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    EUV投射光刻的照明系统
    1.
    发明公开
    EUV投射光刻的照明系统 有权

    公开(公告)号：CN105765460A

    公开(公告)日：2016-07-13

    申请号：CN201480063956.4

    申请日：2014-11-21

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： M.帕特拉 ,  R.米勒

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70183 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70991

    摘要： 本发明涉及一种EUV投射光刻的照明系统，包含：光束成形光学单元(6)，用于从基于同步加速器辐射的光源(2)的EUV原始光束(4)产生EUV聚集输出光束(7)。解耦光学单元(8)用于从所述EUV聚集输出光束(7)产生多个EUV单独输出光束(9i)。光束引导光学单元(10)用于在各个情况中引导各EUV单独输出光束(9i)朝向物场(11)，光刻掩模(12)可布置在所述物场中。结果，照明系统高度无损失，并且同时灵活引导基于同步加速器辐射的光源的EUV光。

    一种纳米光刻装置及制备超衍射极限图形的方法
    2.
    发明公开
    一种纳米光刻装置及制备超衍射极限图形的方法 无效 复审申请

    公开(公告)号：CN105549336A

    公开(公告)日：2016-05-04

    申请号：CN201610064552.8

    申请日：2016-01-29

    申请人： 清华大学

    发明人： 刘仿 ,  黄翊东 ,  叶宇 ,  张伟骏 ,  冯雪 ,  崔开宇 ,  张巍

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70125 ,  G03F7/70008 ,  G03F2007/2067

    摘要： 本发明涉及一种纳米光刻装置及制备超衍射极限图形的方法，其中装置包括基底、位于基底之上的下层模板、位于下层模板之上的光刻胶、位于光刻胶之上的上层模板、位于上层模板之上的透光基板和曝光光源；上层模板具有光刻图形，上、下层模板组成光刻掩膜版，其材质均为金属或合金材质，在光刻时上、下层模板形成局域表面等离子体激元结构。本发明利用双层金属/合金光刻掩膜版，能在光刻时形成局域表面等离子体激元模式，制备线宽比光刻掩膜版上的光刻图形更小的超衍射极限复杂光刻图形，同时可以通过改变光刻掩膜版以及周围介质材料、光刻胶的厚度、曝光源波长、控制曝光功率、曝光时间等条件，对超衍射图形的线宽、深宽比进行调控。

    光源装置
    3.
    发明授权
    光源装置 有权 转让

    公开(公告)号：CN101989048B

    公开(公告)日：2014-10-15

    申请号：CN201010237314.5

    申请日：2010-07-23

    申请人： 优志旺电机株式会社 ,  安乃捷科技公司

    发明人： 横田利夫

    IPC分类号： G03F7/20 ,  F21K99/00

    CPC分类号： H01J65/042 ,  G03F7/70008

    摘要： 一种光源装置，能够稳定地维持点亮开始后的高温等离子体状态从而稳定地维持发光，并抑制因发光管的加热引起的点亮寿命降低。向内部封入有发光气体的发光管(1)，从脉冲激光振荡部(21)入射脉冲式激光束，并从连续波激光振荡部(25)入射连续波激光束，以在发光管内两光束重合的方式进行聚光。在点亮开始时，由脉冲式光束形成高温等离子体状态，在形成高温等离子体状态的位置，使比脉冲式光束强度小的连续波光束重合，由此能够稳定地维持高温等离子体状态。此外，由于连续波光束强度较小，因此能够使发光管不被加热而达到长寿命。作为使光束在发光管内聚光的光学单元，可使用例如衍射光学元件(31)、凸透镜、抛物面反射镜等。

    一种多光谱混合波合束光源与曝光机
    5.
    发明公开
    一种多光谱混合波合束光源与曝光机 无效

    公开(公告)号：CN107065448A

    公开(公告)日：2017-08-18

    申请号：CN201710174525.0

    申请日：2017-03-22

    申请人： 深圳市海目星激光科技有限公司

    发明人： 林国栋 ,  张松岭 ,  黄明明

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B27/10

    CPC分类号： G03F7/70008 ,  G02B27/10

    摘要： 本发明涉及光学设备领域，公开了一种多光谱混合波合束光源与曝光机，其中光源包括第一光源、第二光源与光源合束镜，光源合束镜设于第一光源与第二光源所射出的光束的相交处，其可对第一光源射出的第一光束进行折射，以及对第二光源射出的第二光束进行反射，第二光束经反射后沿第一光束前进的方向射出，以与第一光束形成混合光束。本发明通过光源合束镜的折射及反射功能可以获得包含至少两种波长的混合光束，该混合光束在与待曝光玻璃上的油墨反应时能满足曝光工艺中的能量需求，同时混合光束中的各组成光束相互平行，从而可以保证曝光的尺寸精度，达到最佳的固化效果。

    光刻系统
    6.
    发明公开
    光刻系统 有权 转让

    公开(公告)号：CN106094448A

    公开(公告)日：2016-11-09

    申请号：CN201610607707.8

    申请日：2016-07-29

    申请人： 胡煜塨

    发明人： 胡煜塨

    IPC分类号： G03F7/207 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00

    CPC分类号： G03F7/70008 ,  G03F7/70641 ,  G03F9/7026

    摘要： 本申请公开了一种光刻系统，包括光源、以及沿光路方向依次设置的空间光调制器、第一分光器件、双远心光学系统和光刻平台，所述双远心光学系统由沿光路方向依次设置的镜筒透镜和物镜组成，所述镜筒透镜和物镜之间光线为非平行光，所述物镜与调焦装置连接，该调焦装置带动所述物镜移动以实现焦距调节。本发明光刻系统优点至少包括：在主光路中无分光器件，成像质量好；检测系统中全部由成像光学元件组成，检测光斑投射在工件表面的尺寸较大，不容易受到灰尘和颗粒影响；检测系统和调焦系统采用机械切换方式，光路结构简单，操作方便。