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公开(公告)号：CN105745579A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201480063035.8
申请日：2014-09-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： V·班尼恩 , P·巴特瑞 , R·范格尔库姆 , L·阿门特 , 彼得·德亚格尔 , G·德维里斯 , R·栋克尔 , W·恩格尔伦 , O·弗里基恩斯 , L·格瑞米克 , A·卡塔伦尼克 , E·鲁普斯特拉 , H-K·尼恩惠斯 , A·尼基帕罗夫 , M·瑞肯斯 , F·詹森 , B·克鲁兹卡
CPC分类号： G21K1/067 , G01N2021/95676 , G02B5/1814 , G02B5/1823 , G02B5/1838 , G02B5/1861 , G02B27/0025 , G02B27/0938 , G02B27/10 , G02B27/1086 , G02B27/12 , G02B27/14 , G02B27/142 , G02B27/146 , G02B27/4272 , G03F1/84 , G03F7/70025 , G03F7/70208 , G03F7/70566 , G03F7/70891 , G03F7/70991 , G21K2201/065 , H01S3/0903 , H05H7/04 , G03F7/70008 , G03F7/7005 , G03F7/70091 , G03F7/70158 , G03F7/70166 , G03F7/7065
摘要： 一种在光刻系统内使用的传输系统。所述束传输系统包括光学元件，所述光学元件被布置成接收来自辐射源的辐射束并且沿着一个或多个方向反射辐射的部分以形成用于供给到一个或多个工具的一个或多个分支辐射束。
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公开(公告)号：CN110083019B
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201910106311.9
申请日：2014-09-24
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 本申请公开了一种光学元件、辐射系统及光刻系统。该光学元件包括：主体；反射性表面，所述反射性表面设置于所述主体上以用于接收辐射束以便形成束斑区域和反射的辐射束；和移动机构，所述移动机构能够操作以移动所述主体使得所述束斑区域遵循周期性路径在所述反射性表面上移动，并且所述反射的辐射束的方向实质上保持不变；用于更改所述反射性表面的曲率的变形机构，其中所述变形机构被布置成更改所述反射性表面的所述曲率以便至少部分地校正由入射于所述反射性表面上的所述辐射束所导致的所述反射性表面的曲率。
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公开(公告)号：CN110083019A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201910106311.9
申请日：2014-09-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： V·班尼恩 , P·巴特瑞 , R·范格尔库姆 , L·阿门特 , 彼得·德亚格尔 , G·德维里斯 , R·栋克尔 , W·恩格尔伦 , O·弗里基恩斯 , L·格瑞米克 , A·卡塔伦尼克 , E·鲁普斯特拉 , H-K·尼恩惠斯 , A·尼基帕罗夫 , M·瑞肯斯 , F·詹森 , B·克鲁兹卡
摘要： 本申请公开了一种光学元件、辐射系统及光刻系统。该光学元件包括：主体；反射性表面，所述反射性表面设置于所述主体上以用于接收辐射束以便形成束斑区域和反射的辐射束；和移动机构，所述移动机构能够操作以移动所述主体使得所述束斑区域遵循周期性路径在所述反射性表面上移动，并且所述反射的辐射束的方向实质上保持不变；用于更改所述反射性表面的曲率的变形机构，其中所述变形机构被布置成更改所述反射性表面的所述曲率以便至少部分地校正由入射于所述反射性表面上的所述辐射束所导致的所述反射性表面的曲率。
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公开(公告)号：CN105745579B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201480063035.8
申请日：2014-09-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： V·班尼恩 , P·巴特瑞 , R·范格尔库姆 , L·阿门特 , 彼得·德亚格尔 , G·德维里斯 , R·栋克尔 , W·恩格尔伦 , O·弗里基恩斯 , L·格瑞米克 , A·卡塔伦尼克 , E·鲁普斯特拉 , H-K·尼恩惠斯 , A·尼基帕罗夫 , M·瑞肯斯 , F·詹森 , B·克鲁兹卡
摘要： 一种在光刻系统内使用的传输系统。所述束传输系统包括光学元件，所述光学元件被布置成接收来自辐射源的辐射束并且沿着一个或多个方向反射辐射的部分以形成用于供给到一个或多个工具的一个或多个分支辐射束。
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