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公开(公告)号：CN107111248A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580071474.8
申请日：2015-12-02
申请人： ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
发明人： T·本图里诺 , G·舒尔茨 , D·N·加尔布勒特 , D·N·伯班克 , S·E·德尔皮于尔特 , H·沃格尔 , 约翰内斯·昂伍李 , L·J·A·凡鲍克霍文 , C·C·沃德
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种通过供应非均匀的气流冷却图案形成装置的设备、系统和方法。该设备和系统包括供应横跨图案形成装置的第一表面的气流的气体供应结构。该气体供应结构包括专门配置成用于产生非均匀气流分布的气体供应喷嘴。将较大体积或速度的气流引导至该图案形成装置的期望部分。
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公开(公告)号：CN106164778B
公开(公告)日：2018-02-09
申请号：CN201580019619.X
申请日：2015-03-05
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： 拜尔拉克·摩艾斯特 , P·A·戴尔马斯特罗 , 约翰内斯·昂伍李 , A·M·范德维伦 , C·C·沃德
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70616 , G01B11/14 , G03F7/70058 , G03F7/70775 , G03F7/70783 , G03F7/70875
摘要： 为确定图案形成装置的变形和/或图案形成装置的偏移位置提供了一种系统和方法。所述系统包括：第一感测子系统，所述第一感测子系统测量图案形成装置上的多个参考标记的各自的位置；和第二感测子系统，所述第二感测子系统测量图案形成装置的边缘相对于支撑件的位置。所述系统还包括控制器，所述控制器用以：基于图案形成装置上的标记的测量的各自的位置确定图案化部分的绝对位置和绝对位置的改变，基于测量的边缘位置确定图案形成装置的边缘的相对位置的改变，和估计在一时间段上图案形成装置相对于支撑件的位置的改变和图案形成装置的图案化部分的图案畸变的改变。
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公开(公告)号：CN115427787A
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN202180028075.9
申请日：2021-04-01
申请人： ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
发明人： M·E·帕洛斯基 , A·本迪克塞 , 克里斯托弗·迈克尔·多汉 , 约翰内斯·昂伍李
IPC分类号： G01N21/25 , G01N21/47 , G01N21/94 , G01N21/956 , G03F1/84 , G03F7/20 , G01N21/88 , G01N21/95
摘要： 提供了一种检查系统、光刻设备和检查方法。照射检查系统包括照射系统、检测系统和处理电路。照射系统生成宽带束，并且用照射宽带照射束照射物体的表面。照射宽带束具有连续光谱范围。照射检测系统接收在照射表面处散射的辐射和由照射表面附近的结构散射的辐射。照射检测系统基于对照射宽带照射束的光学响应来生成检测信号。照射处理电路分析照射检测信号。照射处理电路基于照射分析来区分伪信号和对应于照射表面上的缺陷的信号。照射伪信号在照射连续光谱范围的至少一部分被减弱。
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公开(公告)号：CN104995563B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201480009319.9
申请日：2014-02-20
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： K·库依皮尔斯 , M·H·德安德里德奥利维拉 , M·J·莱米 , C·辛夫 , L·J·A·凡鲍克霍文 , H·A·J·W·范德文 , J·N·小方塞卡 , F·J·J·鲍克斯泰尔 , D·N·伯班克 , E·R·鲁普斯特拉 , 约翰内斯·昂伍李 , M·J·舒斯特尔 , R·N·J·范巴莱高吉 , C·C·沃德 , J·S·C·维斯特尔拉肯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70358 , G03F7/70633 , G03F7/70725 , G03F7/70866
摘要： 本发明公开了一种用于通过控制光刻设备的图案形成装置周围的气流来减小重叠误差的系统。所述光刻设备包括照射系统，所述照射系统被配置为调节辐射束。所述光刻设备还包括可移动台，所述可移动台包括支撑结构，所述支撑结构可以被配置为支撑图案形成装置。所述图案形成装置可以被配置为在辐射束的横截面内将图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束。此外，所述光刻设备包括板(410)，所述板定位在可移动台(401)和投影系统(208)之间。所述板包括开口(411)，所述开口包括第一侧壁(411a)和第二侧壁(411b)。所述板可以被配置为在可移动台和投影系统之间的区域内提供气流图形(424)，所述气流图形基本上垂直于所述照射系统的光轴。
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公开(公告)号：CN106164778A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201580019619.X
申请日：2015-03-05
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： 拜尔拉克·摩艾斯特 , P·A·戴尔马斯特罗 , 约翰内斯·昂伍李 , A·M·范德维伦 , C·C·沃德
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70616 , G01B11/14 , G03F7/70058 , G03F7/70775 , G03F7/70783 , G03F7/70875
