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    Positivarbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen
    22.
    发明公开
    Positivarbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen 失效
    用于生产浮雕结构的正性工作的辐射敏感混合物和过程

    公开(公告)号：EP0762206A3

    公开(公告)日：1997-06-25

    申请号：EP96114059.7

    申请日：1996-09-03

    申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Funhoff, Dirk, Dr. ,  Binder, Horst

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106

    摘要： Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch im wesentlichen bestehend aus
    (a) mindestens einem säurelabile Gruppierungen enthaltenden Polymeren, das in Wasser unlöslich, durch Einwirkung von Säure in wäßrig-alkalischen Lösungen löslich wird, (b) mindestens einer organischen Verbindung, welche unter Einwirkung von aktinischer Strahlung eine Säure erzeugt, sowie (c) mindestens einer weiteren von (b) verschiedenen organischen Verbindung, wobei
    das Polymere (a) Einheiten der Formeln (I), (II) und (III)
    eingebaut enthält,
    und die organische Verbindung (b) ein Sulfoniumsalz der Formel (IV) ist. Das strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen mit verbessertem Kontrast.

    Positivarbeitendes strahlenempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen
    23.
    发明公开
    Positivarbeitendes strahlenempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen 失效
    Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen

    公开(公告)号：EP0762207A2

    公开(公告)日：1997-03-12

    申请号：EP96114061.3

    申请日：1996-09-03

    申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Funhoff, Dirk, Dr. ,  Binder, Horst

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

    摘要： Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, das im wesentlichen besteht aus

    (a 1 ) mindestens einem säurelabile Gruppierungen enthaltenden, in Wasser unlöslichen, organischen polymeren Bindemittel, das durch Einwirkung von Säure in wäßrig-alkalischen Lösungen löslich wird, oder

    (a 2.1 ) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen polymeren Bindemittel und
    (a 2.2 ) einer niedermolekularen organischen Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird,

    (b) mindestens einer organischen Verbindung, welche unter Einwirkung von aktinischer Strahlung eine Säure erzeugt, sowie gegebenenfalls
    (c) einer oder mehreren weiteren von (b) verschiedenen organischen Verbindungen,
    wobei mindestens eine der Komponenten (a 1 ), (a 2.1 ), (a 2.2 ), (b) und (c) eine Gruppierung der allgemeinen Formel (I) -O ⊖ N ⊕ R 4 gebunden enthält, oder Komponente (c) der Formel (II)
    entspricht.
    Das strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen.

    摘要翻译： 正面工作的辐射敏感混合物。 是基于（a）（a-1）水不溶物。 具有酸不稳定gps的有机聚合物粘合剂，使其溶于水溶液。 碱性溶胶 通过酸或（a-2.1）的水溶性作用。 聚合物粘合剂，其可溶于水溶液。 碱性溶胶和（a-2.2）低摩尔。 有机cpd，其在水溶液中更易溶解。 碱性显影剂通过酸的作用; （b）有机光酸; 并选择。 （c）有机cpd。 （b）以外。 （a-1），（a-2.1），（a-2.2），（b）和（c）中的至少一个含有gp。 式（Ⅳ）化合物其中R 1（ⅰ）或（c）具有式-O-CO-Ä（CH2-n-CH2-N + R3（Ⅱ）），其中R = -6 C烷基; n = 1-6。

    Strahlungshärtbare Acrylate mit eingebauten Photoinitiatoren
    24.
    发明公开
    Strahlungshärtbare Acrylate mit eingebauten Photoinitiatoren 失效
    内置光引发剂辐射固化的丙烯酸酯

    公开(公告)号：EP0752408A2

    公开(公告)日：1997-01-08

    申请号：EP96110449.4

    申请日：1996-06-28

    申请人： BASF AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Reich, Wolfgang, Dr. ,  Beck, Erich, Dr. ,  Jäger, Ulrich, Dr. ,  Schwalm, Reinhold, Dr.

    IPC分类号： C07C69/96

    CPC分类号： C07C69/96 ,  B33Y70/00 ,  Y10S522/905

    摘要： Strahlungshärtbare (Meth)acrylate, erhältlich durch Umsetzung von Verbindungen der Formel
    wobei R für einen C 1 -C 4 -Alkylrest, einen Arylrest oder den Rest R 1 steht und
    R 1 für den Rest
    steht, wobei die Reste R 2 bis R 6 unabhängig voneinander für H, C 1 -C 4 -Alkyl, C 1 -C 4 -Alkoxy, OH, Phenyl, SH, SCH 3 , SC 2 H 5 , F, Cl, Br, CN, COOH, COO-(C 1 -C 17 -Alkyl), COO-(C 5 -C 10 -Aryl), CF 3 , N(Alkyl) 2 , N((Alkyl)(Aryl), N(Aryl) 2 , N ⊕ (Alkyl) 3 A ⊖ , N ⊕ (Alkyl) 2 A ⊖ stehen, A ⊖ das Anion einer Säure und Alkyl-, bzw. Aryl-, soweit nicht anderes angegeben, eine C 1 -C 10 -Alkylgruppe bzw. eine C 5 -C 10 -Arylgruppe bedeutet und mindestens einer, aber maximal 3 der Reste R 2 bis R 6 eine Gruppe
    sind, mit Hydroxy(meth)acrylaten, welche mindestens 1 freie Hydroxygruppe und mindestens 2 (Meth)acrylgruppen im Molekül enthalten.

