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公开(公告)号：CN103827718A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201280045224.3
申请日：2012-09-17
申请人： 佛森技术公司
发明人： D·奇尔德斯
CPC分类号： G21K5/00 , C03C25/12 , F26B3/28 , F26B13/00 , G21K1/067 , G21K2201/064 , G21K2201/065
摘要： 用于UV固化工件比如光纤上的涂层或印刷油墨的装置包括布置为具有共定位焦点的双椭圆反射器。工件在共定位焦点处居中，使得双椭圆反射器被布置在工件的相对侧上。两个单独的光源被放置在每个椭圆反射器的第二焦点处，其中从光源照射的光基本上集中在共定位焦点处的工件表面上。
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公开(公告)号：CN102981201B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201210518419.7
申请日：2009-02-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： W·A·索尔 , V·Y·班尼恩 , J·H·J·莫尔斯 , M·M·J·W·范赫彭 , A·M·亚库林
CPC分类号： G02B5/208 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B5/22 , G02B5/26 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70575 , G03F7/70958 , G21K1/067 , G21K2201/061 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 本申请涉及一种光学元件、包括该光学元件的光刻设备、器件制造方法以及所制造的器件。一种光学元件包括第一层(4)，所述第一层包括第一材料，并配置成对第一波长的辐射是基本上反射的并且对第二波长的辐射是基本上透明的。光学元件包括第二层(2)，所述第二层包括第二材料，并配置成对所述第二波长的辐射是基本上吸收的或透明的。光学元件包括第三层(3)，位于所述第一层和所述第二层之间的所述第三层包括第三材料，并对所述第二波长的辐射是基本上透明的并且配置成减小所述第二波长的辐射从所述第二层的面朝所述第一层的顶部表面的反射。第一层位于入射辐射的光学路径中相对于所述第二层的上游，以便提高所述第一波长的辐射的光谱纯度。
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公开(公告)号：CN102385257B
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201110254363.4
申请日：2011-08-31
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G21K1/06 , G03F7/70175 , G03F7/70891 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 一种收集且传输来自EUV辐射源的辐射的EUV集光器(15)包括：至少一个反射EUV辐射源的发射的集光器反射镜(23)，其被关于中轴(24)旋转对称配置；以及冷却该至少一个集光器反射镜(23)的冷却装置(26)，其中该冷却装置(26)包括至少一个冷却元件(27)，所述冷却元件各自具有关于集光器反射镜(23)的巷道，以使得所述巷道在垂直于中轴(24)的平面内的投影具有主方向，所述主方向和预先确定的优选方向(29)一起包围至多为20°的角度。由集光器(15)传输以用来照明物场的辐射的质量由所述类型的集光器(15)改善。
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公开(公告)号：CN108701502A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680078016.1
申请日：2016-11-03
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·W·H·德贾格 , S·J·比杰尔斯马 , O·W·V·弗吉恩斯 , 安德雷·亚历山德罗维奇·尼基佩洛夫 , N·坦凯特 , A·T·A·M·德克森 , J·J·L·H·维斯帕 , R·G·M·兰斯博根 , A·A·A·卡斯特利根
CPC分类号： G21G1/10 , G21G1/12 , G21G2001/0042 , G21K2201/065
摘要： 一种放射性同位素生产设备(RI)包括被布置成提供电子束(E)电子源。该电子源包括电子注入器(10)和电子加速器(20)。该放射性同位素生产设备(RI)进一步包括：目标支撑结构，其被配置成保持目标(30)；和分束器(40)，其被布置成沿第一路径将该电子束的第一部分引导朝向该目标(30)的第一侧且沿第二路径将该电子束的第二部分引导朝向该目标(30)的第二侧。
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公开(公告)号：CN103337274A
公开(公告)日：2013-10-02
申请号：CN201310190387.7
申请日：2009-10-20
申请人： 应用材料公司
CPC分类号： G21K1/062 , B82Y10/00 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 一种用于紫外线灯的反射器，该紫外线灯可在基材处理设备中使用。该反射器包含在该紫外线灯长度上延伸的纵向带。该纵向带具有一弯曲反射表面并且包含多个通孔以将冷却剂气体导向该紫外线灯。在此亦描述使用具有反射器的紫外线灯模块的腔室以及紫外线处理的方法。
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公开(公告)号：CN1618114A
公开(公告)日：2005-05-18
申请号：CN03802357.1
申请日：2003-06-19
申请人： 佳能株式会社
发明人： 宫岛义一
