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    用于像点曝光的方法和设备
    1.
    发明公开
    用于像点曝光的方法和设备 审中-实审

    公开(公告)号：CN118672074A

    公开(公告)日：2024-09-20

    申请号：CN202410927426.5

    申请日：2018-06-19

    申请人： EV 集团 E·索尔纳有限责任公司

    发明人： B·塔尔纳 ,  B·波瓦扎伊

    IPC分类号： G03F7/20

    摘要： 本发明涉及一种用于借助于光学系统对在基板上的由光敏材料(18)组成的光敏层(19)的像点(1)进行曝光的方法，该方法具有以下特征：‑使像点(1)相对于光学系统连续移动，‑借助于光学系统针对每个像点(1)的单曝光来单个地控制多个次级光束(16)，其方式是将次级光束(16)要么转入至开启状态中要么转入至关闭状态中，其中a)次级光束(16)在开启状态中引起分配给相应的次级光束(16)的像点(1)的单曝光，并且b)次级光束(16)在关闭状态中不引起分配给相应的次级光束(16)的像点(1)的单曝光，‑其中为了产生具有灰色调的像点(1)，由不同的次级光束(16)以单剂量D执行n>1次单曝光，其中每个像点(1)的灰色调G由单剂量D的总和来定义。此外，本发明涉及一种对应的设备。

    用于接合至少三个衬底的方法
    5.
    发明授权
    用于接合至少三个衬底的方法 有权

    公开(公告)号：CN110383446B

    公开(公告)日：2024-07-16

    申请号：CN201780087843.1

    申请日：2017-03-16

    申请人： EV 集团 E·索尔纳有限责任公司

    发明人： T.格林斯内 ,  T.瓦根莱特内 ,  H.扎格迈尔

    IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/68

    摘要： 本发明涉及用于将至少三个衬底（4o，4u，4，4'，4''，4'''，4o'）接合为衬底堆叠（9,9'，9''）的方法，其中所述衬底堆叠（9，9'，9''）具有至少一个最下面的衬底（4u，4）、中间衬底（4o，4'）和上衬底（4o'，4''），具有以下步骤：‑将所述中间衬底（4o，4'）对准到所述最下面的衬底（4u，4）并且将所述中间衬底（4o，4'）与所述最下面的衬底（4u，4）接合，‑然后将所述上衬底（4o'，4''）对准并且将所述上衬底（4o'，4''）与所述中间衬底（4o，4）接合，其特征在于，将所述上衬底（4o'，4''）对准到所述最下面的衬底（4u，4）。