公开(公告)号：CN101013269B

公开(公告)日：2011-01-12

申请号：CN200710008372.9

申请日：2007-01-29

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  卡尔蔡司SMT股份公司

发明人： E·R·卢普斯特拉 ,  A·F·P·恩格伦 ,  B·A·J·卢蒂克休斯 ,  M·J·A·鲁宾格 ,  J·M·A·哈詹伯格 ,  L·C·乔里特斯马 ,  J·W·德克勒克 ,  B·格尤帕特 ,  P·沙普 ,  A·A·范比泽科姆 ,  P·F·W·M·曼迪杰斯 ,  F·索格 ,  P·多弗尔

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70308 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70933

摘要： 一种光刻装置，在其投影系统的光瞳平面中具有更换光学元件的组件。该光学元件可以是光瞳滤光器，并且可以与中间掩模标准规定的物理尺寸一致，例如具有大体上等于5、6或9英寸的侧边。

公开(公告)号：CN101013269A

公开(公告)日：2007-08-08

申请号：CN200710008372.9

申请日：2007-01-29

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  卡尔蔡司SMT股份公司

发明人： E·R·卢普斯特拉 ,  A·F·P·恩格伦 ,  B·A·J·卢蒂克休斯 ,  M·J·A·鲁宾格 ,  J·M·A·哈詹伯格 ,  L·C·乔里特斯马 ,  J·W·德克勒克 ,  B·格尤帕特 ,  P·沙普 ,  A·A·范比泽科姆 ,  P·F·W·M·曼迪杰斯 ,  F·索格 ,  P·多弗尔

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70308 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70933

摘要： 一种光刻装置，在其投影系统的光瞳平面中具有更换光学元件的组件。该光学元件可以是光瞳滤光器，并且可以与中间掩模标准规定的物理尺寸一致，例如具有大体上等于5、6或9英寸的侧边。

公开(公告)号：CN1987662B

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：CN200610170159.3

申请日：2006-12-22

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： E·R·卢普斯特拉 ,  B·A·J·卢蒂克休斯

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70741 ,  G03F7/70733

摘要： 一种光刻装置，包括配置成调节辐射光束的照明系统，将构图部件支撑在投影平面中的构图部件支撑件，该构图部件对辐射光束构图，保持基底的基底台；将图形化光束投影到基底上的投影系统，和交换装置，该交换装置用于在投影过程中与保持可交换对象的可交换对象支撑件交换可交换对象。该交换装置包括装载单元和卸载单元，每一装载单元和卸载单元都具有保持可交换对象的保持装置。该保持装置大体上彼此相邻地定位并配置成使可交换对象保持在与一平面大体上平行的平面中，其中可交换对象在投影过程中保持在可交换对象支撑件中。该可交换对象支撑件与每一保持装置交换可交换对象。

公开(公告)号：CN101071276B

公开(公告)日：2011-12-14

申请号：CN200710102990.X

申请日：2007-05-08

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： B·A·J·卢蒂克休斯 ,  H·H·M·科克斯 ,  E·R·卢普斯特拉 ,  E·A·F·范德帕施 ,  H·K·范德舒特

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03B27/53 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775

摘要： 提供了一种具体用于测量光刻设备中衬底台相对于基准标架的位移的位移测量系统。该位移测量系统包括安装到衬底台的多个位移传感器以及与每个位移传感器相关联的、安装到基准标架上的目标。

公开(公告)号：CN101071276A

公开(公告)日：2007-11-14

申请号：CN200710102990.X

申请日：2007-05-08

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： B·A·J·卢蒂克休斯 ,  H·H·M·科克斯 ,  E·R·卢普斯特拉 ,  E·A·F·范德帕施 ,  H·K·范德舒特

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03B27/53 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775

摘要： 提供了一种具体用于测量光刻设备中衬底台相对于基准标架的位移的位移测量系统。该位移测量系统包括安装到衬底台的多个位移传感器以及与每个位移传感器相关联的、安装到基准标架上的目标。

