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公开(公告)号：CN101713071B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN200910204996.7
申请日：2009-09-29
Applicant: H.C.施塔克公司
CPC classification number: B22F1/0044 , B22F2998/00 , C22C2200/04 , Y10T428/12028 , B22F3/115 , B22F7/04
Abstract: 制备整体金属结构的方法以及由该方法制备的结构。通过一种方法生产由亚微米级晶粒尺寸构成的三维大金属结构，该方法包括将超声粉末喷射流导向基材，使得粉末粘附在基材和其自身上，形成致密的粘着沉积物。粉末喷射流可由难熔金属粉末组成。可通过超声喷射流沉积粉末，并通过等径角挤压法挤压。
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公开(公告)号：CN101522342B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200780036469.9
申请日：2007-10-03
Applicant: H.C.施塔克公司
IPC: B22F1/00
CPC classification number: B22F1/0088 , B05D1/12 , B05D2401/32 , B22F1/0085 , B22F2999/00 , C23C24/04 , B22F2201/10 , B22F2202/13 , B22F9/20
Abstract: 本发明涉及用于制备纯度至少高达起始粉末的纯度、氧含量等于或小于10ppm的金属粉末的方法，所述方法包括在惰性气氛中、在1-10-7巴的压力下加热以氧化物形式总共含有50-3000ppm氧的所述金属粉末至其中的氧化物变得热力学不稳定的温度，通过挥发除去产生的氧。所述金属粉末优选自钽、铌、钼、铪、锆、钛、钒、铼和钨。本发明还涉及通过所述方法生产的粉末以及这些粉末在冷喷涂工艺中的应用。
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公开(公告)号：CN101287857A
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200680015339.2
申请日：2006-04-28
Applicant: H.C.施塔克有限公司 , H.C.施塔克公司
CPC classification number: H01J35/108 , B22F7/08 , C23C14/3414 , C23C24/04 , H01J35/08 , H01J2235/081 , H01J2235/083 , H01J2235/085 , Y10T29/4902
Abstract: 公开了一种再加工或生产溅射靶或X－射线阳极的方法，其中，气流与选自铌、钽、钨、钼、钛、锆、它们中的两种或多种的混合物、以及它们中的至少两种的合金或它们与其它金属的合金的粉末材料形成气体/粉末混合物，所述粉末的粒度为0.5－150μm，其中，将超音速赋予所述气流，并将超音速的喷射口导向要再加工或生产的物体的表面。
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公开(公告)号：CN101057000A
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：CN200580037265.8
申请日：2005-08-29
Applicant: H.C.施塔克公司
Inventor： B·勒蒙 , J·希尔特 , T·威维林 , J·G·戴利三世 , D·米恩德林 , G·罗扎克 , J·奥格拉迪 , P·R·杰普森 , P·库马 , S·A·米勒 , 吴荣祯 , D·G·施沃茨
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F1/0003 , B22F3/16 , B22F3/162 , B22F3/24 , B22F5/006 , B22F2003/248 , B22F2301/20 , B22F2998/00 , B22F2998/10 , C21D8/0221 , C21D8/0247 , C22C1/045 , C22C27/04 , C22F1/18 , C23C14/14 , C23C14/3478 , C23C14/3485 , C23C14/35 , C23C14/46 , B22F3/172 , B22F3/20 , B22F3/04 , B22F3/10
Abstract: 特征在于没有或具有最少织构条带或全厚度梯度的钼溅射靶和烧结。钼溅射靶具有细的均匀晶粒尺寸以及均匀织构，高纯度，并可被微合金化以提高性能。溅射靶可为圆盘、方形、矩形或管状，并可被溅射在衬底上形成薄膜。通过使用形成段的方法，溅射靶的尺寸可最大为6m×5.5m。薄膜可用在电子元件中，如薄膜晶体管－液晶显示器、等离子显示板、有机发光二极管、无机发光二极管显示器、场致发射显示器、太阳能电池、传感器、半导体器件和具有可调选出功的CMOS(互补金属氧化物半导体)用栅器件。
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公开(公告)号：CN101713071A
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200910204996.7
申请日：2009-09-29
Applicant: H.C.施塔克公司
