公开(公告)号：CN101031597B

公开(公告)日：2010-04-14

申请号：CN200580033001.5

申请日：2005-09-28

申请人： JSR株式会社

发明人： 千叶隆 ,  木村彻 ,  宇高友广 ,  中川大树 ,  榊原宏和 ,  堂河内宽

IPC分类号： C08F220/10 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  C08F220/38 ,  C08F228/00 ,  G03F7/2041

摘要： 本发明形成一种上层膜，其不与光致抗蚀剂膜引起互混，可在抗蚀剂上形成覆膜，不溶出于浸液曝光时的介质而能维持稳定覆膜，进而，在施实非浸液曝光的干式曝光时不造成图案形状劣化，且容易溶解于碱显影液。其特征为含有至少一种选自具有下述式(1)表示的基团的重复单元、具有下述式(2)表示的基团的重复单元、及具有羧基的重复单元中的重复单元(I)、与具有磺基的重复单元(II)，通过凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为2,000-100,000。式中，R1及R2的至少一方为碳数1-4的氟化烷基；式(2)中，R3为碳数1-20的氟化烷基。