摘要:
Die Erfindung betrifft ein Kartuschen-Ausdrückwerkzeug mit einer Kartuschenaufnahme (28) zur Aufnahme einer Kartusche, einer durch Betätigen eines Antriebshebels (4) schrittweise in einer Achsrichtung verlagerbaren Schubstange (26) zum Ausdrücken der Kartusche, die sich an einer Stirnseite (33) der Kartuschenaufnahme (28) abstützt, mit einer im Bereich der Stirnseite (33) angeordneten, um die Achse drehbaren Griffhülse (31). Die Griffhülse (31) weist eine zu ihrem Rand hin spaltoffene Öffnung (34) auf, die teilweise deckungsgleich zu einer Öffnung (32) der Stirnseite (33) ist. Sie ist in axialer Richtung auf das stirnseitige Ende der Kartuschenaufnahme (28) aufgeklipst und bildet ein Verschlussteil, mit dem ein randseitiger Öffnungsspalt einer Öffnung (32) zur Aufnahme einer Ausdrücktülle einer Kartusche verschließbar ist.
摘要:
The invention relates to a device for depositing a layer on a substrate (1), the substrate being moved in a movement direction (B) in a process chamber (3) transversely to the direction of extent of a gas inlet element (2) during the coating, wherein the gas inlet element (2) has a first gas distribution chamber (5, 6), which has a feed-in opening (9) for feeding in a starting material and a gas outlet zone (14) for the outflow of a first gas flow (a) containing the starting material, which gas outlet zone extends over the entire width of the movement path of the substrate (1) and points toward the substrate (1), wherein, parallel to the direction of extent of the first gas outlet zone (14), a second gas outlet zone (27) of a second gas distribution chamber (21) is arranged before the first gas outlet zone (14) in the movement direction (B) of the substrate (1) for the outflow of a second gas flow (b) and a third gas outlet zone (28) of a third gas distribution chamber (22) is arranged after the first gas outlet zone (14) in the movement direction (B) of the substrate (1) for the outflow of a third gas flow (b, c). The second and the third gas outlet zones (27, 28) are arranged directly adjacent to the at least one process-gas outlet zone (14). The at least one process-gas distribution chamber and the second and the third gas distribution chambers each have a gas-heating apparatus. The process-gas distribution chamber (5, 6) has an evaporating apparatus (7) for a solid or liquid starting material, which can be fed in through the feed-in opening (9).
摘要:
Methods and systems for forming a material on a substrate are provided. Aspects of the methods involve the controlled introduction of a plurality of vapor reactants into a deposition chamber to form a material on the substrate having uniform surface roughness, conformality, thickness and composition. Aspects of the systems include a vapor feed component, a vapor distribution component, a containment component, and a controller configured to operate the systems to carry out the methods.
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Kartuschen-Ausdrückwerkzeug mit einer Kartuschenaufnahme (28) zur Aufnahme einer Kartusche, einer durch Betätigen eines Antriebshebels (4) schrittweise in einer Achsrichtung verlagerbaren Schubstange (26) zum Ausdrücken der Kartusche, die sich an einer Stirnseite (33) der Kartuschenaufnahme (28) abstützt, mit einer im Bereich der Stirnseite (33) angeordneten, um die Achse drehbaren Griffhülse (31). Die Griffhülse (31) weist eine zu ihrem Rand hin spaltoffene Öffnung (34) auf, die teilweise deckungsgleich zu einer Öffnung (32) der Stirnseite (33) ist. Sie ist in axialer Richtung auf das stirnseitige Ende der Kartuschenaufnahme (28) aufgeklipst und bildet ein Verschlussteil, mit dem ein randseitiger Öffnungsspalt einer Öffnung (32) zur Aufnahme einer Ausdrücktülle einer Kartusche verschließbar ist.