晶片检验系统内的衬底表面的高速高度控制的方法及系统

    公开(公告)号:CN105556650A

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:CN201480051891.1

    申请日:2014-08-21

    发明人: 蔡中平 熊静一

    IPC分类号: H01L21/66

    摘要: 本发明涉及晶片检验系统内的衬底的表面的高速高度控制,其包含:将衬底定位于可动态调整衬底载台组合件的衬底载台上;垂直于所述衬底的所述表面致动所述衬底;在所述表面的检验位置处测量所述衬底的所述表面的高度误差值;在所述衬底载台组合件的位置处测量垂直于所述衬底的所述表面的位移值;从所述高度误差值及所述位移值产生位移目标;及使用所述经测量的高度误差值及所述经产生的位移目标调整所述致动器的致动状态,以维持所述衬底表面处于所述检验系统的检测器的成像平面或所述检验系统的照明的焦点处。

    晶片检验系统内的衬底表面的高速高度控制的方法及系统

    公开(公告)号:CN105556650B

    公开(公告)日:2018-12-11

    申请号:CN201480051891.1

    申请日:2014-08-21

    发明人: 蔡中平 熊静一

    IPC分类号: H01L21/66

    摘要: 本发明涉及晶片检验系统内的衬底的表面的高速高度控制,其包含:将衬底定位于可动态调整衬底载台组合件的衬底载台上;垂直于所述衬底的所述表面致动所述衬底;在所述表面的检验位置处测量所述衬底的所述表面的高度误差值;在所述衬底载台组合件的位置处测量垂直于所述衬底的所述表面的位移值;从所述高度误差值及所述位移值产生位移目标;及使用所述经测量的高度误差值及所述经产生的位移目标调整所述致动器的致动状态,以维持所述衬底表面处于所述检验系统的检测器的成像平面或所述检验系统的照明的焦点处。

    传送装置、传送方法和显微镜系统

    公开(公告)号:CN102368075A

    公开(公告)日:2012-03-07

    申请号:CN201110171703.7

    申请日:2011-06-23

    申请人: 索尼公司

    IPC分类号: G01N35/10

    摘要: 本发明提供了一种传送装置、传送方法和显微镜系统。传送装置包括:存储单元,该存储单元存储两片或多片将要经受预定处理的载玻片;镜台,该镜台仅固定一片将要经受处理的载玻片;供给臂,通过该供给臂待经受处理的载玻片的一片被从所述存储单元拾取并被供给到所述镜台上;卸放臂,安装在所述镜台上的载玻片通过该卸放臂被拾取并被卸放到所述存储单元中;移动单元,该移动单元可操作地以整体的方式移动供给臂和卸放臂以便将所述供给臂或所述卸放臂带到所述存储单元和所述镜台的附近;以及控制单元,该控制单元可操作地控制所述供给臂、所述卸放臂以及所述移动单元。

    微量液体试料用光学测量装置

    公开(公告)号:CN101336370A

    公开(公告)日:2008-12-31

    申请号:CN200680052070.5

    申请日:2006-04-03

    发明人: 佃康郎

    摘要: 进行微量液体试料的透过光测量的分光光度计中,在圆盘状试料板(11)上间隔90°设置有4个试料保持部(12),旋转驱动试料板(11),使各试料保持部(12)依次移动到试料供给位置(U1)、测量位置(U2)、擦拭位置(U3)、待机位置(U4)。在试料供给位置(U1)处,向试料保持部(12)的槽中滴落微量的液体试料,在测量位置(U2)处,使窗板(22)下降到该槽之上,在光程长度决定之后执行透过光的测量,进而,在试料保持部(12)从测量位置(U2)移动到待机位置(U4)的期间,通过清洁垫(26)的接触来吸收、去除液体试料。窗板(22)所附着的液体试料也被其他的垫擦拭。由此,测量完毕的试料的擦拭作业可以实现自动化,因此,能够提高测量的总处理能力。