公开(公告)号：EP1277221B1

公开(公告)日：2004-05-26

申请号：EP01919129.5

申请日：2001-01-31

Applicant: Ceos Corrected Electron Optical Systems GmbH

Inventor： UHLEMANN, Stephan ,  HAIDER, Maximilian

IPC: H01J37/05

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J49/46 ,  H01J2237/2602 ,  H01J2237/2823

Abstract: The invention relates to an electron/ion gun for electron or ion beams, comprising a beam source and a monochromator. According to the invention, said monochromator is equipped with an additional beam guidance system and a switchover element which conveys the particles coming from the beam source to either the monochromator or the rest of the beam guidance system is provided at the input of the monochromator.

公开(公告)号：EP1042784B1

公开(公告)日：2003-08-27

申请号：EP98962700.5

申请日：1998-12-23

Applicant: Technische Universiteit Delft

Inventor： MOOK, Hindrik, Willem

IPC: H01J49/46 ,  H01J37/05

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J49/466

Abstract: The invention relates to a Wien filter provided with electrodes for generating an electric field, and magnetic poles for generating a magnetic field, said electrodes and magnetic poles being positioned around and having a finite length along a filter axis, and being positioned around the filter axis such that electric and magnetic forces induced by the respective fields and exerted on an electrically charged particle moving substantially along the fileter axis at a certain velocity, take substantially an opposite direction to one another and are directed substantially perpendicular to the particle's direction of movement through the filter, said filter having along its axis two ends determined by the finite length of the electrodes and magnetic poles, and said ends both being terminated by a closing plate which is positioned substantially transversely to the filter axis and is provided with an aperture around the filter axis to allow the particle to enter into an exit from the filter. The closing plates are made from a material of low electric and magnetic resistance, and the distance from the closing plates to a plane halfway along and perpendicular to the filter axis is at most approximately equal to the shortest distance from the filter axis to the electrodes and/or magnetic poles.

公开(公告)号：EP0967630B1

公开(公告)日：2003-08-13

申请号：EP99111296.2

申请日：1999-06-10

Applicant: LEO Elektronenmikroskopie GmbH

Inventor： Krahl, Dieter Dr. ,  Kujawa, Stephan Dr.

IPC: H01J37/05 ,  H01J37/153 ,  H01J37/26

CPC classification number: H01J37/26 ,  H01J37/05 ,  H01J37/153 ,  H01J2237/057

公开(公告)号：EP1100111B1

公开(公告)日：2002-10-09

申请号：EP99122581.4

申请日：1999-11-12

Applicant: Advantest Corporation

Inventor： Frosien, Jürgen, Dr.

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/147

CPC classification number: H01J37/147 ,  H01J37/05

公开(公告)号：EP1176624A2

公开(公告)日：2002-01-30

申请号：EP01306059.5

申请日：2001-07-13

Applicant: Axcelis Technologies, Inc.

Inventor： Benveniste, Victor M. ,  Divergilio, William F. ,  Sinclair, Frank

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/05 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32623 ,  H01J37/05 ,  H01J37/3171 ,  H01J37/32678

Abstract: An apparatus and method for providing a low energy, high current ion beam for ion implantation applications are disclosed. The apparatus includes a mass analysis magnet (114) mounted in a passageway (139) along the path (129) of an ion beam(128), a power source (174) adapted to provide an electric field in the passageway (139), and a magnetic device (170) adapted to provide a multi-cusped magnetic field in the passageway (139), which may include a plurality of magnets (220) mounted along at least a portion of the passageway (139). The power source (174) and the magnets (220) may cooperatively interact to provide an electron cyclotron resonance (ECR) condition along at least a portion (234) of the passageway (139). The multi-cusped magnetic field may be superimposed on the dipole field at a specified field strength in a region of the mass analyzer passageway to interact with an electric field of a known RF or microwave frequency for a given low energy ion beam. The invention further comprises a mass analyzer waveguide (250) adapted to couple the electric field to the beam plasma consistently along the length of the mass analyzer passageway to thereby improve the creation of the ECR condition. The invention thus provides enhancement of beam plasma within a mass analyzer dipole magnetic field for low energy ion beams without the introduction of externally generated plasma. The invention further includes a method (300) of providing ion beam containment in a low energy ion implantation system, as well as an ion implantation system.

公开(公告)号：EP1100111A1

公开(公告)日：2001-05-16

申请号：EP99122581.4

申请日：1999-11-12

Applicant: Advantest Corporation

Inventor： Frosien, Jürgen, Dr.

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/147

CPC classification number: H01J37/147 ,  H01J37/05

Abstract: The invention relates to a deflection arrangement for separating two particle beams, with an electrostatic deflector and a magnetic deflector having a common optical axis and generating crossed electrostatic and magnetic deflection fields, wherein the two particle beams pass the deflection arrangements from opposite sides. The two deflectors are adapted to deflect one of the two beams achromatically by an angle a and the other beam by an angle β ≥ 3 α with respect to its angle of incidence, respectively.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于分离两个粒子束的偏转装置，具有静电偏转器和具有共同光轴的磁偏转器并产生交叉的静电和磁偏转场，其中两个粒子束从相对侧通过偏转装置。 两个偏转器适于使两个光束中的一个光束相对于其入射角分别以角度α和另一个光束偏角β≥3α而偏移。

公开(公告)号：EP0899771A3

公开(公告)日：2000-12-27

申请号：EP98114706.9

申请日：1998-08-05

Applicant: LEO Elektronenmikroskopie GmbH

Inventor： Benner, Gerd, Dr.