摘要： 为确定图案形成装置的变形和/或图案形成装置的偏移位置提供了一种系统和方法。所述系统包括：第一感测子系统，所述第一感测子系统测量图案形成装置上的多个参考标记的各自的位置；和第二感测子系统，所述第二感测子系统测量图案形成装置的边缘相对于支撑件的位置。所述系统还包括控制器，所述控制器用以：基于图案形成装置上的标记的测量的各自的位置确定图案化部分的绝对位置和绝对位置的改变，基于测量的边缘位置确定图案形成装置的边缘的相对位置的改变，和估计在一时间段上图案形成装置相对于支撑件的位置的改变和图案形成装置的图案化部分的图案畸变的改变。
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公开(公告)号：CN107111248B
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201580071474.8
申请日：2015-12-02
申请人： ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
发明人： T·本图里诺 , G·舒尔茨 , D·N·加尔布勒特 , D·N·伯班克 , S·E·德尔皮于尔特 , H·沃格尔 , 约翰内斯·昂伍李 , L·J·A·凡鲍克霍文 , C·C·沃德
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种通过供应非均匀的气流冷却图案形成装置的设备、系统和方法。该设备和系统包括供应横跨图案形成装置的第一表面的气流的气体供应结构。该气体供应结构包括专门配置成用于产生非均匀气流分布的气体供应喷嘴。将较大体积或速度的气流引导至该图案形成装置的期望部分。
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公开(公告)号：CN104995563A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201480009319.9
申请日：2014-02-20
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： K·库依皮尔斯 , M·H·德安德里德奥利维拉 , M·J·莱米 , C·辛夫 , L·J·A·凡鲍克霍文 , H·A·J·W·范德文 , J·N·小方塞卡 , F·J·J·鲍克斯泰尔 , D·N·伯班克 , E·R·鲁普斯特拉 , 约翰内斯·昂伍李 , M·J·舒斯特尔 , R·N·J·范巴莱高吉 , C·C·沃德 , J·S·C·维斯特尔拉肯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70358 , G03F7/70633 , G03F7/70725 , G03F7/70866
摘要： 本发明公开了一种用于通过控制光刻设备的图案形成装置周围的气流来减小重叠误差的系统。所述光刻设备包括照射系统，所述照射系统被配置为调节辐射束。所述光刻设备还包括可移动台，所述可移动台包括支撑结构，所述支撑结构可以被配置为支撑图案形成装置。所述图案形成装置可以被配置为在辐射束的横截面内将图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束。此外，所述光刻设备包括板(410)，所述板定位在可移动台(401)和投影系统(208)之间。所述板包括开口(411)，所述开口包括第一侧壁(411a)和第二侧壁(411b)。所述板可以被配置为在可移动台和投影系统之间的区域内提供气流图形(424)，所述气流图形基本上垂直于所述照射系统的光轴。
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公开(公告)号：CN102834777B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201180018434.9
申请日：2011-02-18
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/704 , G03F7/70391
摘要： 本发明涉及一种光刻设备，包括构造成保持衬底(928)的衬底台(902)和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列可以包括配置成提供多个辐射束的可编程图案形成装置，和配置成将多个束投影到衬底上的投影系统。所述设备可以设置有致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的一部分(924、930)。所述光学装置列可以布置成经由所述投影系统中的多个透镜中的同一透镜将所述多个束中的至少两个束投影到衬底的目标部分上。
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公开(公告)号：CN102770811B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201180010632.0
申请日：2011-02-18
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70516 , G03F7/70558
摘要： 本发明涉及一种光刻设备，包括：光学装置列，能够在衬底的目标部分上生成图案。光学装置列可以设置有配置成发射束的自发射式对比度装置以及配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述设备可以设置有致动器，所述致动器用于相对于所述衬底移动光学装置列或其一部分。设置光学传感器装置，所述光学传感器装置相对于光学装置列是可移动的且具有能够使得所述光学传感器装置(936)移动通过光学装置列中的每个光学装置列的投影区域(940)的移动范围以测量光学装置列中的每个光学装置列的束。
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公开(公告)号：CN102763041B
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201180010292.1
申请日：2011-02-18
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/704 , G03F7/70383 , G03F7/70391
摘要： 公开了一种光刻设备，包括光学装置列，配置成将束投影到衬底的目标部分上。聚焦控制器被设置成控制光学装置列相对于参考物体的聚焦位置(906、920、924、930)，其中聚焦控制器包括聚焦测量装置(942)和聚焦致动器，聚焦测量装置配置成确定参考物体(938)上的聚焦品质，聚焦致动器配置成基于已确定的聚焦品质调整光学装置列的聚焦位置。
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