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公开(公告)号:CN103422058B
公开(公告)日:2016-08-10
申请号:CN201310275972.7
申请日:2013-07-01
申请人: 浙江大学
摘要: 本发明公开了一种掺硼富硅氧化硅薄膜及其制备方法和应用,采用共溅射制备掺硼富硅氧化硅薄膜,并通过之后的高温热处理在氧化硅薄膜内生成掺硼的硅纳米晶。由于掺硼硅纳米晶的形成,薄膜的导电性增强;由于硼还处于氧化硅基体中及硅纳米晶和氧化硅基体界面处,引入了发光中心,增强了薄膜的光致发光,并使其可以宽光谱白光发光。发明制备工艺简单,工业兼容性好,在硅基集成光源或半导体发光,太阳能电池,非线性光学等领域具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号:CN103393321A
公开(公告)日:2013-11-20
申请号:CN201310356532.4
申请日:2013-08-15
申请人: 郑全来
发明人: 郑全来
摘要: 本发明公开了一种镀银内胆真空杯的制造方法,包括以下步骤:(1)取0.5~1mm的铝板料,经拉伸制作成内杯体;(2)内杯体内表面超声波清洗并进烘箱120℃,20分钟烘干;(3)加高电压二极溅射镀膜:加高电压二极溅射镀膜是电极为99.9%纯度的银作负极,内杯体内表面作阳极,两极与工艺装置中的恒压、恒流源相连接;(4)银质内杯体内腔内灌胶后在外表面刻花;(5)将刻花后的内杯体经整形、镀银、压光和清洗后,将内杯体的上沿外翻形成翻边;(6)使用透明材料制作外杯体,并在外杯体的杯口处外侧表面刻槽;(7)将内杯体放入外杯体,将内杯体的翻边嵌入到外杯体的凹槽内,装配成杯体。
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公开(公告)号:CN101403116B
公开(公告)日:2010-10-13
申请号:CN200810197656.1
申请日:2008-11-17
申请人: 华中科技大学
摘要: 一种Ti-Si-N纳米涂层的制备方法,属于工、模具涂层的制备方法,解决现有反应磁控溅射法所制备涂层在工作环境下易于脱落的问题,实现过渡层与涂层之间的冶金结合,从而提高涂层的力学性能。本发明包括:(1)预处理步骤;(2)溅射清洗步骤;(3)离子渗氮步骤;(4)制备过渡层步骤;(5)制备表面层步骤。本发明生产效率高、成本低,制备的涂层与金属陶瓷刀具基体的临界载荷Lc≥65N,表面显微硬度HV≥3400,适于制作用于高速干式铣削不锈钢、铁基高温合金、高强结构钢、耐磨铸钢和玻封合金等难切削材料的涂层刀具,在汽车、航空、航天和能源装备等制造行业具有很好的推广应用前景。
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公开(公告)号:CN101481791A
公开(公告)日:2009-07-15
申请号:CN200910029137.9
申请日:2009-01-07
申请人: 江苏华阳金属管件有限公司 , 南京航空航天大学
IPC分类号: C23C14/36
摘要: 本发明公开了一种高韧性纳米晶硅化物涂层的制备方法,它利用双阴极等离子溅射沉积技术,通过调节靶材与工件电压以及通入真空室中的氩气气压,来控制靶材的溅射量与工件表面的温度,在钛合金表面形成致密的纳米晶硅化物层,双阴极溅射工艺参数为:靶材电压:500~1000V;工件电压:300~450V;靶材与工件间距:10~30mm;氩气气压:20~45Pa;溅射的靶材种类:Cr-Si合金等;工件材料的种类:钛合金。本发明制备的纳米晶硅化物涂层与普通粗晶硅化物材料相比具有较高的韧性、抗氧化性和耐高温高耐磨性。本发明适用于航空航天推进领域,是一种不可缺少的耐高温高耐磨特种涂层材料。
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公开(公告)号:CN1230802C
公开(公告)日:2005-12-07
申请号:CN01142786.8
申请日:2001-10-04
申请人: ENI技术公司
发明人: 杰弗·C·塞勒斯
CPC分类号: H01J37/3444 , C23C14/54 , H01J37/34 , H01J2237/0206
摘要: 一种用无源电路控制直流溅射系统中的电弧形成的方法和系统,该电弧控制系统包括:溅射腔;此溅射腔包括阳极和由靶材料形成作为阴极的溅射靶。直流电源,用来提供直流阴极电压使阴极电流由阳极流向阴极;谐振网络,连接在直流电源和腔之间,此谐振网络具有与电弧产生对应地,使阴极电流谐振通过0,在阴极和阳极之间形成正电压的Q;以及反向电压钳位电路,与谐振网络连接,用来将阴极电压钳制到预先设定的反向电压。反向阴极电压通过在溅射靶沉积带正电的电介质来抑制随后的电弧。电弧控制系统限制了由电弧消耗的能量。
