公开(公告)号：CN104995563B

公开(公告)日：2017-04-05

申请号：CN201480009319.9

申请日：2014-02-20

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

发明人： K·库依皮尔斯 ,  M·H·德安德里德奥利维拉 ,  M·J·莱米 ,  C·辛夫 ,  L·J·A·凡鲍克霍文 ,  H·A·J·W·范德文 ,  J·N·小方塞卡 ,  F·J·J·鲍克斯泰尔 ,  D·N·伯班克 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  约翰内斯·昂伍李 ,  M·J·舒斯特尔 ,  R·N·J·范巴莱高吉 ,  C·C·沃德 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70866

摘要： 本发明公开了一种用于通过控制光刻设备的图案形成装置周围的气流来减小重叠误差的系统。所述光刻设备包括照射系统，所述照射系统被配置为调节辐射束。所述光刻设备还包括可移动台，所述可移动台包括支撑结构，所述支撑结构可以被配置为支撑图案形成装置。所述图案形成装置可以被配置为在辐射束的横截面内将图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束。此外，所述光刻设备包括板(410)，所述板定位在可移动台(401)和投影系统(208)之间。所述板包括开口(411)，所述开口包括第一侧壁(411a)和第二侧壁(411b)。所述板可以被配置为在可移动台和投影系统之间的区域内提供气流图形(424)，所述气流图形基本上垂直于所述照射系统的光轴。

公开(公告)号：CN104995563A

公开(公告)日：2015-10-21

申请号：CN201480009319.9

申请日：2014-02-20

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

发明人： K·库依皮尔斯 ,  M·H·德安德里德奥利维拉 ,  M·J·莱米 ,  C·辛夫 ,  L·J·A·凡鲍克霍文 ,  H·A·J·W·范德文 ,  J·N·小方塞卡 ,  F·J·J·鲍克斯泰尔 ,  D·N·伯班克 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  约翰内斯·昂伍李 ,  M·J·舒斯特尔 ,  R·N·J·范巴莱高吉 ,  C·C·沃德 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70866

摘要： 本发明公开了一种用于通过控制光刻设备的图案形成装置周围的气流来减小重叠误差的系统。所述光刻设备包括照射系统，所述照射系统被配置为调节辐射束。所述光刻设备还包括可移动台，所述可移动台包括支撑结构，所述支撑结构可以被配置为支撑图案形成装置。所述图案形成装置可以被配置为在辐射束的横截面内将图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束。此外，所述光刻设备包括板(410)，所述板定位在可移动台(401)和投影系统(208)之间。所述板包括开口(411)，所述开口包括第一侧壁(411a)和第二侧壁(411b)。所述板可以被配置为在可移动台和投影系统之间的区域内提供气流图形(424)，所述气流图形基本上垂直于所述照射系统的光轴。

公开(公告)号：CN111480120B

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN201880080924.3

申请日：2018-11-22

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： F·拉托雷 ,  L·J·A·凡鲍克霍文 ,  J·N·小方塞卡 ,  G·彼得斯 ,  E·H·E·C·奥姆梅伦 ,  F·J·J·范鲍克斯台尔

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 公开了一种用于光刻设备的系统，包括：可移动的平台，包括配置成支撑图案形成装置的支撑结构；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；和板，定位在可移动的平台和投影系统之间；板包括：第一表面，面对可移动的平台；第二表面，面对投影系统；开口，通过板以使得图案化的辐射束传递通过开口，其中开口至少具有从第一表面延伸至第二表面的第一侧和第二侧；在开口的第一侧中的一个或更多个气体出口和在板的第一表面中的一个或更多个气体出口，其中气体出口配置成使得气体经由气体出口被供应至可移动的平台和投影系统之间的区；在开口的第二侧中的一个或更多个气体入口，其中气体入口配置成使得气体经由气体入口从可移动的平台和投影系统之间的区中被抽取出来；和板的第一表面中的一个或更多个气体出口中的所有气体出口都定位和配置成使得对于一个或更多个气体出口中的每个气体出口，既正交于第一表面又与气体出口相交的线在图案形成装置的整个范围的移动期间在任何点处都不与图案形成装置相交。有利地，重叠误差低于利用已知的技术所实现的重叠误差。

公开(公告)号：CN111480120A

公开(公告)日：2020-07-31

申请号：CN201880080924.3

申请日：2018-11-22

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： F·拉托雷 ,  L·J·A·凡鲍克霍文 ,  J·N·小方塞卡 ,  G·彼得斯 ,  E·H·E·C·奥姆梅伦 ,  F·J·J·范鲍克斯台尔

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 公开了一种光刻设备包括：可移动的平台，包括配置成支撑图案形成装置的支撑结构；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；和板，定位在可移动的平台和投影系统之间；板包括：第一表面，面对可移动的平台；第二表面，面对投影系统；开口，通过板以使得图案化的辐射束传递通过开口，其中开口至少具有从第一表面延伸至第二表面的第一侧和第二侧；在开口的第一侧中的一个或更多个气体出口和在板的第一表面中的一个或更多个气体出口，其中气体出口配置成使得气体经由气体出口被供应至可移动的平台和投影系统之间的区；在开口的第二侧中的一个或更多个气体入口，其中气体入口配置成使得气体经由气体入口从可移动的平台和投影系统之间的区中被抽取出来；和板的第一表面中的一个或更多个气体出口中的所有气体出口都定位和配置成使得对于一个或更多个气体出口中的每个气体出口，既正交于第一表面又与气体出口相交的线在图案形成装置的整个范围的移动期间在任何点处都不与图案形成装置相交。有利地，重叠误差低于利用已知的技术所实现的重叠误差。