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1.发明公开CYCLIC COMPOUND, PROCESS FOR PRODUCTION OF THE CYCLIC COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN 有权环状化合物，工艺FOR环状化合物，辐射敏感性组合物和方法形成抗蚀剂结构
公开(公告)号：EP2474538A4
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：EP10811965
申请日：2010-08-26
发明人： ECHIGO MASATOSHI , HAYASHI HIROMI
IPC分类号： C07D303/26 , C07C39/15 , C07C39/17 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： C07D303/26 , C07C39/17 , C07C2601/14 , C07C2603/92 , G03F7/0382
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2.发明公开CYCLIC COMPOUND, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN 审中-公开ZYKLISCHE VERBINDUNG，HERSTELLUNGSVERFAHRENDAFÜR，STRAHLUNGSEMPFINDLICHE ZUSAMMENSETZUNG UND VERFAHREN ZUR FORMUNG EINER RESISTSTRUKTUR
公开(公告)号：EP2474565A4
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：EP10812016
申请日：2010-08-27
发明人： ECHIGO MASATOSHI , HAYASHI HIROMI
IPC分类号： C08G8/32 , C07C69/21 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： C08G8/32 , C07C69/21 , C07C2603/92 , G03F7/0382
摘要： A cyclic compound represented by formula (1): wherein L, R 1 , R', and m are as defined in the specification. The cyclic compound of formula (1) is highly soluble to a safety solvent, highly sensitive, and capable of forming resist patterns with good profile. Therefore, the cyclic compound is useful as a component of a radiation-sensitive composition.
摘要翻译： 由式（1）表示的环状化合物：其中L，R 1，R'和m如说明书中所定义。 式（1）的环状化合物高度可溶于安全溶剂，高度敏感，并且能够形成具有良好轮廓的抗蚀剂图案。 因此，该环状化合物可用作辐射敏感组合物的组分。
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3.发明公开UNDERLAYER FILM MATERIAL, AND METHOD FOR FORMATION OF MULTILAYER RESIST PATTERN 审中-公开下形成的多层涂膜材料与方法抗蚀剂结构
公开(公告)号：EP2535768A4
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：EP11741987
申请日：2011-01-18
发明人： HAYASHI HIROMI , ECHIGO MASATOSHI
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/09 , H01L21/027 , H01L21/3065
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4.发明公开CYCLIC COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING SAME, RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN 有权环状化合物，工艺制作，辐射敏感性组合物和方法形成抗蚀剂结构
公开(公告)号：EP2487148A4
公开(公告)日：2013-05-29
申请号：EP10821707
申请日：2010-09-27
发明人： HAYASHI HIROMI , ECHIGO MASATOSHI , OGURO DAI
CPC分类号： G03F7/0382 , C07C37/20 , C08G8/04 , C07C39/17
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公开(公告)号：EP2578562A4
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：EP11786306
申请日：2011-05-20
发明人： OKADA YU , HAYASHI HIROMI , ECHIGO MASATOSHI
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6.发明公开CYCLIC COMPOUND, PROCESS FOR PRODUCTION OF THE CYCLIC COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN 审中-公开环状化合物，工艺FOR环状化合物，辐射敏感性组合物和方法形成抗蚀剂结构
公开(公告)号：EP2474518A4
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：EP10812006
申请日：2010-08-27
发明人： ECHIGO MASATOSHI , HAYASHI HIROMI
IPC分类号： C07C39/17 , C07B61/00 , C07C37/18 , C07C37/20 , C07C41/01 , C07C41/16 , C07C43/23 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： C07C43/23 , C07C37/20 , C07C41/16 , C07C2601/14 , C07C2603/92 , G03F7/0382 , C07C39/17
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7.发明公开CYCLIC COMPOUND, PROCESS FOR PREPARATION THEREOF, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN 有权环状化合物，工艺制作，辐射敏感性组合物和方法形成抗蚀剂结构
公开(公告)号：EP2476662A4
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：EP10815280
申请日：2010-08-30
发明人： HAYASHI HIROMI , ECHIGO MASATOSHI , OGURO DAI
IPC分类号： C07C39/17 , C07C37/20 , C07C47/546 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： C07C37/20 , C07C39/17 , C07C47/546 , C07C2601/14 , C07C2603/92 , G03F7/038 , G03F7/0382
摘要： A cyclic compound represented by formula (1): wherein L, R 1 , R', and m are as defined in the specification. The cyclic compound of formula (1) is highly soluble to a safety solvent, highly sensitive, and capable of forming resist patterns with good profile. Therefore, the cyclic compound is useful as a component of a radiation-sensitive composition.
摘要翻译： 由式表示的环状化合物（1）：其中L，R 1，R”和m如说明书中所定义。 式（1）的环状化合物是高度可溶性的安全溶剂的，高度敏感的，并且能够形成抗蚀剂具有良好的轮廓图案。 因此，所述环状化合物是作为辐射敏感组合物的组分是有用的。
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