-
公开(公告)号：CN101013269A
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200710008372.9
申请日：2007-01-29
申请人： ASML荷兰有限公司 , 卡尔蔡司SMT股份公司
发明人： E·R·卢普斯特拉 , A·F·P·恩格伦 , B·A·J·卢蒂克休斯 , M·J·A·鲁宾格 , J·M·A·哈詹伯格 , L·C·乔里特斯马 , J·W·德克勒克 , B·格尤帕特 , P·沙普 , A·A·范比泽科姆 , P·F·W·M·曼迪杰斯 , F·索格 , P·多弗尔
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70308 , G03F7/70825 , G03F7/70933
摘要： 一种光刻装置，在其投影系统的光瞳平面中具有更换光学元件的组件。该光学元件可以是光瞳滤光器，并且可以与中间掩模标准规定的物理尺寸一致，例如具有大体上等于5、6或9英寸的侧边。
-
公开(公告)号：CN101013269B
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200710008372.9
申请日：2007-01-29
申请人： ASML荷兰有限公司 , 卡尔蔡司SMT股份公司
发明人： E·R·卢普斯特拉 , A·F·P·恩格伦 , B·A·J·卢蒂克休斯 , M·J·A·鲁宾格 , J·M·A·哈詹伯格 , L·C·乔里特斯马 , J·W·德克勒克 , B·格尤帕特 , P·沙普 , A·A·范比泽科姆 , P·F·W·M·曼迪杰斯 , F·索格 , P·多弗尔
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70308 , G03F7/70825 , G03F7/70933
摘要： 一种光刻装置，在其投影系统的光瞳平面中具有更换光学元件的组件。该光学元件可以是光瞳滤光器，并且可以与中间掩模标准规定的物理尺寸一致，例如具有大体上等于5、6或9英寸的侧边。
-
公开(公告)号：CN1595300B
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN200410079133.9
申请日：2004-09-09
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·M·芬德什 , J·M·D·斯托伊德赖杰 , J·W·德克勒克
CPC分类号： G03F7/70333 , G03F7/70425
摘要： 公开了一种把掩模(MA)图案的图像曝光到涂有抗蚀剂层的衬底(W)的方法，其中，在开始曝光后及曝光完成前，控制器(100)通过在曝光时改变衬底承载台位置(WT)而在抗蚀剂层的图像中引入受控数量的对比度损失。对比度损失影响光刻投影设备分辨率的间距依赖性，因而把对它的控制用于匹配不同光刻投影设备之间分辨率的间距依赖性。
-
公开(公告)号：CN1595300A
公开(公告)日：2005-03-16
申请号：CN200410079133.9
申请日：2004-09-09
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·M·芬德什 , J·M·D·斯托伊德赖杰 , J·W·德克勒克
CPC分类号： G03F7/70333 , G03F7/70425
摘要： 公开了一种把掩模(MA)图案的图像曝光到涂有抗蚀剂层的衬底(W)的方法，其中，在开始曝光后及曝光完成前，控制器(100)通过在曝光时改变衬底承载台位置(WT)而在抗蚀剂层的图像中引入受控数量的对比度损失。对比度损失影响光刻投影设备分辨率的间距依赖性，因而把对它的控制用于匹配不同光刻投影设备之间分辨率的间距依赖性。
-
-
-
搜索结果
4 条记录 (耗时 0.037 秒)