    摘要翻译： 一种可辐射固化（甲基）式的化合物的反应，其中R是C1-C4烷基，芳基或基团R <1>和R <1>是基团丙烯酸酯获得的，其特征在于 基团R <2>至R <6>独立地表示H，C1-C4烷基，C1-C4烷氧基，OH，苯基，SH，SCH 3，-SC 2 H 5，F，氯，溴，CN，COOH，COO- （C1-C17烷基），COO-（C5-C10芳基），CF 3，N（烷基）2，N（（烷基）（芳基），N（芳基）2，N <⊕>（烷基）3甲 <⊖>，N <⊕>（烷基）2A <⊖>是，一个<⊖>是一种酸的阴离子，和烷基或芳基，除非另有说明，一个C1-C10烷基或C5 C10芳基和至少一个，但超过3基团R <2>至R <6>的是在分子中的基团是羟基（甲基）丙烯酸酯，其中丙烯酸基团的至少1游离羟基基团和至少2个（甲基） 包括在内。

    Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern
    27.
    发明公开
    Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern 失效
    正性工作的辐射敏感混合物及其生产方法浮雕图案。

    公开(公告)号：EP0540965A1

    公开(公告)日：1993-05-12

    申请号：EP92118250.7

    申请日：1992-10-24

    申请人： BASF Aktiengesellschaft

    发明人： Binder, Horst ,  Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Funhoff, Dirk, Dr.

    IPC分类号： G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122

    摘要： Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes UV - strahlungsempfindliches Gemisch, enthaltend

    (a1) ein säurelabile Ether-, Ester- oder Carbonatgruppen enthaltendes organisches Bindemittel, oder
    (a2) ein in Wasser unlösliches, in wäßrig - alkalischen Lösungen lösliches polymeres Bindemittel und

    (a2.1) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrigalkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, oder
    (a2.2) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrigalkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird und die mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung sowie zusätzlich eine Gruppierung, die unter Einwirkung von Strahlung eine Säure bildet, enthält oder ein Gemisch der organischen Verbindungen (a2.1) und (a2.2) und

    (b) einen Arylsulfonsäureester.

    Dieses strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefmustern.

    摘要翻译： 本发明涉及一种正UV辐射敏感的组合物的有机粘合剂含有酸不稳定醚，酯或碳酸酯基团，或（a2）的水不溶性聚合粘合剂可溶于碱性溶液和wässrige（A2.1）的含有（a1）的 有机化合物由酸，或（A2.2）到有机化合物由酸的影响增加，且其含有至少一个基团可裂解通过在谁的碱性显影剂到wässrige溶解度的影响增加谁的在碱性显影剂中以wässrige溶解度 酸和另外一组辐射的影响，或有机化合物（A2.1）和（A2.2）和b），以芳基磺酸酯的混合物在酸的形式。 该辐射敏感性组合物是适合于形成浮雕图案。

    Strahlungsempfindliches Gemisch, enthaltend säurelabile Gruppierungen und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern und Reliefbildern
    28.
    发明公开
    Strahlungsempfindliches Gemisch, enthaltend säurelabile Gruppierungen und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern und Reliefbildern 失效
    含酸不稳定基团和方法用于产生浮雕图案和浮雕图像的辐射敏感混合物。

    公开(公告)号：EP0508174A1

    公开(公告)日：1992-10-14

    申请号：EP92104744.5

    申请日：1992-03-19

    申请人： BASF Aktiengesellschaft

    发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Binder, Horst ,  Funhoff, Dirk, Dr.

    IPC分类号： G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122

    摘要： Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, das enthält

    (a) ein in Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches polymeres Bindemittel und
    (b) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird und die mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung sowie zusätzlich eine Gruppierung, die unter Einwirkung von Strahlung eine starke Säure bildet, enthält, sowie zusätzlich
    (c) einen Alkyl- oder Arylsulfonsäureester eines Hydroxyaromaten.

    Dieses Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefmustern.

    摘要翻译： 本发明涉及含有（A）水溶性聚合物粘合剂的所有可溶于wässrige碱性溶液，和（b）有机化合物的溶解度在wässrige碱性显影剂通过曝光增加至酸和含有辐射敏感混合物 至少一种酸可裂解基团，此外，其中在暴露于辐射形成强酸，并且因此，在另外的基团，（c）中的烷基或羟基 - 芳族化合物的芳基磺酸酯。 这种混合物是适于制造浮雕图案。

    Strahlungsempfindliches Gemisch
    30.
    发明公开
    Strahlungsempfindliches Gemisch 失效
    辐射敏感组合物

    公开(公告)号：EP0372408A3

    公开(公告)日：1991-04-24

    申请号：EP89122182.2

    申请日：1989-12-01

    申请人： BASF Aktiengesellschaft

    发明人： Nguyen Kim, Son, Dr. ,  Hoffmann, Gerhard, Dr. ,  Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Binder, Horst ,  Schuhmacher, Rudolf, Dr.

    IPC分类号： G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0045

    摘要： Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, im wesentlichen bestehend aus
    (a) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen Bindemittel oder Bindemittelgemisch, (b) einer bei Bestrahlung eine starke Säure bildenden Verbindung und (c) einer oder mehreren die Löslichkeit von (a) in wäßrig-alkalischen Lösungen inhibierenden organischen Verbindungen, wobei die organische Verbindung (c) ein Monoketal einer β-Dicarbonylverbindung ist. Dieses strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Photoresists.