公开(公告)号：CN118977189A

公开(公告)日：2024-11-19

申请号：CN202411258433.7

申请日：2024-09-09

申请人： 常州纳斯顿自动化设备有限公司

发明人： 刘志彬

IPC分类号： B24B29/04 ,  B24B41/00 ,  B24B41/02 ,  B24B57/00

摘要： 本发明涉及圆球加工技术领域，具体为一种圆球抛光机，包括工作台及设置于工作台上的提升机构、抛光机构及打蜡机构，所述提升机构用于自动提升圆球并将其送至抛光机构，所述抛光机构用于对圆球表面全方位抛光，所述打蜡机构用于抛光过程中进行打蜡，增加对球面的切削程度以及光泽度。该圆球抛光机通过提升机构、抛光机构及打蜡机构相配合，能够实现圆球的全方位抛光、打蜡，在抛光及打蜡过程中能够实现圆球的换位，从而保证了抛光、打蜡的均匀性，本发明自动化程度高，加工效率高，降低了相关成本。

公开(公告)号：CN118809432A

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202411030096.6

申请日：2024-07-30

申请人： 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司

发明人： 姜翠兰

IPC分类号： B24B37/11 ,  B24B57/00

摘要： 本发明涉及一种在集成电路铜膜化学机械抛光中使用抛布和抛液的方法，所属硅片抛光工艺技术领域，包括如下操作步骤：第一步：将由PH调节剂、磨料、氧化剂、表面活性剂和润滑剂组成的抛光液进行混合制备。第二步：抛液中的碱、有机物与集成电路反应，生成硬度较单晶硅更低的结合产物。第三步：采用溶胶凝胶法制备出的高活性硅溶胶作为磨料成分。第四步：通过抛光布将抛液中的磨料在抛布与集成电路的相对运动中机械去除反应层。采用晶片与抛布接触面减小，降低晶片与抛布之间分子间作用力，减少抛布吸片的发生。实现使用无沟槽抛布，提升产品NT。通过晶片、抛布、抛液之间流动型增强，利于控制晶片去除形貌，产品平坦度更佳。

公开(公告)号：CN118357860B

公开(公告)日：2024-10-18

申请号：CN202410788594.0

申请日：2024-06-19

申请人： 常州臻晶半导体有限公司

发明人： 周頔 ,  郑红军 ,  张庆云 ,  陆敏

IPC分类号： B24B57/00 ,  B24B55/06 ,  B24B55/12

摘要： 本发明涉及清洗技术领域，具体涉及一种清洗设备及其清洗工艺；本发明提供了一种清洗设备，包括：保护壳，所述保护壳上端设置有一敞口；抛光盘，所述抛光盘转动设置在所述保护壳内；第一回流组件，所述第一回流组件可升降的套设在所述抛光盘外壁；第二回流组件，所述第二回流组件可升降的套设在第一回流组件外壁，且所述第二回流组件的水平高度大于所述第一回流组件；其中，第一回流组件与第二回流组件错位时，所述第一回流组件适于回收引导抛光液；第一回流组件和第二回流组件底壁水平高度一致时，所述第二回流组件适于回收引导清洗液。

公开(公告)号：CN118769109A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202411158077.1

申请日：2024-08-22

申请人： 圣达电气有限公司

发明人： 付文峰 ,  蒋俭 ,  朱春平 ,  李富明 ,  周伟

IPC分类号： B24B29/02 ,  B24B27/00 ,  B24B47/22 ,  B24B57/02 ,  B24B57/00 ,  B24B55/06 ,  B24B55/12 ,  B24B47/20 ,  B24B41/06 ,  C23F3/04

