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公开(公告)号：CN103777837A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201310746147.0
申请日：2010-02-08
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G06F3/045 , H01L31/0224
CPC classification number: H05K1/0296 , C23F1/02 , G03F7/40 , G06F3/045 , G06F2203/04103 , H01L31/022425 , H05K3/0079 , H05K3/061 , H05K3/10 , H05K2203/0108 , H05K2203/0143 , H05K2203/0537 , H05K2203/0571 , H05K2203/1105 , H05K2203/1184 , Y02E10/50 , Y10T29/49155 , Y10T29/49156
Abstract: 本发明提供了一种制造导电图形的方法，以及用该方法制造的导电图形。所述方法包括以下步骤：a）在基板上形成导电膜；b）在所述导电膜上形成抗蚀图形；以及c）通过使用抗蚀图形来过度蚀刻导电膜从而形成导电图形，该导电图形的线宽比抗蚀图形的窄。根据本发明的示例性实施例，能够有效且低成本地提供具有超细线宽的导电图形。
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公开(公告)号：CN102308365A
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN201080007007.6
申请日：2010-02-08
Applicant: LG化学株式会社
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H05K1/0296 , C23F1/02 , G03F7/40 , G06F3/045 , G06F2203/04103 , H01L31/022425 , H05K3/0079 , H05K3/061 , H05K3/10 , H05K2203/0108 , H05K2203/0143 , H05K2203/0537 , H05K2203/0571 , H05K2203/1105 , H05K2203/1184 , Y02E10/50 , Y10T29/49155 , Y10T29/49156
Abstract: 本发明提供了一种制造导电图形的方法，以及用该方法制造的导电图形。所述方法包括以下步骤：a)在基板上形成导电膜；b)在所述导电膜上形成抗蚀图形；以及c)通过使用抗蚀图形来过度蚀刻导电膜从而形成导电图形，该导电图形的线宽比抗蚀图形的窄。根据本发明的示例性实施例，能够有效且低成本地提供具有超细线宽的导电图形。
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公开(公告)号：CN103777837B
公开(公告)日：2017-12-08
申请号：CN201310746147.0
申请日：2010-02-08
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G06F3/045 , H01L31/0224
CPC classification number: H05K1/0296 , C23F1/02 , G03F7/40 , G06F3/045 , G06F2203/04103 , H01L31/022425 , H05K3/0079 , H05K3/061 , H05K3/10 , H05K2203/0108 , H05K2203/0143 , H05K2203/0537 , H05K2203/0571 , H05K2203/1105 , H05K2203/1184 , Y02E10/50 , Y10T29/49155 , Y10T29/49156
Abstract: 本发明提供了一种制造导电图形的方法，以及用该方法制造的导电图形。所述方法包括以下步骤：a）在基板上形成导电膜；b）在所述导电膜上形成抗蚀图形；以及c）通过使用抗蚀图形来过度蚀刻导电膜从而形成导电图形，该导电图形的线宽比抗蚀图形的窄。根据本发明的示例性实施例，能够有效且低成本地提供具有超细线宽的导电图形。
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公开(公告)号：CN103189932A
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201180051664.5
申请日：2011-12-29
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: H01B13/34 , G02F1/13439 , G06F3/041 , G06F2203/04103 , H01B5/00
Abstract: 本发明涉及一种电极及其制备方法，其中，所述电极包括：辅助电极，其具有导电图案；和主电极，其形成在所述辅助电极的至少一部分上且与所述辅助电极电连接。
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公开(公告)号：CN101454872B
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN200780019163.2
申请日：2007-05-25
Applicant: LG化学株式会社
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/425
Abstract: 本发明涉及一种光刻胶剥离剂组合物、用该光刻胶剥离剂组合物剥离光刻胶的方法以及制备液晶显示器或半导体器件的方法。在剥离工艺和剥离光刻剂的已知步骤中，该光刻胶剥离剂组合物能够在短时间内在低温下彻底剥离由于过度的光刻工艺造成的变性的光刻胶膜，即使仅通过水而非异丙醇作为中间冲洗溶液进行冲洗也不破坏光刻胶下部的导电膜或绝缘膜，并且其对光刻胶下部的导电金属膜或绝缘膜具有极佳的缓蚀能力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103460303B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201280015520.9
申请日：2012-03-28
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: H05K1/0274 , G06F3/041 , G06F2203/04103 , H05K1/09 , H05K3/002 , H05K3/06 , H05K3/10 , H05K3/285 , H05K7/02 , H05K2201/2054 , Y10T29/49155
Abstract: 本发明提供了一种导电结构以及包括所述导电结构的触控面板及其制造方法，所述导电结构包括：a)基体；b)在所述基体的至少一面上设置的导电图形；和c)设置在所述导电图形的上表面和下表面上、设置在所述导电图形的侧面的至少部分上以及设置在对应于导电图形的区域中的暗化层。
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公开(公告)号：CN102308366B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201080007008.0
申请日：2010-02-08
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G06F3/041 , H01L21/027 , G02B5/28
CPC classification number: G06F3/041 , G06F3/044 , G06F3/045 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112 , H05K3/061 , H05K3/4611
Abstract: 本发明提供了一种制备触摸屏的方法和用该方法制备的触摸屏，所述方法包括如下步骤：a)在基板上形成导电层；b)在所述导电层上形成防蚀图案；和c)通过使用所述防蚀图案经过度蚀刻所述导电层形成线宽小于所述防蚀图案的线宽的导电图案。根据本发明，可以经济和有效率地提供包含具有超细线宽的导电图案的触摸屏。
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公开(公告)号：CN103460303A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280015520.9
申请日：2012-03-28
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: H05K1/0274 , G06F3/041 , G06F2203/04103 , H05K1/09 , H05K3/002 , H05K3/06 , H05K3/10 , H05K3/285 , H05K7/02 , H05K2201/2054 , Y10T29/49155
Abstract: 本发明提供了一种导电结构以及包括所述导电结构的触控面板及其制造方法，所述导电结构包括：a)基体；b)在所述基体的至少一面上设置的导电图形；和c)设置在所述导电图形的上表面和下表面上、设置在所述导电图形的侧面的至少部分上以及设置在对应于导电图形的区域中的暗化层。
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公开(公告)号：CN102308366A
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN201080007008.0
申请日：2010-02-08
Applicant: LG化学株式会社
IPC: H01L21/027 , G06F3/041 , G02B5/28
CPC classification number: G06F3/041 , G06F3/044 , G06F3/045 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112 , H05K3/061 , H05K3/4611
Abstract: 本发明提供了一种制备触摸屏的方法和用该方法制备的触摸屏，所述方法包括如下步骤：a)在基板上形成导电层；b)在所述导电层上形成防蚀图案；和c)通过使用所述防蚀图案经过度蚀刻所述导电层形成线宽小于所述防蚀图案的线宽的导电图案。根据本发明，可以经济和有效率地提供包含具有超细线宽的导电图案的触摸屏。
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公开(公告)号：CN101454872A
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200780019163.2
申请日：2007-05-25
Applicant: LG化学株式会社
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/425
Abstract: 本发明涉及一种光刻胶剥离剂组合物。在剥离工艺和剥离光刻剂的已知步骤中，该光刻胶剥离剂组合物能够在短时间内在低温下彻底剥离由于过度的光刻工艺造成的变性的光刻胶膜，即使仅通过水而非异丙醇作为中间冲洗溶液进行冲洗也不破坏光刻胶下部的导电膜或绝缘膜，并且其对光刻胶下部的导电金属膜或绝缘膜具有极佳的缓蚀能力。
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