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公开(公告)号：CN108368640A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201580079657.4
申请日：2015-05-21
申请人： EV , 集团 , E·索尔纳有限责任公司
CPC分类号： G03F7/0002 , C30B23/04 , C30B25/04 , H01L21/02381 , H01L21/0242 , H01L21/02433 , H01L21/02439 , H01L21/02521 , H01L21/02642 , H01L21/02647
摘要： 本发明涉及一种将掩蔽的过生长层(14)施加至晶种层(2)上以用于生产半导体组件的方法，其特征在于将用于掩蔽所述过生长层(14)的掩模(6)压印至所述晶种层(2)上。
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公开(公告)号：CN112445064A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202011230126.X
申请日：2014-04-22
申请人： EV , 集团 , E·索尔纳有限责任公司
发明人： G.克赖因德尔
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 本发明涉及用于将纳米结构（13）从纳米结构压模（5）压印到施加到基体（7）上的、能够硬化的材料（8）的压模面（14）中的方法，具有下列步骤、尤其下列过程：相对于所述压模面（14）对齐所述纳米结构（13），通过如下方式压印所述压模面（14）：A）通过所述纳米结构压模（5）的变形来预紧所述纳米结构压模（5）和/或通过所述基体（7）的变形来预紧所述基体（7），B）所述压模面（14）的部分面（15）与所述纳米结构压模（5）接触，以及C）至少部分地、尤其主要地，通过预紧所述纳米结构压模（5）和/或预紧所述基体（7）自动接触所述其余面（16）。
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公开(公告)号：CN106462053B
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201480078179.0
申请日：2014-04-22
申请人： EV , 集团 , E·索尔纳有限责任公司
发明人： G.克赖因德尔
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 本发明涉及用于将纳米结构（13）从纳米结构压模（5）压印到施加到基体（7）上的、能够硬化的材料（8）的压模面（14）中的方法，具有下列步骤、尤其下列过程：相对于所述压模面（14）对齐所述纳米结构（13），通过如下方式压印所述压模面（14）A）通过所述纳米结构压模（5）的变形来预紧所述纳米结构压模（5）和/或通过所述基体（7）的变形来预紧所述基体（7），B）所述压模面（14）的部分面（15）与所述纳米结构压模（5）接触，以及C）至少部分地、尤其主要地，通过预紧所述纳米结构压模（5）和/或预紧所述基体（7）自动接触所述其余面（16）。
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公开(公告)号：CN112445066A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202011231500.8
申请日：2014-04-22
申请人： EV , 集团 , E·索尔纳有限责任公司
发明人： G.克赖因德尔
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 本发明涉及用于将纳米结构（13）从纳米结构压模（5）压印到施加到基体（7）上的、能够硬化的材料（8）的压模面（14）中的方法，具有下列步骤、尤其下列过程：相对于所述压模面（14）对齐所述纳米结构（13），通过如下方式压印所述压模面（14）：A）通过所述纳米结构压模（5）的变形来预紧所述纳米结构压模（5）和/或通过所述基体（7）的变形来预紧所述基体（7），B）所述压模面（14）的部分面（15）与所述纳米结构压模（5）接触，以及C）至少部分地、尤其主要地，通过预紧所述纳米结构压模（5）和/或预紧所述基体（7）自动接触所述其余面（16）。
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公开(公告)号：CN110908238A
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201911023472.8
申请日：2012-09-06
申请人： EV , 集团 , E·索尔纳有限责任公司
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 本发明涉及结构印模(5)，带有：具有微结构化和/或纳米结构化的印模面(2)的柔性印模(1)，印模面(2)用于将与印模面(2)对应的压印结构压印在压印面(6o)上；框架(3)，其用于夹紧印模(1)。此外，本发明涉及用于将压印图案压印在压印面()上的装置，带有以下特征：印模容纳部，其用于容纳根据上述权利要求中任一项所述的结构印模(5)且使之运动；压印材料容纳部，其用于相对于结构印模(5)容纳和布置压印材料(6)；压印元件驱动部，其用于使尤其根据权利要求3、4、7或8中任一项构造的压印元件(8)沿着结构印模(5)运动。此外，本发明涉及对应的方法。