摘要： 本发明公开了一种可调节抛光液分配量的铜箔抛光机，涉及铜箔抛光相关领域，包括抛光箱体，所述抛光箱体的左端外侧位置安装有输送辊，且所述输送辊的外侧放置有铜箔卷，所述铜箔卷的右端贯穿抛光箱体的内部，并且铜箔卷的右端与安装在抛光箱体右端外侧的收料辊一侧；还包括：所述抛光箱体的顶部位置安装有便于对灰尘吸取的吸尘组件，所述分配调节机构的右侧位置设置了匀平组件，通过匀平组件的来回移动实现对抛光液匀平处理该可调节抛光液分配量的铜箔抛光机，设置有分配调节机构，通过分配调节机构的配合设置可在面对不同尺寸的铜箔卷来下落出不同量的抛光液，进而可方便进行初步的化学抛光处理。

公开(公告)号：CN118721017A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202410841858.4

申请日：2024-06-27

申请人： 西安奕斯伟材料科技股份有限公司 ,  西安奕斯伟硅片技术有限公司

发明人： 张申申

IPC分类号： B24B37/34 ,  B24B37/005 ,  B24B57/02 ,  B24B57/00

摘要： 本发明提供了一种抛光液补液设备、方法以及装置。该设备包括：存储罐，用于回收和存储抛光液，并为与所述存储罐连接的抛光设备提供抛光液；数据分析装置，用于根据所存储的目标模型确定对所述存储罐进行补液的第一速度，并将所述第一速度作为补液速度发送给控制装置；与所述数据分析装置连接的所述控制装置，用于根据所述数据分析装置发送的补液速度控制补液系统对所述存储罐进行补液的速度。本发明的方案，根据包括抛光设备的运行参数和抛光垫的磨损情况，确定所述抛光设备的抛光液消耗量，从而确定对存储罐进行补液的第一速度，实现了对抛光液的自动补液，提高了抛光效率且避免了因补液不及时造成晶圆报废的问题。

公开(公告)号：CN118720986A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202410832152.1

申请日：2024-06-26

申请人： 山东理工大学

发明人： 田业冰 ,  苑祥昱 ,  马锡峰 ,  钱乘

IPC分类号： B24B29/00 ,  B24B41/04 ,  B24B47/12 ,  B24B47/22 ,  B24B57/00

摘要： 本发明公开了一种带式磁性剪切增稠抛光介质循环装置及方法，属于磁场辅助抛光技术领域。针对磁性剪切增稠抛光介质由于剪切增稠效应导致的无法高效循环利用的技术难题，设计由介质传送模块、抛光轮支架、安装板、抛光轮同步带、抛光轮驱动电机、搅拌器电机、介质储存罐、介质接收装置、带轮支架、介质导流板、张紧轮支架、传送带、抛光轮、带轮、张紧轮、圆柱磁极、磁轭和抛光轮外壳组成的装置，使用传送带将抛光区域内受磁场影响形成的固态介质输送到介质储存罐，利用机械搅拌将抛光介质转化为液态，最终通过介质导流板将介质导入抛光区域从而完成磁性剪切增稠抛光介质的循环利用。本发明可应用于非牛顿流体抛光介质的高效循环利用。

公开(公告)号：CN118513987A

公开(公告)日：2024-08-20

申请号：CN202410985978.1

申请日：2024-07-23

申请人： 新拓精密刀具(浙江)有限公司

发明人： 张日新

IPC分类号： B24B31/06 ,  B24B3/00 ,  B24B41/06 ,  B24B41/00 ,  B24B55/00 ,  B24B31/12 ,  B24B57/00 ,  B24B57/04

摘要： 本发明提供一种工业刀具钝化装置，属于刀具钝化技术领域。包括机体，所述机体的左侧安装有电控箱，所述机体的底端内壁滑动连接有外滑筒，所述机体的顶部安装有驱动夹头，所述驱动夹头的底部安装有驱动杆；还包括换料组件，所述驱动杆的表面安装有换料组件，所述换料组件用于对研磨筒内部的研料进行从下到上的替换提高利用率；包括震动调节组件。本发明通过设置换料组件和震动调节组件，在通过调节适应不同刀具的研磨筒，来提高其研料利用率的同时，避免了研料的过度使用，导致的钝化效果减弱，调节不同的研磨筒来适应不同大小的工业刀具，同时缩小研料内部间隙，并提高钝化的效果，提高研料的使用周期。

