蚀刻用组合物及利用其的半导体器件的制备方法

    公开(公告)号:CN110021527B

    公开(公告)日:2024-03-15

    申请号:CN201811547804.8

    申请日:2018-12-18

    申请人: OCI有限公司

    IPC分类号: H01L21/311

    摘要: 本发明涉及蚀刻用组合物及利用其的半导体器件的制备方法。本发明涉及包含由下列化学式1表示的氨基‑硅氧烷化合物及溶剂的蚀刻用组合物,本发明的蚀刻用组合物可将氧化膜的蚀刻率最小化,而且可以选择性地除去氮化膜,对抑制对器件特性产生坏影响的微粒的产生其效果卓越。化学式1:#imgabs0#

    黄磷的提纯方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105731402B

    公开(公告)日:2018-04-24

    申请号:CN201510957512.1

    申请日:2015-12-17

    申请人: OCI有限公司

    IPC分类号: C01B25/047

    CPC分类号: C01B25/047

    摘要: 本发明涉及黄磷的提纯方法,具体地涉及如下方法,上述方法包括:在黄磷中放入氧化剂进行搅拌,来从黄磷去除杂质的步骤;以及在已去除上述杂质的黄磷中放入包含具有化学式结构内特定官能团的添加剂的溶液进行搅拌,来去除杂质的步骤,从而从用作磷酸的原料的黄磷有效地去除杂质来提高磷酸的纯度。

    氮化硅膜蚀刻溶液
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107573940A

    公开(公告)日:2018-01-12

    申请号:CN201710533301.4

    申请日:2017-07-03

    申请人: OCI有限公司

    IPC分类号: C09K13/08

    摘要: 本发明涉及氮化硅膜蚀刻溶液,上述氮化硅膜蚀刻溶液同时包含:第一硅烷化合物,硅原子与三个以上的亲水性官能团独立地相结合;第二硅烷化合物,硅原子与一个或两个亲水性官能团独立地相结合。

    蚀刻用组合物及利用其的半导体器件的制备方法

    公开(公告)号:CN110021527A

    公开(公告)日:2019-07-16

    申请号:CN201811547804.8

    申请日:2018-12-18

    申请人: OCI有限公司

    IPC分类号: H01L21/311

    摘要: 本发明涉及蚀刻用组合物及利用其的半导体器件的制备方法。本发明涉及包含由下列化学式1表示的氨基-硅氧烷化合物及溶剂的蚀刻用组合物,本发明的蚀刻用组合物可将氧化膜的蚀刻率最小化,而且可以选择性地除去氮化膜,对抑制对器件特性产生坏影响的微粒的产生其效果卓越。化学式1:

    磷酸溶液内金属离子的去除方法

    公开(公告)号:CN105314612B

    公开(公告)日:2018-05-08

    申请号:CN201510429080.7

    申请日:2015-07-20

    申请人: OCI有限公司

    发明人: 韩承弦 张郁

    IPC分类号: C01B25/238

    CPC分类号: C01B25/238 B01J39/05

    摘要: 本发明涉及磷酸溶液内金属离子的去除方法,具体地涉及如下方法,上述方法包括:向酸溶液通入离子交换树脂来将离子交换树脂活性化的步骤;在树脂塔填充活性化的上述离子交换树脂,并用超纯水清洗的步骤;以及向清洗的上述离子交换树脂通入磷酸溶液的步骤,可去除存在于磷酸溶液内的氧化数为2~7的金属离子,使其各浓度小于100ppb。

    黄磷的提纯方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105731402A

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201510957512.1

    申请日:2015-12-17

    申请人: OCI有限公司

    IPC分类号: C01B25/047

    CPC分类号: C01B25/047 C01P2006/80

    摘要: 本发明涉及黄磷的提纯方法,具体地涉及如下方法,上述方法包括:在黄磷中放入氧化剂进行搅拌,来从黄磷去除杂质的步骤;以及在已去除上述杂质的黄磷中放入包含具有化学式结构内特定官能团的添加剂的溶液进行搅拌,来去除杂质的步骤,从而从用作磷酸的原料的黄磷有效地去除杂质来提高磷酸的纯度。

    磷酸溶液内金属离子的去除方法

    公开(公告)号:CN105314612A

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:CN201510429080.7

    申请日:2015-07-20

    申请人: OCI有限公司

    发明人: 韩承弦 张郁

    IPC分类号: C01B25/238

    CPC分类号: C01B25/238 B01J39/05

    摘要: 本发明涉及磷酸溶液内金属离子的去除方法,具体地涉及如下方法,上述方法包括:向酸溶液通入离子交换树脂来将离子交换树脂活性化的步骤;在树脂塔填充活性化的上述离子交换树脂,并用超纯水清洗的步骤;以及向清洗的上述离子交换树脂通入磷酸溶液的步骤,可去除存在于磷酸溶液内的氧化数为2~7的金属离子,使其各浓度小于100ppb。