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发明授权
Composite particles and production process thereof, aqueous dispersion composition for chemical polishing, and process for manufacture of semiconductor device 有权
标题翻译：复合颗粒和它们的制备方法，用于化学机械抛光和处理含水分散体用于生产半导体器件

公开(公告)号：EP1683821B1

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：EP06110066.5

申请日：2000-01-18

申请人： JSR Corporation

发明人： Yano, Hiroyuki Kabushiki Kaisha Toshiba , Minamihaba, Gaku c/o Intellectual Property Division , Matsui, Yukiteru Kabushiki Kaisha Toshiba , Okumura, Katsuya c/o OCTEC INC. , Motonari, Masayuki , Hattori, Masayuki , Iio, Akira

IPC分类号： C09K3/14 , C08K3/36 , C08K5/057 , C09G1/02 , C08J3/12

CPC分类号： C09K3/1463 , C08G83/001 , C08J3/128 , C08K3/36 , C08K5/057 , C08K2201/013 , C09G1/02 , C09K3/1436 , H01L21/02024 , H01L21/31053 , H01L21/3212