CPC classification number: B22F1/0044 , B22F2998/00 , C22C2200/04 , Y10T428/12028 , B22F3/115 , B22F7/04
Abstract: 制备整体金属结构的方法以及由该方法制备的结构。通过一种方法生产由亚微米级晶粒尺寸构成的三维大金属结构，该方法包括将超声粉末喷射流导向基材，使得粉末粘附在基材和其自身上，形成致密的粘着沉积物。粉末喷射流可由难熔金属粉末组成。可通过超声喷射流沉积粉末，并通过等径角挤压法挤压。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105593406B
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201480054142.4
申请日：2014-07-31
Applicant: H.C.施塔克公司
Inventor： S·A·米勒
CPC classification number: C23C14/3414 , C23C24/04 , H01J37/3417 , H01J37/3426 , H01J2237/081 , H01J2237/332
Abstract: 在各种实施方案中，通过喷涂沉积靶材的颗粒以至少部分填充某些区域(例如，最深侵蚀的区域)而在其他侵蚀区域(例如，更少侵蚀的区域)内没有喷涂沉积来部分地翻新侵蚀溅射靶。在溅射性能(例如，溅射速率)和/或溅射膜的性能没有实质性改变的情况下，部分地翻新的溅射靶可以在部分翻新后溅射。
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公开(公告)号：CN101594955A
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200880002255.4
申请日：2008-01-15
Applicant: H.C.施塔克公司
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F3/1017 , B22F2003/241 , B22F2003/247 , B22F2998/10 , C22C1/045 , B22F3/04 , B22F3/24
Abstract: 本发明涉及通过压制/烧结处理生产高密度难熔金属产品的方法。本发明还涉及生产溅射靶的方法以及由此生产的溅射靶。
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公开(公告)号：CN101287857B
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200680015339.2
申请日：2006-04-28
Applicant: H.C.施塔克有限公司 , H.C.施塔克公司
CPC classification number: H01J35/108 , B22F7/08 , C23C14/3414 , C23C24/04 , H01J35/08 , H01J2235/081 , H01J2235/083 , H01J2235/085 , Y10T29/4902
Abstract: 公开了一种再加工或生产溅射靶或X-射线阳极的方法，其中，气流与选自铌、钽、钨、钼、钛、锆、它们中的两种或多种的混合物、以及它们中的至少两种的合金或它们与其它金属的合金的粉末材料形成气体/粉末混合物，所述粉末的粒度为0.5-150μm，其中，将超音速赋予所述气流，并将超音速的喷射口导向要再加工或生产的物体的表面。
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公开(公告)号：CN105593406A
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201480054142.4
申请日：2014-07-31
Applicant: H.C.施塔克公司
Inventor： S·A·米勒
CPC classification number: C23C14/3414 , C23C24/04 , H01J37/3417 , H01J37/3426 , H01J2237/081 , H01J2237/332
Abstract: 在各种实施方案中，通过喷涂沉积靶材的颗粒以至少部分填充某些区域(例如，最深侵蚀的区域)而在其他侵蚀区域(例如，更少侵蚀的区域)内没有喷涂沉积来部分地翻新侵蚀溅射靶。在溅射性能(例如，溅射速率)和/或溅射膜的性能没有实质性改变的情况下，部分地翻新的溅射靶可以在部分翻新后溅射。
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公开(公告)号：CN101368262B
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：CN200810213705.6
申请日：2006-04-28
Applicant: H.C.施塔克有限公司 , H.C.施塔克公司
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J35/108 , B22F7/08 , C23C14/3414 , C23C24/04 , H01J35/08 , H01J2235/081 , H01J2235/083 , H01J2235/085 , Y10T29/4902
Abstract: 本发明公开了一种向表面施加涂层的方法，其中，气流与选自铌、钽、钨、钼、钛、锆、它们中的至少两种的混合物、或者它们中的至少两种的合金或它们与其它金属的合金的粉末材料形成气体-粉末混合物，所述粉末的粒度为0.5-150μm，其中，将超音速赋予所述气流，并将该超音速的喷射口导向物体的表面。
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