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公开(公告)号：CN103650343A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201280023350.9
申请日：2012-05-11
Applicant: 芬兰国家技术研究中心
CPC classification number: B81B3/0072 , B81B2201/0235 , B81B2201/0242 , B81B2201/0271 , B81C2201/0164 , B81C2201/0167 , B81C2201/0177 , G06F17/5045 , H03H9/02448 , H03H9/2447 , H03H2009/2442
Abstract: 本发明涉及一种微机械装置，包括：半导体元件，所述半导体元件能够产生偏转或谐振，并且包括具有不同材料性质的至少两个区域；以及功能性连接到所述半导体元件的驱动或传感机构。根据本发明，所述区域中的至少一个包括一种或多种n型掺杂剂，并且所述区域的相对体积、掺杂浓度、掺杂剂和/或晶体定向构造成使得所述区域的广义刚度的温度敏感度至少在一个温度下符号相反，并且在100℃的温度范围内，所述半导体元件的广义刚度的总体温度漂移为50ppm或更少。所述装置可以为谐振器。还公开了一种设计所述装置的方法。
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公开(公告)号：CN103130179B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201210510312.8
申请日：2012-12-03
Applicant: 横河电机株式会社
CPC classification number: H04R31/00 , B81B2201/0271 , B81C1/0015 , B81C1/00666 , B81C2201/0164 , B81C2201/0173 , H03H3/0072 , Y10T29/49005
Abstract: 一种制造具有振动梁的谐振式传感器的方法，包括：（a）提供SOI衬底，SOI衬底包括：第一硅层；在第一硅层上的氧化硅层；以及在氧化硅层上的第二硅层；（b）通过使用氧化硅层作为蚀刻阻挡层来蚀刻第二硅层，来穿过第二硅层形成第一间隙和第二间隙；（c）在第二硅层上形成杂质扩散源层；（d）在第二硅层的表面部分中形成杂质扩散层；（e）通过蚀刻去除杂质扩散源层；以及（f）通过蚀刻来去除氧化硅层的至少一部分，从而在第一硅层与由第一间隙和第二间隙围绕的第二硅层的区域之间形成空气间隙。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1246911C
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN01813971.X
申请日：2001-06-13
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: H01L29/84 , G01P15/125
CPC classification number: B81C1/00666 , B81B2201/0235 , B81C2201/0164 , B81C2201/0169 , G01P15/125 , G01P2015/0814 , H01G4/33 , H01G5/16
Abstract: 本发明的目的在提供一种薄膜结构体及其制造方法，是关于使用半导体加工技术而形成的薄膜结构体及其制造方法，特别是构成半导体加速传感器的薄膜结构体及其制造方法，不仅可简便地进行薄膜体的应力控制，同时可很容易将薄膜体的膜厚予以加厚。为了达成上述目的，半导体加速传感器的质量体(3)、梁(7)及构成固定电极(5)的薄膜体(8)，是由多个的经掺杂的多晶硅薄膜(33，35)所构成，而该经掺杂的多晶硅薄膜(33，35)，则是薄由进行多次一边掺杂做为杂质的磷一边使多晶硅成膜的程序而层叠而成。
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公开(公告)号：CN103130179A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210510312.8
申请日：2012-12-03
Applicant: 横河电机株式会社
CPC classification number: H04R31/00 , B81B2201/0271 , B81C1/0015 , B81C1/00666 , B81C2201/0164 , B81C2201/0173 , H03H3/0072 , Y10T29/49005
Abstract: 一种制造具有振动梁的谐振式传感器的方法，包括：（a）提供SOI衬底，SOI衬底包括：第一硅层；在第一硅层上的氧化硅层；以及在氧化硅层上的第二硅层；（b）通过使用氧化硅层作为蚀刻阻挡层来蚀刻第二硅层，来穿过第二硅层形成第一间隙和第二间隙；（c）在第二硅层上形成杂质扩散源层；（d）在第二硅层的表面部分中形成杂质扩散层；（e）通过蚀刻去除杂质扩散源层；以及（f）通过蚀刻来去除氧化硅层的至少一部分，从而在第一硅层与由第一间隙和第二间隙围绕的第二硅层的区域之间形成空气间隙。
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公开(公告)号：CN1446379A
公开(公告)日：2003-10-01
申请号：CN01813971.X
申请日：2001-06-13
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: H01L29/84 , G01P15/125
CPC classification number: B81C1/00666 , B81B2201/0235 , B81C2201/0164 , B81C2201/0169 , G01P15/125 , G01P2015/0814 , H01G4/33 , H01G5/16
Abstract: 本发明的目的在提供一种薄膜结构体及其制造方法，是关于使用半导体加工技术而形成的薄膜结构体及其制造方法，特别是构成半导体加速传感器的薄膜结构体及其制造方法，不仅可简便地进行薄膜体的应力控制，同时可很容易将薄膜体的膜厚予以加厚。为了达成上述目的，半导体加速传感器的质量体(3)、梁(7)及构成固定电极(5)的薄膜体(8)，是由多个的经掺杂的多晶硅薄膜(33，35)所构成，而该经掺杂的多晶硅薄膜(33，35)，则是薄由进行多次一边掺杂做为杂质的磷一边使多晶硅成膜的程序而层叠而成。
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公开(公告)号：CN103650343B
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201280023350.9
申请日：2012-05-11
Applicant: 芬兰国家技术研究中心
CPC classification number: B81B3/0072 , B81B2201/0235 , B81B2201/0242 , B81B2201/0271 , B81C2201/0164 , B81C2201/0167 , B81C2201/0177 , G06F17/5045 , H03H9/02448 , H03H9/2447 , H03H2009/2442
Abstract: 本发明涉及一种微机械装置，包括：半导体元件，所述半导体元件能够产生偏转或谐振，并且包括具有不同材料性质的至少两个区域；以及功能性连接到所述半导体元件的驱动或传感机构。根据本发明，所述区域中的至少一个包括一种或多种n型掺杂剂，并且所述区域的相对体积、掺杂浓度、掺杂剂和/或晶体定向构造成使得所述区域的广义刚度的温度敏感度至少在一个温度下符号相反，并且在100℃的温度范围内，所述半导体元件的广义刚度的总体温度漂移为50ppm或更少。所述装置可以为谐振器。还公开了一种设计所述装置的方法。
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公开(公告)号：CN1675126A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN03818563.6
申请日：2003-05-13
Applicant: 飞思卡尔半导体公司
Inventor： 朱尔根·A.·弗斯特纳 , 斯蒂文·M.·史密斯 , 雷蒙德·M.·鲁普
CPC classification number: B81C1/0038 , B81B2201/018 , B81B2201/0292 , B81C1/00246 , B81C2201/0164 , B81C2203/0735 , H01G5/18
Abstract: 提供了一种用来制作MEMS结构(69)的方法。根据此方法，提供了其上淀积有互连金属(53)的CMOS衬底(51)。通过选自硅和硅锗合金的材料的等离子体辅助化学气相淀积(PACVD)，在衬底上产生了MEMS结构。伴随PACVD使用的低的淀积温度使得这些材料能够在集成CMOS工艺的后端被用于制造MEMS。
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