-
公开(公告)号:CN109628893A
公开(公告)日:2019-04-16
申请号:CN201811615221.4
申请日:2018-12-27
申请人: 广州海鸥住宅工业股份有限公司
发明人: 刘齐成
CPC分类号: C23C14/30 , C23C14/021 , C23C14/16
摘要: 本发明提供了一种电子束蒸发镀镍的方法,包括,S1、清洗工件,将工件放在真空条件下;S2、利用电子束对镍靶材进行预融;S3、通过电子束扫描所述工件,对工件进行二次清洁并预热;S4、电子束轰击S2步骤中预融完成的镍靶材,对所述工件进行电子束蒸发镀镍,其中,所述电子束的功率为40‑70kW,通过将电子束蒸发镀镍的功率提高到40‑70kW,提高蒸镀速率,短时间内即可得到1μm以上的厚膜,在S3步骤中,通过对工件进行高能量密度的电子束扫描,使工件表面杂质蒸发去除,并对工件进行预热,增强膜层牢固性,该电子束扫描过程仅需1分钟,即可达到增加膜与工件结合力的效果,操作简便,效率高。
-
公开(公告)号:CN108517496A
公开(公告)日:2018-09-11
申请号:CN201810505457.6
申请日:2018-05-24
申请人: 佛山拾念科技有限公司
发明人: 佘芳
CPC分类号: C23C14/325 , C08K2003/221 , C09D7/61 , C09D123/0853 , C23C14/021 , C23G1/24 , C25F3/24 , C08K5/54 , C08K3/22 , C08K3/38 , C08K3/04
摘要: 本发明公开了一种提升石油工程中输送管表面性能的处理方法,涉及石油工程设备技术领域,包括以下步骤:(1)超声波除油:将输送管置于除油槽内,超声波场结合除油剂,对输送管进行除油;(2)高压水冲洗:用高压水进行冲洗处理;(3)电抛光:将输送管放入电解槽内,进行电解抛光处理;(4)镀膜:将输送管放置在蒸镀膜机内,然后向蒸镀膜机内加入稀土电热涂料,随后将蒸镀膜机内抽真空,并加以高压直流电场弧光放电,然后加热流平稀土电热膜层后,再紫外光固化。本发明对石油工程用的输送管表面进行处理,提升了输送管的耐磨耐腐蚀性,具有很好的耐高温性能,抗老化性能强,机械强度高,有效延长了使用寿命,有很好的推广价值。
-
公开(公告)号:CN105572174B
公开(公告)日:2018-07-06
申请号:CN201610024206.7
申请日:2016-01-14
申请人: 苏州大学
IPC分类号: G01N27/00
CPC分类号: G01N27/125 , C23C14/021 , C23C14/12 , C23C14/24 , G01N33/0047
摘要: 本发明公开了一种基于偶氮苯类化合物的醋酸气体传感器及其制备方法和用途。具体而言,本发明的醋酸气体传感器包括叉指电极和镀膜材料,该镀膜材料为如式I所示的偶氮苯类化合物,其通过真空镀膜技术镀于叉指电极上,并且其厚度为100~200nm。本发明的醋酸气体传感器制备便捷,操作简单,选择性高,对于醋酸的传感强度远高于其他含有羟基的分子;另外,本发明的醋酸气体传感器在室温下即可完成检测,对环境温度的依赖度较低。
-
公开(公告)号:CN108220898A
公开(公告)日:2018-06-29
申请号:CN201711451104.4
申请日:2017-12-27
申请人: 江西沃格光电股份有限公司
CPC分类号: C23C14/35 , C23C14/0036 , C23C14/021 , C23C14/022 , C23C14/083 , C23C14/086 , C23C14/10
摘要: 本发明涉及一种导电薄膜的制备方法、镀膜设备、导电薄膜及电子器件。该制备方法包括如下步骤:在基板上镀制阻挡层,阻挡层的材质为二氧化硅、氮化硅及二氧化钛中的至少一种;在阻挡层远离基板的一侧镀制第一ITO层;在第一ITO层远离阻挡层的一侧镀制增强层,增强层的材料为银或石墨烯;及以氩气为工作气体,在臭氧存在下,且臭氧与氩气的体积比为1:8~2:9,在所述增强层远离所述第一ITO层的一侧镀制第二ITO层,得到导电薄膜。通过上述制备方法能够于低温下制备具有较高可见光透过率且较低电阻率的导电薄膜。
-
公开(公告)号:CN108220878A
公开(公告)日:2018-06-29
申请号:CN201611128761.0
申请日:2016-12-09
申请人: 辽宁法库陶瓷工程技术研究中心
CPC分类号: C23C14/0617 , C23C14/0021 , C23C14/021 , C23C14/32
摘要: 一种具有高导热、高散热性能氮化铝厚膜的制备方法,该方法选择纯铝作为阴极靶材,铝靶材的纯度为99.99%,反应气体采用纯氮气,氮气的纯度为99.999%,通过电离出来的铝离子与氮气反应形成A1N高导热膜。实现步骤:1)先将工件基体清洗干燥后放入样品室内,进行抽真空,为了获得高质量氮化铝涂层,真空度必须控制在9×10‑3Pa以下;2)通入高纯Ar气对基体进行溅射清洗;3)随后通氩气、启弧、加负偏压、通氮气,氮气压力为1~3×10‑1Pa,预轰击清洗在250v~650V负偏压下进行10~180min。本发明能在复杂样品表面沉积,成为工程技术领域最广泛应用的膜层制备方法之一。其方法简单,易操作且工艺实用,适合于工业化生产。制备的氮铝厚膜比例一致、含氧少,导热率高。
