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公开(公告)号：CN107432077A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201580072642.5
申请日：2015-01-12
申请人： 王守国
发明人： 王守国
IPC分类号： H05H1/26
CPC分类号： H05H1/46 , A61N1/44 , H05H2001/466 , H05H2240/10 , H05H2240/20 , H05H2245/122 , H05H2245/1225
摘要： 一种可插拔的等离子体放电管装置，所述的装置包含一个与可手持壳体(100)通过插拔方式连接的等离子体放电管，该等离子体放电管内设一个单电极(101)，在其外围不设有其它电极，该单电极(101)连接等离子体电源(107)的一个输出端，该等离子体电源(107)的另一个输出端连接其自身线路的地线，该等离子体电源(107)的输入端是连接12V以下的直流电源或电池，该等离子体的产生方式可为接触式的管外感应放电方式，或为有供气源的管内自持放电方式，该等离子体放电管能产生准辉光的常压冷等离子体。所产生的等离子体可用于对敏感表面的消毒、灭菌、治疗皮肤组织感染治疗以及癌细胞的杀灭。
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公开(公告)号：CN104379513B
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201480001535.9
申请日：2014-04-15
申请人： 松下知识产权经营株式会社
CPC分类号： H05H1/48 , B01J19/088 , B01J19/2465 , B01J2219/00186 , B01J2219/0809 , B01J2219/0815 , B01J2219/0841 , B01J2219/0877 , B01J2219/0894 , C02F1/4608 , C02F1/4672 , C02F2001/46138 , C02F2103/002 , C02F2103/005 , C02F2103/023 , C02F2201/46 , C02F2201/4613 , C02F2201/46135 , C02F2201/4614 , H05H1/2406 , H05H1/46 , H05H2001/2412 , H05H2001/466
摘要： 本公开提供效率良好地产生等离子体、能在短时间内进行液体的处理的液体处理装置以及液体处理方法。本公开的液体处理装置具备：第1电极；配置在液体中的第2电极；被设置成隔着空间包围第1电极，并在与该液体接触的位置具有开口部的绝缘体；和对第1电极与第2电极间施加交流电压或脉冲电压的电源。本公开的液体处理装置通过电源对第1电极与所述第2电极间施加电压来将空间内的液体气化，从而产生气体，在气体从开口部放出到液体中时进行放电，由此产生等离子体。
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公开(公告)号：CN103219220B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201310099524.6
申请日：2013-03-26
申请人： 复旦大学
CPC分类号： H01J49/0404 , H01J49/0045 , H05H2001/466
摘要： 本发明提供了一种用于产生等离子体与离子间反应的装置，该装置至少包括：常压下工作的质谱离子源（如ESI、APCI等）；常压电离气室，气室设有辅助气通路和废气、废液排出口；玻璃或陶瓷等绝缘材料制成的可离子传输管；加在离子传输管外表面，用于激发等离子体的射频电极及电源；以及放置于离子传输管后的质谱仪。本发明采用玻璃等绝缘材料作为离子传输管，并通过射频电源激发离子传输管中的待测离子和辅助气体，使其发生等离子体-离子反应。相较现有技术，该装置利用离子传输管中的低真空环境，可以激发空气或其他反应气体，产生高密度等离子体，发生离子-等离子体反应，供后续质谱分析。
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公开(公告)号：CN105122419A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201480013604.8
申请日：2014-03-17
申请人： 星火工业有限公司
发明人： 罗博特·S.·斯特博 , 丹尼尔·P.·门特 , 迈克尔·J.·思科斯 , 布瑞恩·E.·尤尔奇克
IPC分类号： H01J33/00
CPC分类号： H01J37/32009 , H05H1/02 , H05H1/46 , H05H3/06 , H05H2001/466 , H05H2001/4667
摘要： 本文中描述用于将电磁(EM)能量从远程就位的初级天线耦合到等离子体离子源的系统和方法。EM能量由第一结构辐射通过中间的次级天线。本文描述的实施例能够相对于初级天线将等离子体离子源提升到高电势的偏置值，其中初级天线可保持在接地电势值或其接近值。
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公开(公告)号：CN102960073B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201180032218.X
申请日：2011-06-13
申请人： 松下电器产业株式会社
发明人： 实松渉
CPC分类号： H05H1/48 , A45D27/46 , A45D27/48 , B08B3/10 , B08B7/00 , C01B13/11 , C01B2201/60 , C01B2201/64 , C02F1/72 , C02F1/78 , C02F2305/02 , H01J37/32082 , H01J37/32091 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2001/466
摘要： 等离子体发生装置(1)具备：第一电极(12)，其被配置于气体容纳部(5)；以及第二电极(13)，其被配置成至少与第一电极(12)成对的一侧的部分与液体容纳部(4)中的液体(17)相接触。而且，通过使第一电极(12)与第二电极(13)之间产生放电，来在液体容纳部(4)中的液体(17)内的气体区域处生成等离子体，基于液体(17)中含有的水和气体中含有的氧来生成羟基自由基。