IPC: H01J37/05

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J2237/28

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Energiefilter (11 - 16) insbesondere für Elektronenmikroskope, bei dem die Einstellung unterschiedlicher Energiebandbreiten elektronenoptisch erfolgt. Dafür sind am Filterausgang ein oder mehrere Ablenksysteme (12, 13) und ein oder mehrere Transferlinsen (15) vorgesehen. Bei einem Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Dispersionsebene eine Blendenanordnung (14) angeordnet, die eine Öffnung mit einem abgestuften Randbereich aufweist. Durch Auslenkung des Elektronenstrahls können Spaltblenden mit unterschiedlichen Spaltlängen simuliert werden. Die durch das oder die Ablenksysteme bewirkte Auslenkung des Elektronenstrahls senkrecht zur dispersiven Richtung des Filters wird durch eine nachfolgende Transferlinse (15) oder ein weiteres Ablenksystem (16) wieder kompensiert, so daß auch eine Bildverschiebung kompensiert ist. Bei einem zweiten Ausführungsbeispiel sind in zwei zueinander konjugierten Spektrumsebenen jeweils eine Spaltkante angeordnet. Durch ein jeder Spaltkante vorgeschaltetes Ablenksystem werden je nach Erregung der Ablenksysteme unterschiedliche Spektrumsteile von den beiden Spaltkanten herausgefiltert. Bei diesem Ausführungsbeispiel kann die Energiebandbreite kontinuierlich geändert werden.

公开(公告)号：EP1042784A1

公开(公告)日：2000-10-11

申请号：EP98962700.5

申请日：1998-12-23

Applicant: Technische Universiteit Delft

Inventor： MOOK, Hindrik, Willem

IPC: H01J49/46 ,  H01J37/05

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J49/466

Abstract: The invention relates to a Wien filter provided with electrodes for generating an electric field, and magnetic poles for generating a magnetic field, said electrodes and magnetic poles being positioned around and having a finite length along a filter axis, and being positioned around the filter axis such that electric and magnetic forces induced by the respective fields and exerted on an electrically charged particle moving substantially along the fileter axis at a certain velocity, take substantially an opposite direction to one another and are directed substantially perpendicular to the particle's direction of movement through the filter, said filter having along its axis two ends determined by the finite length of the electrodes and magnetic poles, and said ends both being terminated by a closing plate which is positioned substantially transversely to the filter axis and is provided with an aperture around the filter axis to allow the particle to enter into an exit from the filter. The closing plates are made from a material of low electric and magnetic resistance, and the distance from the closing plates to a plane halfway along and perpendicular to the filter axis is at most approximately equal to the shortest distance from the filter axis to the electrodes and/or magnetic poles.

公开(公告)号：EP0989584A1

公开(公告)日：2000-03-29

申请号：EP98118000.3

申请日：1998-09-23

Applicant: ADVANTEST CORPORATION

Inventor： Frosien, Jürgen Dr.

IPC: H01J37/153 ,  H01J37/05

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/153

Abstract: The invention relates to a device for reducing the energy width of a particle beam with a 1 st and a 2 nd Wien filter for dispersing the particle beam depending on the energy of the particles, and an aperture for selecting the particles within a certain reduced energy width. Furthermore, a particle beam system with such a device for reducing the energy width is disclosed.

Abstract translation: 本发明涉及一种设备，用于减少粒子射线的能量宽度为1 和a 2 维恩滤波器用于粒子束取决于粒子的能量分散，并在孔径为内选择颗粒 一定降低的能量宽度。 进一步，与搜索装置的粒子束系统用于减少能量宽度为游离缺失光盘。

公开(公告)号：EP0899771A2

公开(公告)日：1999-03-03

申请号：EP98114706.9

申请日：1998-08-05

Applicant: LEO Elektronenmikroskopie GmbH

Inventor： Benner, Gerd, Dr.

IPC: H01J37/05

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J2237/28

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Energiefilter (11 - 16) insbesondere für Elektronenmikroskope, bei dem die Einstellung unterschiedlicher Energiebandbreiten elektronenoptisch erfolgt. Dafür sind am Filterausgang ein oder mehrere Ablenksysteme (12, 13) und ein oder mehrere Transferlinsen (15) vorgesehen. Bei einem Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Dispersionsebene eine Blendenanordnung (14) angeordnet, die eine Öffnung mit einem abgestuften Randbereich aufweist. Durch Auslenkung des Elektronenstrahls können Spaltblenden mit unterschiedlichen Spaltlängen simuliert werden. Die durch das oder die Ablenksysteme bewirkte Auslenkung des Elektronenstrahls senkrecht zur dispersiven Richtung des Filters wird durch eine nachfolgende Transferlinse (15) oder ein weiteres Ablenksystem (16) wieder kompensiert, so daß auch eine Bildverschiebung kompensiert ist.
Bei einem zweiten Ausführungsbeispiel sind in zwei zueinander konjugierten Spektrumsebenen jeweils eine Spaltkante angeordnet. Durch ein jeder Spaltkante vorgeschaltetes Ablenksystem werden je nach Erregung der Ablenksysteme unterschiedliche Spektrumsteile von den beiden Spaltkanten herausgefiltert. Bei diesem Ausführungsbeispiel kann die Energiebandbreite kontinuierlich geändert werden.

Abstract translation: 能量滤波器具有输出成像平面（BA）和色散平面。 在分散平面内或共轭平面内的能量选择停止装置（14）之前，电子束被偏转系统（12,13）偏转。 通过引起梁的不同偏转，偏转系统受到不同的刺激以设定不同的能量带宽。 停止安排。