公开(公告)号：CN101594955A

公开(公告)日：2009-12-02

申请号：CN200880002255.4

申请日：2008-01-15

Applicant: H.C.施塔克公司

Inventor： P·库马 ,  C·B·伍德 ,  G·罗扎克 ,  S·A·米勒 ,  G·泽曼 ,  R·-C·R·吴

IPC: B22F3/10 ,  B22F3/04

CPC classification number: C23C14/3414 ,  B22F3/1017 ,  B22F2003/241 ,  B22F2003/247 ,  B22F2998/10 ,  C22C1/045 ,  B22F3/04 ,  B22F3/24

Abstract: 本发明涉及通过压制/烧结处理生产高密度难熔金属产品的方法。本发明还涉及生产溅射靶的方法以及由此生产的溅射靶。