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公开(公告)号:CN1247907A
公开(公告)日:2000-03-22
申请号:CN99119357.1
申请日:1999-09-10
申请人: 大和缝纫机制造株式会社 , 西铁城钟表股份有限公司
摘要: 本发明公开一种缝纫机及缝纫机部件的制造方法,其是在缝纫机部件的滑动面上、借助一层用于提高粘附强度的中间层而形成金刚石类碳制的包覆层,使与其他缝纫机部件之间的滑动是在高硬度、有自润滑性的包覆层表面上进行,能防止滑动面的磨损和烧蚀的发生,能长期稳定地进行高速运转。
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公开(公告)号:CN104302804B
公开(公告)日:2016-10-26
申请号:CN201380001583.3
申请日:2013-09-30
申请人: 伍尚华
CPC分类号: C23C28/42 , C04B35/584 , C04B35/587 , C04B35/593 , C04B41/009 , C04B41/5031 , C04B41/52 , C04B41/87 , C04B41/89 , C04B2235/3225 , C04B2235/3886 , C23C14/081 , C23C28/04 , C23C28/042 , C23C28/044 , Y10T428/24975 , Y10T428/265 , C04B41/4529 , C04B41/5063 , C04B41/5068 , C04B41/53 , C04B41/5346
摘要: 采用物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)工艺在氮化硅陶瓷切削刀具表面制备氧化铝单层或多层涂层的方法。采用PVD技术制备氧化铝涂层的方法有两种:一种是采用双极脉冲电源、双向磁控溅射(Dual Magnetron Sputtering,DMS)技术在O2或者Ar和O2的混合气氛中通过反应溅射Al靶沉积氧化铝层;另一种是在Ar或Ar和O2的混合气氛中通过双向磁控溅射技术溅射进行了导电掺杂的氧化铝陶瓷靶,制备氧化铝涂层。通过上述两种方法制备单层氧化铝涂层、氮化物氧化铝复合涂层、氮化物和氧化铝交替沉积的多层或纳米复合涂层。氧化铝可以是α‑Αl2O3、β‑Αl2O3、γ‑Αl2O3或非晶Αl2O3。多层复合氧化铝涂层中的硬质氮化物涂层包括二元氮化物涂层、三元氮化物涂层和多元氮化物涂层,或它们的多层复合或纳米涂层。
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公开(公告)号:CN103352200B
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201310256654.6
申请日:2013-06-25
申请人: 南京航空航天大学 , 广东工业大学 , 广东奔朗新材料股份有限公司
摘要: 本发明公开了一种表面沉积有WC/W复合涂层的金刚石颗粒的制备方法。通过双阴极等离子溅射沉积方法实现了一次处理,在金刚石颗粒表面合成WC/W纳米复合涂层,涂层中WC是双阴极等离子溅射沉积过程中W与金刚石颗粒表面发生界面原位反应形成。本发明明显改善了金刚石颗粒与金属粘结剂间的结合强度和把持力以及金刚石颗粒的抗压强度。此外,沉积在金刚石表面的WC/W纳米复合涂层对金刚石颗粒具有保护作用,避免金刚石在高温烧结和高温磨削过程中发生氧化和石墨化。本发明的WC/W纳米复合涂层主要适用于制造以W -Co类硬质合金为基的金刚石工具,金刚石获得较高的出刃,提高磨具的磨削锋利度和加工效率,明显延长磨具的使用寿命。
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公开(公告)号:CN102660732A
公开(公告)日:2012-09-12
申请号:CN201210132842.3
申请日:2012-04-28
申请人: 南京航空航天大学
发明人: 徐江
摘要: 制备(Ti,Al)BN陶瓷基非晶-纳米晶耐磨耐蚀复合涂层的工艺,步骤为:首先进行双阴极等离子溅射沉积;然后进行离子氮化;溅射的靶材的种类:以热等静压工艺制备的成分质量配比为Ti:B:Al=6:3:1粉末冶金烧结板;工件材料的种类:钛合金。本发明利用双阴极等离子溅射技术,通过调整靶材的成分和气体之间的比例,实现了原位生成(Ti,Al)BN非晶-纳米晶复合涂层。简化了制备工艺,提高了涂层整体性能。
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