-
公开(公告)号:CN107923030A
公开(公告)日:2018-04-17
申请号:CN201680047903.2
申请日:2016-08-17
申请人: 塔塔钢铁荷兰科技有限责任公司
发明人: E·策斯特贝尔亨 , T·F·J·马尔曼 , J·J·H·韦塞林克
CPC分类号: C23C14/564 , C11D11/0029 , C23C14/021 , C23C14/022 , C23C14/16 , C23C14/562 , C23C14/5886
摘要: 本发明涉及一种用于清洁和涂覆金属带材的方法和设备,其中在连接至沉积室的清洁室中清洁金属带材,且其中将清洁室中的真空压力保持在0.01-100mbar的范围,将沉积室中的真空压力保持在0.01-10mbar的范围。
-
公开(公告)号:CN107849683A
公开(公告)日:2018-03-27
申请号:CN201680041492.6
申请日:2016-07-06
申请人: 住友电气工业株式会社 , 敏斯材料公司
发明人: 内海庆春 , 佩尔·克里斯多夫·阿伦斯古格 , 津田圭一 , 康斯坦提诺斯·萨拉基诺斯 , 丹尼尔·冈纳·马根法尔特
IPC分类号: C23C14/06
CPC分类号: C23C14/0617 , C23C14/0036 , C23C14/021 , C23C14/024 , C23C14/0641 , C23C14/345 , C23C14/3485 , C23C14/35 , C23C14/352 , C23C14/505 , C23C14/541 , C23C14/545 , C23C14/548 , C23C28/044 , C23C28/048 , C23C28/44 , C23C30/005 , H01J37/3467
摘要: 位于基材表面上的被膜中的至少一个层是由组成不同的至少两个晶畴形成的晶畴结构层。当将存在于晶畴结构层中的多个第一晶畴中的每一个的尺寸定义为与第一晶畴接触的各个虚拟外接圆的直径,并且将各个第一晶畴的最近邻距离定义为连接一个外接圆的中心和与另一相邻的外接圆的中心的直线距离中的最短距离时,第一晶畴的平均尺寸为1nm以上10nm以下,并且第一晶畴的平均最近邻距离为1nm以上12nm以下。95%以上的第一晶畴的尺寸在平均尺寸的±25%的范围内。95%以上的第一晶畴的最近邻距离在平均最近邻距离的±25%的范围内。
-
公开(公告)号:CN107385389A
公开(公告)日:2017-11-24
申请号:CN201710729262.5
申请日:2017-08-23
申请人: 苏州鑫河镜业有限公司
发明人: 杨晓燕
IPC分类号: C23C14/02
CPC分类号: C23C14/021
摘要: 本发明公开了一种用于光学镜片的镀膜前清洗设备,包括机身、除尘装置、淋洗装置,机身外部具有气源管道和清洗液池,所述除尘装置包括吹风口、第一输送带、吸风机,所述吹风口由气源管道供气,所述第一输送带上具有若干载镜夹;所述淋洗装置包括清洗斜面、清洗槽、第三输送机构,所述第一输送带末端与第二输送带相接,所述第二输送带后方具有清洗斜面,所述清洗斜面上具有沟道且沟道与清洗液池连接,清洗斜面在第二输送带的正后方位置具有清洗槽,清洗槽通过其自身的第三输送结构传送,所述清洗槽后方具有第四输送带。本发明的气洗和液洗结合的方式和清洗液层流层对镜片进行温和的清洗,使条件可控且不损伤镜片表面,达到高精度的镀膜要求。
-
公开(公告)号:CN107299328A
公开(公告)日:2017-10-27
申请号:CN201710687345.2
申请日:2017-08-11
申请人: 苏州南尔材料科技有限公司
发明人: 不公告发明人
CPC分类号: C23C14/35 , C23C14/0036 , C23C14/021 , C23C18/1216 , C23C18/1254 , C23C28/00
摘要: 本发明公开了一种钕锶钴薄膜的制备方法,本发明有效解决了氧化物透明导电薄膜与柔性聚酯基底匹配性不好,附着性差,容易发生脱落的关键性问题,本发明采用以醋酸钕、醋酸锶和醋酸钴这类简单的有机盐为原材料,大大降低了原材料的成本,而且整个工艺过程可在大气环境中操作,且无毒性。
-
公开(公告)号:CN107299318A
公开(公告)日:2017-10-27
申请号:CN201710399984.9
申请日:2017-05-31
申请人: 北京航天控制仪器研究所
CPC分类号: C23C14/185 , C03C17/40 , C03C2217/255 , C03C2217/26 , C03C2218/156 , C03C2218/31 , C23C14/021 , C23C14/352
摘要: 本发明涉及一种耐BOE腐蚀的金属掩膜制备方法,特别是在石英晶体上镀制耐BOE腐蚀的金属掩膜层的制备方法。本发明具体包括清洗步骤和镀膜步骤。本发明的显著效果是:①实现了用单层Cr/Au掩膜层进行耐BOE腐蚀工艺;②解决了现有Cr/Au掩膜层腐蚀后出现表面钻蚀,鼓包,甚至脱落等问题;③单层Cr/Au掩膜层转移光刻图形精度高,可以控制在1um以内;④制备工艺过程简单,易于控制,制备成本低廉,适合批量生产。
-
-
-
-
-
-
-
-
-