公开(公告)号：CN101360576A

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：CN200680038682.9

申请日：2006-10-16

Applicant: H.C.施塔克公司

Inventor： M·E·盖多斯 ,  P·库马 ,  S·米勒 ,  N·C·米尔斯 ,  G·罗扎克 ,  J·A·希尔茨 ,  R·R·吴

IPC: B22F3/15 ,  B22F7/06 ,  B23K20/02 ,  C22C1/04 ,  C23C14/34

CPC classification number: C23C14/3414 ,  B22F3/15 ,  B22F2998/00 ,  B22F2998/10 ,  C22C1/045 ,  B22F5/006 ,  B22F1/0003 ,  B22F3/02 ,  B22F3/1208 ,  B22F3/04

Abstract: 本发明提供了钼钛溅射靶。一方面，所述靶基本上不含β(Ti，Mo)合金相。另一方面，所述靶基本上由单相β(Ti，Mo)合金组成。在这两种情况下，溅射过程中的微粒排放减少。本发明还提供了制备所述靶的方法，将靶接合起来制造大面积溅射靶的方法，以及由所述靶制造的膜。