公开(公告)号：CN104995563B

公开(公告)日：2017-04-05

申请号：CN201480009319.9

申请日：2014-02-20

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

发明人： K·库依皮尔斯 ,  M·H·德安德里德奥利维拉 ,  M·J·莱米 ,  C·辛夫 ,  L·J·A·凡鲍克霍文 ,  H·A·J·W·范德文 ,  J·N·小方塞卡 ,  F·J·J·鲍克斯泰尔 ,  D·N·伯班克 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  约翰内斯·昂伍李 ,  M·J·舒斯特尔 ,  R·N·J·范巴莱高吉 ,  C·C·沃德 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70866

摘要： 本发明公开了一种用于通过控制光刻设备的图案形成装置周围的气流来减小重叠误差的系统。所述光刻设备包括照射系统，所述照射系统被配置为调节辐射束。所述光刻设备还包括可移动台，所述可移动台包括支撑结构，所述支撑结构可以被配置为支撑图案形成装置。所述图案形成装置可以被配置为在辐射束的横截面内将图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束。此外，所述光刻设备包括板(410)，所述板定位在可移动台(401)和投影系统(208)之间。所述板包括开口(411)，所述开口包括第一侧壁(411a)和第二侧壁(411b)。所述板可以被配置为在可移动台和投影系统之间的区域内提供气流图形(424)，所述气流图形基本上垂直于所述照射系统的光轴。

公开(公告)号：CN104995563A

公开(公告)日：2015-10-21

申请号：CN201480009319.9

申请日：2014-02-20

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

发明人： K·库依皮尔斯 ,  M·H·德安德里德奥利维拉 ,  M·J·莱米 ,  C·辛夫 ,  L·J·A·凡鲍克霍文 ,  H·A·J·W·范德文 ,  J·N·小方塞卡 ,  F·J·J·鲍克斯泰尔 ,  D·N·伯班克 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  约翰内斯·昂伍李 ,  M·J·舒斯特尔 ,  R·N·J·范巴莱高吉 ,  C·C·沃德 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70866

摘要： 本发明公开了一种用于通过控制光刻设备的图案形成装置周围的气流来减小重叠误差的系统。所述光刻设备包括照射系统，所述照射系统被配置为调节辐射束。所述光刻设备还包括可移动台，所述可移动台包括支撑结构，所述支撑结构可以被配置为支撑图案形成装置。所述图案形成装置可以被配置为在辐射束的横截面内将图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束。此外，所述光刻设备包括板(410)，所述板定位在可移动台(401)和投影系统(208)之间。所述板包括开口(411)，所述开口包括第一侧壁(411a)和第二侧壁(411b)。所述板可以被配置为在可移动台和投影系统之间的区域内提供气流图形(424)，所述气流图形基本上垂直于所述照射系统的光轴。

公开(公告)号：CN106873312B

公开(公告)日：2019-09-06

申请号：CN201610987008.0

申请日：2013-03-19

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： T·劳伦特 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  H·考克 ,  Y·范德维基维尔 ,  J·范德瓦尔 ,  B·克拿伦 ,  R·J·伍德 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯 ,  H·范德里基德特 ,  E·库伊克尔 ,  W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 ,  Y·B·Y·特莱特

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本发明提供了一种用于浸没光刻设备中的传感器、光刻设备和使用浸没光刻设备的器件制造方法。所述传感器包括构件，在传感器的使用过程中所述构件接触供给至与投影系统的最终元件相邻的空间的浸没液体；变换器，配置成将刺激转换为电信号；温度调节装置，配置成使用由冷却剂供给装置所供给的热传递介质进行所述变换器的温度调节；和控制器，配置成控制所述温度调节装置以主动地控制所述变换器的温度。

公开(公告)号：CN104321702B

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：CN201380026160.7

申请日：2013-03-19

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： T·劳伦特 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  H·考克 ,  Y·范德维基维尔 ,  J·范德瓦尔 ,  B·克拿伦 ,  R·J·伍德 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯 ,  H·范德里基德特 ,  E·库伊克尔 ,  W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 ,  Y·B·Y·特莱特

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70666 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70891

摘要： 一种用于浸没类型的光刻设备中的传感器(100)，其在使用时接触浸没液体(11)，布置成使得从传感器的变换器(104)至温度调节装置(107)的第一热流路径的热阻小于从变换器至浸没液体的第二热流路径的热阻。因此，热流更倾向于流向温度调节装置而不是浸没液体，使得能够减小或最小化浸没液体中的温度引发的扰动。

公开(公告)号：CN106537256B

公开(公告)日：2019-12-27

申请号：CN201580038638.7

申请日：2015-06-08

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： G·纳齐博格鲁 ,  F·J·J·范鲍克斯台尔 ,  T·P·H·沃马丹 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯 ,  J·P·科洛斯