公开(公告)号：CN111730500B

公开(公告)日：2024-08-16

申请号：CN202010598273.6

申请日：2020-06-28

申请人： 四川炬科光学科技有限公司 ,  成都炬科光学科技有限公司

发明人： 黄弢 ,  黄立新

IPC分类号： B24B57/02 ,  B24B57/00 ,  B24B49/10 ,  B24B13/00 ,  B01D29/03 ,  B01F27/93 ,  B01F35/00 ,  B01F35/45 ,  B01F35/75

摘要： 本发明公开了一种光学研磨抛光机用储液桶，包括桶体和桶盖，桶体与桶盖之间设置有密封条，桶盖通过卡扣与桶体实现可拆卸连接；桶体内中部位置设置有凸台，凸台上设置有第一密封条，桶盖上连接有一旋轴外套，旋轴外套外侧设置有呈伞状结构的过滤板，过滤板上设置有螺旋台阶，过滤板上设置有微型滤孔；旋轴外套内通过轴承设置有空心旋杆，桶盖上设置有出液孔，空心旋杆能够从出液孔伸出桶盖，在桶盖上还设置有回流管，回流管用于与抛光机的抛光液回流通道连接；出液孔用于与抛光机上的吸液装置连接。本发明具有较好的密封性，能够避免外界的杂质进入抛光液中，同时，具有较好的过滤效果，保证加工的镜片的质量，具有节能的优点。

公开(公告)号：CN118456254A

公开(公告)日：2024-08-09

申请号：CN202410720409.4

申请日：2024-06-05

申请人： 光整智能制造科技(江苏)有限公司

发明人： 孙红进 ,  顾欣

IPC分类号： B24B29/02 ,  B24B41/06 ,  B24B57/00

摘要： 本发明公开了一种等离子抛光装置及方法，其等离子抛光装置包括等离子抛光机，所述等离子抛光机的顶部固定安装有电动推杆，电动推杆输出轴的底端固定安装有安装板，安装板的底部固定安装有对称设置的贴合块，贴合块的数量为两个，等离子抛光机的右侧分别设有连接管、泵体、外壳和水桶，连接管的数量为三个，三个连接管分别与等离子抛光机、泵体、外壳和水桶相连通，外壳处于泵体和水桶之间，外壳的顶部设有盖板，本发明通过将工件放置在安装板的底部，并通过控制杆和转动杆控制夹具的位置，就可对工件进行固定，防止工件在抛光时进行晃动，增加工件在抛光时的稳定性，还可对抛光液进行过滤，实现对抛光液的回收。

公开(公告)号：CN115476258B

公开(公告)日：2024-07-16

申请号：CN202211344467.9

申请日：2022-10-31

申请人： 安徽华歆电子科技有限公司

发明人： 陈锋 ,  李峰 ,  张海诚 ,  张永全 ,  钟远鹰

IPC分类号： B24B29/02 ,  B24B41/06 ,  B24B41/00 ,  B24B57/02 ,  B24B57/00

摘要： 本发明涉及一种智能手表CNC抛光装置，包括底板架、抛光模块和输送模块，所述底板架呈圆环形结构，底板架上端安装有抛光模块，抛光模块上左侧以及后端设置有开口槽，位于开口槽处的底板架上安装有延伸板，延伸板上安装有输送模块。本发明中表盘玻璃进入弧形槽内部时，随着表盘玻璃的转动以及自转，抛光垫可以逐层的对表盘玻璃表面进行抛光，当表盘玻璃挤压进液支链时，储液腔内部的抛光液可以准确的喷在表盘玻璃表面，提高表盘玻璃抛光加工的清晰度。