公开(公告)号：CN101030042B

公开(公告)日：2012-01-25

申请号：CN200710084419.X

申请日：2007-03-02

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： B·A·J·卢蒂克休斯 ,  E·A·F·范德帕施 ,  Y·J·G·范德威杰弗 ,  R·范德哈姆 ,  N·J·J·罗塞特 ,  K·J·博沙尔特

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/00

CPC分类号： G03F7/70858 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70908

摘要： 本发明公开了一种光刻装置，包括：参考框架；和测量系统，用来测量该光刻装置的第一部件相对于参考框架的位置和移动中的至少一个，该测量系统包括：靶子、辐射源和传感器，其中，该第一部件包括至少一个气体出口，构造成使得当向气体出口供气时，传播至靶子的辐射束和从靶子传播到传感器的辐射束中的至少一个所经过的空间体积基本上被来自至少一个气体出口的气流所包围，其中位于光刻装置外部的气体源连接至该光刻装置的第二部件，且第一和第二部件构造成可在这两个部件之间提供无接触的气流连接。

公开(公告)号：CN101021691A

公开(公告)日：2007-08-22

申请号：CN200710005707.1

申请日：2007-02-13

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： B·A·J·卢蒂克休斯 ,  E·R·卢普斯特拉 ,  H·K·范德肖特 ,  F·M·雅格布斯

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70783

摘要： 在第一侧使用第一夹持装置，在不同于第一侧的第二侧使用第二夹持装置来夹持光刻设备中的掩模。优选使用薄膜片施加夹持力。第一夹具沿平行于构图装置的平面的方向、垂直于构图装置的平面的方向并可旋转地夹持衬底。第二夹持装置仅沿平行于衬底的平面的方向夹持构图装置。

公开(公告)号：CN101021691B

公开(公告)日：2010-11-17

申请号：CN200710005707.1

申请日：2007-02-13

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： B·A·J·卢蒂克休斯 ,  E·R·卢普斯特拉 ,  H·K·范德肖特 ,  F·M·雅格布斯

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70783

摘要： 在第一侧使用第一夹持装置，在不同于第一侧的第二侧使用第二夹持装置来夹持光刻设备中的掩模。优选使用薄膜片施加夹持力。第一夹具沿平行于构图装置的平面的方向、垂直于构图装置的平面的方向并可旋转地夹持衬底。第二夹持装置仅沿平行于衬底的平面的方向夹持构图装置。

公开(公告)号：CN101030042A

公开(公告)日：2007-09-05

申请号：CN200710084419.X

申请日：2007-03-02

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： B·A·J·卢蒂克休斯 ,  E·A·F·范德帕施 ,  Y·J·G·范德威杰弗 ,  R·范德哈姆 ,  N·J·J·罗塞特 ,  K·J·博沙尔特

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/00

CPC分类号： G03F7/70858 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70908

摘要： 一种光刻装置包括测量系统，用来测量基底支撑件相对于参考框架的位置和/或移动。该测量系统包括：靶子，其安装在该部件和参考框架中的一个上；辐射源，其安装在该部件和参考框架中的另一个上；和传感器，用来检测从靶子传播出的辐射的图案，所述图案指示了该基底支撑件的位置或移动。该基底支撑件包括用来提供气流的一个或多个气体出口，该气流包围了该辐射束传播至靶子所经过的空间体积。

公开(公告)号：CN1987662A

公开(公告)日：2007-06-27

申请号：CN200610170159.3

申请日：2006-12-22

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： E·R·卢普斯特拉 ,  B·A·J·卢蒂克休斯

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70741 ,  G03F7/70733

摘要： 一种光刻装置，包括配置成调节辐射光束的照明系统，将构图部件支撑在投影平面中的构图部件支撑件，该构图部件对辐射光束构图，保持基底的基底台；将图形化光束投影到基底上的投影系统，和交换装置，该交换装置用于在投影过程中与保持可交换对象的可交换对象支撑件交换可交换对象。该交换装置包括装载单元和卸载单元，每一装载单元和卸载单元都具有保持可交换对象的保持装置。该保持装置大体上彼此相邻地定位并配置成使可交换对象保持在与一平面大体上平行的平面中，其中可交换对象在投影过程中保持在可交换对象支撑件中。该可交换对象支撑件与每一保持装置交换可交换对象。