103003754B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201180035218.5
申请日：2011-07-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: A01H1/06 , A01G22/00 , C12N15/8201 , G03B27/52 , G03B27/53 , G03F7/705 , G03F7/70633
Abstract: 一种确定重叠误差的方法。测量具有过程引起的不对称性的重叠目标。构造目标的模型。例如通过移动结构中的一个修改模型以补偿不对称性。使用修改的模型计算由不对称性引起的重叠误差。通过从测量的重叠误差中减去由不对称性引起的重叠误差确定产品目标中的重叠误差。在一个示例中，通过改变不对称性p(n′)、p(n″)来修改模型，对多种散射仪测量选配方案重复计算由不对称性引起的重叠误差，确定产品目标中的重叠误差的步骤使用计算的由不对称性引起的重叠误差以选择用于测量产品目标的优化的散射仪测量选配方案。
-
公开(公告)号：CN103003754A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201180035218.5
申请日：2011-07-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: A01H1/06 , A01G22/00 , C12N15/8201 , G03B27/52 , G03B27/53 , G03F7/705 , G03F7/70633
Abstract: 一种确定重叠误差的方法。测量具有过程引起的不对称性的重叠目标。构造目标的模型。例如通过移动结构中的一个修改模型以补偿不对称性。使用修改的模型计算由不对称性引起的重叠误差。通过从测量的重叠误差中减去由不对称性引起的重叠误差确定产品目标中的重叠误差。在一个示例中，通过改变不对称性p(n′)、p(n″)来修改模型，对多种散射仪测量选配方案重复计算由不对称性引起的重叠误差，确定产品目标中的重叠误差的步骤使用计算的由不对称性引起的重叠误差以选择用于测量产品目标的优化的散射仪测量选配方案。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.02 seconds)