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 一种光刻设备，包括：具有光轴(O)的投影系统(PS)；具有环境气体的外壳(EN)；及容纳于所述外壳中的物理部件(WT)，其中：所述光刻设备配置用于使所述物理部件沿预定方向(SC)且在垂直于所述光轴的平面内经历相对于所述外壳的移动；所述光刻设备配置用于使所述物理部件在移动期间维持相对于外壳的预定取向；所述移动引起了相对于部件的环境气体的流；所述物理部件具有取向成垂直于所述光轴的第一表面(1)；所述部件包括配置用于引导所述环境气体的流远离所述第一表面的流引导系统。

公开(公告)号：CN107300835A

公开(公告)日：2017-10-27

申请号：CN201710354580.8

申请日：2013-04-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·H·W·雅各布斯 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/7095 ,  H01L21/67103

摘要： 本发明公开了一种热调节单元(100)，用以热调节光刻设备中的衬底(W)，所述热调节单元包括：热调节元件(200)，所述热调节元件包括第一层(210)、第二层(220)、定位在第一层和第二层之间的热传递部件(230)以及用于在其上定位衬底的突起(260)，第一层在使用时面对衬底并且包括具有100W/mK或更大的热导率的材料；和加强构件(110)，所述加强构件比热调节元件硬并且配置成支撑热调节元件以便减小其机械变形，其中所述热调节元件与所述加强构件是热隔离的。

公开(公告)号：CN104321702A

公开(公告)日：2015-01-28

申请号：CN201380026160.7

申请日：2013-03-19

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： T·劳伦特 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  H·考克 ,  Y·范德维基维尔 ,  J·范德瓦尔 ,  B·克拿伦 ,  R·J·伍德 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯 ,  H·范德里基德特 ,  E·库伊克尔 ,  W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 ,  Y·B·Y·特莱特

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70666 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70891

摘要： 一种用于浸没类型的光刻设备中的传感器(100)，其在使用时接触浸没液体(11)，布置成使得从传感器的变换器(104)至温度调节装置(107)的第一热流路径的热阻小于从变换器至浸没液体的第二热流路径的热阻。因此，热流更倾向于流向温度调节装置而不是浸没液体，使得能够减小或最小化浸没液体中的温度引发的扰动。

公开(公告)号：CN114450637A

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN202080067333.X

申请日：2020-09-08

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： R·J·E·海曼斯 ,  G·范德瓦斯特拉顿 ,  I·范德瓦哈伦 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 公开了一种用于EUV光刻设备的辐射源。辐射源包括：腔室，包括等离子体形成区域；辐射收集器，被布置在腔室中，被配置成收集在等离子体形成区域发射的辐射并将所收集的辐射引向中间焦点区域；以及辐射管道，设置在辐射收集器和中间焦点区域之间。辐射管道包括：在辐射管道的壁的内表面上的用于引导保护性气流的至少一个出口，以及从辐射管道的壁的内表面延伸并且被配置成重新引导保护性气流的至少一个引导部分。还公开了一种通过将保护性气流提供到辐射管道的至少一个出口来减少辐射管道中的碎片和/或蒸汽沉积的方法。

公开(公告)号：CN106537256A

公开(公告)日：2017-03-22

申请号：CN201580038638.7

申请日：2015-06-08

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： G·纳齐博格鲁 ,  F·J·J·范鲍克斯台尔 ,  T·P·H·沃马丹 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯 ,  J·P·科洛斯

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 一种光刻设备，包括：具有光轴(O)的投影系统(PS)；具有环境气体的外壳(EN)；及容纳于所述外壳中的物理部件(WT)，其中：所述光刻设备配置用于使所述物理部件沿预定方向(SC)且在垂直于所述光轴的平面内经历相对于所述外壳的移动；所述光刻设备配置用于使所述物理部件在移动期间维持相对于外壳的预定取向；所述移动引起了相对于部件的环境气体的流；所述物理部件具有取向成垂直于所述光轴的第一表面的流远离所述第一表面的流引导系统。(1)；所述部件包括配置用于引导所述环境气体

公开(公告)号：CN103091999B

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201210413077.2

申请日：2012-10-25

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·S·C·维斯特尔拉肯 ,  R·詹森 ,  E·弗乐尔特

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70875

摘要： 一种光刻设备，包括：衬底台，构造用以保持衬底；隔间，用于放置衬底台；热调节单元，布置成接纳将要被曝光的衬底和热调节衬底；和转移系统，用于将热调节后的衬底转移至衬底台，其中至少在将热调节后的衬底从热调节单元转移至衬底台期间所述衬底台和热调节单元布置在光刻设备的隔间内部。