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公开(公告)号：CN101606104A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200880004740.5
申请日：2008-02-14
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70858 , G03F7/70883 , G03F7/70983
摘要： 一种用于形成电磁辐射束的设备包括等离子体辐射源(24)和翼片阱(25)，该翼片阱设置有基本上平行于等离子体源(20)的辐射的方向延伸的多个薄翼片(20)。在等离子体辐射源(20)和翼片阱(24)之间设置格栅(22)。在格栅(22)和翼片阱(24)之间设置空间。该设备还包括电势应用电路(28)，其构造并布置成施加电势到格栅(22)上，使得格栅(22)排斥由等离子体辐射源(22)发射的电子并在格栅(20)和翼片阱(24)之间产生正的空间电荷，以使由等离子体辐射源(20)发射的离子偏转到翼片阱(24)。
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公开(公告)号：CN102681362A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210129023.3
申请日：2008-02-14
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70858 , G03F7/70883 , G03F7/70983
摘要： 本发明公开了一种具有等离子体辐射源的设备和形成辐射束的方法以及光刻设备。所述设备包括等离子体辐射源(24)和翼片阱(25)，该翼片阱设置有基本上平行于等离子体源(20)的辐射的方向延伸的多个薄翼片(20)。在等离子体辐射源(20)和翼片阱(24)之间设置格栅(22)。在格栅(22)和翼片阱(24)之间设置空间。该设备还包括电势应用电路(28)，其构造并布置成施加电势到格栅(22)上，使得格栅(22)排斥由等离子体辐射源(22)发射的电子并在格栅(20)和翼片阱(24)之间产生正的空间电荷，以使由等离子体辐射源(20)发射的离子偏转到翼片阱(24)。
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公开(公告)号：CN101606104B
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN200880004740.5
申请日：2008-02-14
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70858 , G03F7/70883 , G03F7/70983
摘要： 一种用于形成电磁辐射束的设备包括等离子体辐射源(24)和翼片阱(25)，该翼片阱设置有基本上平行于等离子体源(20)的辐射的方向延伸的多个薄翼片(20)。在等离子体辐射源(20)和翼片阱(24)之间设置格栅(22)。在格栅(22)和翼片阱(24)之间设置空间。该设备还包括电势应用电路(28)，其构造并布置成施加电势到格栅(22)上，使得格栅(22)排斥由等离子体辐射源(22)发射的电子并在格栅(20)和翼片阱(24)之间产生正的空间电荷，以使由等离子体辐射源(20)发射的离子偏转到翼片阱(24)。
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公开(公告)号：CN101911838A
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200880122902.5
申请日：2008-12-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： Y·V·斯戴尼克夫 , V·Y·班尼恩 , K·N·克什烈夫 , O·W·V·弗吉恩斯 , V·M·克里夫特逊
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/003
摘要： 一种辐射源，所述辐射源被构造且被布置以产生极紫外辐射。所述辐射源包括：腔；第一电极，所述第一电极被至少部分地包含在所述腔中；第二电极，所述第二电极被至少部分地包含在所述腔中；和供给装置，所述供给装置被构造且被布置以提供放电气体至所述腔。所述第一电极和所述第二电极被配置以在所述放电气体中产生放电以形成等离子体，以便产生所述极紫外辐射。所述源还包括气体供给装置，所述气体供给装置被构造且被布置以在靠近所述放电的位置处提供分压在约1Pa和约10Pa之间的气体。所述气体被从由氢气、氦气以及氢气和氦气的混合物组成的组中选出。
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