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公开(公告)号：CN103926850A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201410014140.4
申请日：2014-01-13
申请人： 朗姆研究公司
发明人： 约翰·C·小瓦尔考 , 布拉德福德·J·林达克
IPC分类号： G05B19/04
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J37/32082 , H01J37/321 , H01J37/3244 , H01J37/32935 , H01J37/3299 , H05H1/46 , H05H2001/466 , H05H2001/4682
摘要： 本发明涉及调谐与等离子体阻抗有关联的参数，具体描述了用于调谐与等离子体阻抗相关联的参数的系统和方法。方法中的一种包括接收信息以判定变量。在传输线路测量信息并在参数具有第一值时进行测量。该传输线路用于提供功率到等离子体室。该方法进一步包括：判定所述变量是否在局部最小值，并在判定所述变量在局部最小值时提供所述第一值来调谐阻抗匹配电路。该方法包括在判定变量不在局部最小值时改变参数的所述第一值到第二值，并判定参数具有第二值时变量是否在局部最小值。
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公开(公告)号：CN103597912A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201180071576.1
申请日：2011-06-13
申请人： 丰田自动车株式会社
CPC分类号： H01J37/04 , F02F1/00 , H05H1/46 , H05H2001/466
摘要： 本发明为一种表面加工装置以及表面加工方法，其通过使被施加于在等离子产生部（1）中所设置的导电性壳体（2）与棒状电极（3）这两个放电电极之间的主电压的频率、和被施加于导电性壳体（2）与被加工物（5）之间的偏压的频率有所不同，从而对通过等离子的照射而被形成在被加工物（5）的表面上的凹凸的形成形态进行控制。
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公开(公告)号：CN102204414A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200880131491.6
申请日：2008-08-20
申请人： 视觉动力控股有限公司
发明人： 保卢斯·佩特鲁斯·玛利亚·布洛姆 , 菲利普·罗辛 , 阿尔昆·阿方斯·伊丽莎白·史蒂文斯 , 劳伦西亚·约翰娜·回吉布雷格特斯 , 埃迪·博斯
IPC分类号： H05H1/24
CPC分类号： H05H1/2475 , B41C1/1066 , H05H2001/2481 , H05H2001/466 , H05H2240/10
摘要： 一种产生用于对衬底表面构图的等离子体放电的设备，包括：具有第一放电部分的第一电极和具有第二放电部分的第二电极；高电压源，用于在第一电极和第二电极之间产生高电压差；和定位装置，用于关于衬底调整第一电极的位置；其中，定位装置被设置用于关于第二电极选择性地将第一电极调整至第一位置上和第二位置上，在第一位置上，第一放电部分和所述第二放电部分之间的距离足够小，以支持高电压差下的等离子体放电，在第二位置上，第一放电部分和第二放电部分之间的距离足够大，以防止高电压差下的等离子体放电。
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公开(公告)号：CN101647323A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200880005970.3
申请日：2008-02-21
申请人： 米兰-比可卡大学
发明人： 克劳迪娅·里卡迪 , 庖拉·艾萨纳 , 鲁格罗·阿尔弗雷多·巴里尼 , 里卡多·斯里普兰迪 , 斯蒂法诺·杂尼妮
IPC分类号： H05H1/24
CPC分类号： D06M10/10 , B29C59/14 , B29C2059/145 , C14C9/00 , C23C8/36 , C23C8/38 , D06M10/025 , D06M10/08 , H05H1/2406 , H05H1/46 , H05H2001/2412 , H05H2001/466
摘要： 用于加工材料的等离子体处理方法，包括了使材料经受基本上大气压的等离子体的步骤，从而免除了提供昂贵的真空装置和泵组件的需要，同时即使在受控的工作环境下也易于连续和快速的处理。取决于被加工的材料的不同，可以使用若干加工方法。
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公开(公告)号：CN1520347A
公开(公告)日：2004-08-11
申请号：CN02811075.7
申请日：2002-10-24
申请人： 理查德·J·福格
IPC分类号： B23K10/00
CPC分类号： A61B18/042 , A61B18/1206 , A61B18/1402 , A61B2018/00702 , A61B2018/00875 , A61B2018/1213 , B23K10/006 , H05H1/46 , H05H2001/466 , H05H2245/122
摘要： 一种利用协调等离子体云对物质进行切割的方法。射频发生器系统(10)生成脉冲或者连续的电磁波形，该电磁波由一有源发射器切割电极端头(26)发射。利用该电磁波通过例如热离子化以及光电效应等过程，激发一等离子体云(32)。将此电磁波调节为与该等离子体云阻抗匹配、频率匹配、功率匹配且与后者相调谐，从而维持并控制一个具有降低的原子粒子湍流及扰动的协调等离子体云。此协调等离子体云形成覆盖有源发生器电极端头表面的覆盖层，并且起到降低对本发明的等离子体切割装置的功率放大器(22)的输出能量的要求的作用。本发明是一种有效的、整齐的以及廉价的可用于切割物质的装置。
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