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公开(公告)号：CN104425796B
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201410393680.8
申请日：2014-08-12
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种可得到具有稳定的充放电循环特性且充放电容量大的电极的电极材料的制造方法。该电极材料的制造方法包括将具有含硅单元和不含硅单元的聚合物加热的工序。
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公开(公告)号：CN1760240B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200510119986.5
申请日：2005-10-14
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 一种具有抛光层的抛光垫，该抛光层具有特定的组成并且在30℃的储存弹性模量与在60℃的储存弹性模量的比为2-15，在30℃的储存弹性模量与在90℃的储存弹性模量的比为4-20，其由聚氨酯或聚氨酯-脲制成。该抛光垫抑制了对被抛光的表面的刮擦并且有效地将表面平面化。具有含有水溶性颗粒的抛光层的抛光垫可以实现较高的去除速率。
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公开(公告)号：CN1539598A
公开(公告)日：2004-10-27
申请号：CN200410043041.5
申请日：2004-04-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: B24B37/04 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种抛光垫和一种生产该抛光垫的方法，该抛光垫在抛光过程中甚至在磨光后，显示出优异的抛光稳定性和优异的浆液保持性，能够有效地防止抛光速率的减少，并且对于待抛光基质来说，也具有优异的压平性能。该方法包含将水溶性微粒如β－环糊精分散到交联剂如聚丙烯乙二醇中，以获得分散体，将分散体与多异氰酸酯如4，4‘－二苯基甲烷二异氰酸酯和或末端为异氰酸酯的尿烷预聚物混合，使混合溶液反应，以获得具有水溶性微粒分散在聚合物基质中的抛光垫。
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公开(公告)号：CN105390296A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510543497.6
申请日：2015-08-28
IPC: H01G11/32 , H01G11/22 , H01G11/50 , H01M4/133 , H01M10/0525
Abstract: 本发明提供一种电极材料，其可以形成低温下的内部电阻低且在充电状态保持时产生的气体量少的蓄电设备。本发明涉及电极材料、电极和蓄电设备，该电极材料含有碳材料，在100ml/分钟的空气气流中，以升温速度5℃/分钟进行热重量分析时，相对于升温前减少20％重量的温度为650℃以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1701919A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510072918.8
申请日：2005-05-24
Applicant: JSR株式会社
IPC: B24B37/04 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/26
Abstract: 本发明提供一种化学机械研磨用垫，其适合应用在金属膜的研磨及绝缘膜的研磨中，可以得到平坦的研磨面，同时可以有效地除去浆料，具有足够长的寿命，可以提供高的研磨速度，且具有降低刮痕的效果。所述研磨垫的特征在于，在研磨面上具有槽，该槽设置在研磨面上，使自研磨面的中心部向周边部的一条假想直线和槽形成多次交叉，槽宽在0.1～1.5mm的范围，槽深在0.9～9.8mm的范围，与上述假想直线交叉的邻接交叉点间的最小距离在0.3～2.0mm的范围，并且上述槽深相对该研磨垫的厚度的比值为1/7～1/1.1的范围。
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公开(公告)号：CN105390296B
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201510543497.6
申请日：2015-08-28
IPC: H01G11/32 , H01G11/22 , H01G11/50 , H01M4/133 , H01M10/0525
Abstract: 本发明提供一种电极材料，其可以形成低温下的内部电阻低且在充电状态保持时产生的气体量少的蓄电设备。本发明涉及电极材料、电极和蓄电设备，该电极材料含有碳材料，在100ml/分钟的空气气流中，以升温速度5℃/分钟进行热重量分析时，相对于升温前减少20％重量的温度为650℃以下。
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公开(公告)号：CN104425796A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410393680.8
申请日：2014-08-12
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: H01G11/86 , H01G11/06 , H01G11/38 , H01G11/50 , H01M4/04 , H01M4/0471 , H01M4/13 , H01M4/364 , H01M4/386 , H01M4/583 , H01M4/587 , H01M4/60 , H01M4/602 , Y02E60/13
Abstract: 本发明提供一种可得到具有稳定的充放电循环特性且充放电容量大的电极的电极材料的制造方法。该电极材料的制造方法包括将具有含硅单元和不含硅单元的聚合物加热的工序。
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公开(公告)号：CN100579727C
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200410043041.5
申请日：2004-04-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: B24B37/04 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种抛光垫和一种生产该抛光垫的方法，该抛光垫在抛光过程中甚至在磨光后，显示出优异的抛光稳定性和优异的浆液保持性，能够有效地防止抛光速率的减少，并且对于待抛光基质来说，也具有优异的压平性能。该方法包含将水溶性微粒如β-环糊精分散到交联剂如聚丙烯乙二醇中，以获得分散体，将分散体与多异氰酸酯如4，4‘-二苯基甲烷二异氰酸酯和/或末端为异氰酸酯的尿烷预聚物混合，使混合溶液反应，以获得具有水溶性微粒分散在聚合物基质中的抛光垫。
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公开(公告)号：CN1760240A
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN200510119986.5
申请日：2005-10-14
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 一种具有抛光层的抛光垫，该抛光层具有特定的组成并且在30℃的储存弹性模量与在60℃的储存弹性模量的比为2－15，在30℃的储存弹性模量与在90℃的储存弹性模量的比为4－20，其由聚氨酯或聚氨酯－脲制成。该抛光垫抑制了对被抛光的表面的刮擦并且有效地将表面平面化。具有含有水溶性颗粒的抛光层的抛光垫可以实现较高的去除速率。
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