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G21K1/06 , G02B7/1815 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70891 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 本申请公开了一种反射镜设备、曝光设备以及器件制造方法。在通过反射引导曝光光线的曝光设备中，用在反射光学系统中的反射镜设备具有：一个具有一个反射所述曝光光线的反射表面的反射镜；用于散热冷却的散热板，被设置在离开所述反射镜的外表面的位置。所述散热板的设置确保入射到所述反射表面上并从该反射表面反射的所述曝光光线的通道区域。另外，用流过冷却管的冷却液体对各散热板进行温度控制。这样，可以抑制用在曝光设备的反射光学系统中的反射镜的温度上升，保持反射镜反射面的面形状的精度。
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公开(公告)号：CN105745579A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201480063035.8
申请日：2014-09-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： V·班尼恩 , P·巴特瑞 , R·范格尔库姆 , L·阿门特 , 彼得·德亚格尔 , G·德维里斯 , R·栋克尔 , W·恩格尔伦 , O·弗里基恩斯 , L·格瑞米克 , A·卡塔伦尼克 , E·鲁普斯特拉 , H-K·尼恩惠斯 , A·尼基帕罗夫 , M·瑞肯斯 , F·詹森 , B·克鲁兹卡
CPC分类号： G21K1/067 , G01N2021/95676 , G02B5/1814 , G02B5/1823 , G02B5/1838 , G02B5/1861 , G02B27/0025 , G02B27/0938 , G02B27/10 , G02B27/1086 , G02B27/12 , G02B27/14 , G02B27/142 , G02B27/146 , G02B27/4272 , G03F1/84 , G03F7/70025 , G03F7/70208 , G03F7/70566 , G03F7/70891 , G03F7/70991 , G21K2201/065 , H01S3/0903 , H05H7/04 , G03F7/70008 , G03F7/7005 , G03F7/70091 , G03F7/70158 , G03F7/70166 , G03F7/7065
摘要： 一种在光刻系统内使用的传输系统。所述束传输系统包括光学元件，所述光学元件被布置成接收来自辐射源的辐射束并且沿着一个或多个方向反射辐射的部分以形成用于供给到一个或多个工具的一个或多个分支辐射束。
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公开(公告)号：CN103400627A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201310386155.9
申请日：2009-10-20
申请人： 应用材料公司
CPC分类号： G21K1/062 , B82Y10/00 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 一种用于紫外线灯的反射器，该紫外线灯可在基材处理设备中使用。该反射器包含在该紫外线灯长度上延伸的纵向带。该纵向带具有一弯曲反射表面并且包含数个通孔以将冷却剂气体导向该紫外线灯。在此亦描述使用具有反射器的紫外线灯模块的腔室以及紫外线处理的方法。
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公开(公告)号：CN101960338B
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN200980106463.3
申请日：2009-02-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： W·A·索尔 , V·Y·班尼恩 , J·H·J·莫尔斯 , M·M·J·W·范赫彭 , A·M·亚库林
CPC分类号： G02B5/208 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B5/22 , G02B5/26 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70575 , G03F7/70958 , G21K1/067 , G21K2201/061 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 一种光学元件包括第一层(4)，所述第一层包括第一材料，并配置成对第一波长的辐射是基本上反射的并且对第二波长的辐射是基本上透明的。光学元件包括第二层(2)，所述第二层包括第二材料，并配置成对所述第二波长的辐射是基本上吸收的或透明的。光学元件包括第三层(3)，位于所述第一层和所述第二层之间的所述第三层包括第三材料，并对所述第二波长的辐射是基本上透明的并且配置成减小所述第二波长的辐射从所述第二层的面朝所述第一层的顶部表面的反射。第一层位于入射辐射的光学路径中相对于所述第二层的上游，以便提高所述第一波长的辐射的光谱纯度。
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公开(公告)号：CN102385257A
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN201110254363.4
申请日：2011-08-31
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G21K1/06 , G03F7/70175 , G03F7/70891 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 一种收集且传输来自EUV辐射源的辐射的EUV集光器(15)包括：至少一个反射EUV辐射源的发射的集光器反射镜(23)，其被关于中轴(24)旋转对称配置；以及冷却该至少一个集光器反射镜(23)的冷却装置(26)，其中该冷却装置(26)包括至少一个冷却元件(27)，所述冷却元件各自具有关于集光器反射镜(23)的巷道，以使得所述巷道在垂直于中轴(24)的平面内的投影具有主方向，所述主方向和预先确定的优选方向(29)一起包围至多为20°的角度。由集光器(15)传输以用来照明物场的辐射的质量由所述类型的集光器(15)改善。
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