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公开(公告)号：CN110874012A
公开(公告)日：2020-03-10
申请号：CN201911023469.6
申请日：2012-09-06
申请人： EV , 集团 , E·索尔纳有限责任公司
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 本发明涉及结构印模(5)，带有：具有微结构化和/或纳米结构化的印模面(2)的柔性印模(1)，印模面(2)用于将与印模面(2)对应的压印结构压印在压印面(6o)上；框架(3)，其用于夹紧印模(1)。此外，本发明涉及用于将压印图案压印在压印面()上的装置，带有以下特征：印模容纳部，其用于容纳根据上述权利要求中任一项所述的结构印模(5)且使之运动；压印材料容纳部，其用于相对于结构印模(5)容纳和布置压印材料(6)；压印元件驱动部，其用于使尤其根据权利要求3、4、7或8中任一项构造的压印元件(8)沿着结构印模(5)运动。此外，本发明涉及对应的方法。
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公开(公告)号：CN106715346A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201580048730.1
申请日：2015-08-27
申请人： EV 集团 E·索尔纳有限责任公司
摘要： 提出了一种用于制造光学玻璃元件（13）的方法，具有以下工艺顺序：a）在压印印模（1）上施加液态压印料（4），b）在小于500℃的温度下压印所述压印料（4），c）硬化所述压印料（4），d）烧结所述压印料（4,4’）和由此使所述光学玻璃元件（13）初步成形。所述压印料可具有以下组分之一：多面体低聚硅倍半氧烷POSS、聚二甲基硅氧烷PDMS、原硅酸四乙酯TEOS或聚(有机)硅氧烷硅酮。此外，提出了一种用该方法制造的光学玻璃元件，一种用于实施该方法的装置以及该装置的用途。
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公开(公告)号：CN104704425A
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201280074370.9
申请日：2012-09-06
申请人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 本发明涉及结构印模(5)，带有：具有微结构化和/或纳米结构化的印模面(2)的柔性印模(1)，印模面(2)用于将与印模面(2)对应的压印结构压印在压印面(6o)上；框架(3)，其用于夹紧印模(1)。此外，本发明涉及用于将压印图案压印在压印面()上的装置，带有以下特征：印模容纳部，其用于容纳根据上述权利要求中任一项所述的结构印模(5)且使之运动；压印材料容纳部，其用于相对于结构印模(5)容纳和布置压印材料(6)；压印元件驱动部，其用于使尤其根据权利要求3、4、7或8中任一项构造的压印元件(8)沿着结构印模(5)运动。此外，本发明涉及对应的方法。
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公开(公告)号：CN106715346B
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201580048730.1
申请日：2015-08-27
申请人： EV , 集团 , E·索尔纳有限责任公司
摘要： 提出了一种用于制造光学玻璃元件（13）的方法，具有以下工艺顺序：a）在压印印模（1）上施加液态压印料（4），b）在小于500℃的温度下压印所述压印料（4），c）硬化所述压印料（4），d）烧结所述压印料（4,4’）和由此使所述光学玻璃元件（13）初步成形。所述压印料可具有以下组分之一：多面体低聚硅倍半氧烷POSS、聚二甲基硅氧烷PDMS、原硅酸四乙酯TEOS或聚(有机)硅氧烷硅酮。此外，提出了一种用该方法制造的光学玻璃元件，一种用于实施该方法的装置以及该装置的用途。
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公开(公告)号：CN104704425B
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201280074370.9
申请日：2012-09-06
申请人： EV , 集团 , E·索尔纳有限责任公司
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 本发明涉及结构印模(5)，带有：具有微结构化和/或纳米结构化的印模面(2)的柔性印模(1)，印模面(2)用于将与印模面(2)对应的压印结构压印在压印面(6o)上；框架(3)，其用于夹紧印模(1)。此外，本发明涉及用于将压印图案压印在压印面(6o)上的装置，带有以下特征：印模容纳部，其用于容纳根据上述权利要求中任一项所述的结构印模(5)且使之运动；压印材料容纳部，其用于相对于结构印模(5)容纳和布置压印材料(6)；压印元件驱动部，其用于使尤其根据权利要求3、4、7或8中任一项构造的压印元件(8)沿着结构印模(5)运动。此外，本发明涉及对应的方法。
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