利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

142 条记录 (耗时 0.019 秒)

    SYSTEM ZUR MAGNETFELDKOMPENSATION
    2.
    发明公开
    SYSTEM ZUR MAGNETFELDKOMPENSATION 审中-公开

    公开(公告)号：EP3620806A1

    公开(公告)日：2020-03-11

    申请号：EP18192937.3

    申请日：2018-09-06

    申请人： Integrated Dynamics Engineering GmbH

    发明人： BIRKNER, Andreas ,  KAPPEL, Roland

    IPC分类号： G01R33/025 ,  G01R33/3875

    摘要： System zur Magnetfeldkompensation, welches eine Mehrzahl von in jeweils einer Aufnahme angeordneten Spulen umfasst. Das System umfasst des Weiteren einen Controller, um die Spulen zur Magnetfeldkompensation anzusteuern. Die Spulen sind mit dem Controller verbunden und adressiert. Die Spulenaufnahme ist als Wandelement ausgebildet. Aus den Wandelementen kann ein Raum, insbesondere ein Reinraum gebildet werden.

    Integrierbare Magnetfeldkompensation für den Einsatz an Raster- und Transmissionselektronenmikroskopen
    6.
    发明公开
    Integrierbare Magnetfeldkompensation für den Einsatz an Raster- und Transmissionselektronenmikroskopen 有权
    Integrierbare Magnetfeldkompensationfürden Einsatz an Raster- und Transmissionselektronenmikroskopen

    公开(公告)号：EP2544214A3

    公开(公告)日：2016-06-01

    申请号：EP12004906.9

    申请日：2012-07-02

    申请人： Integrated Dynamics Engineering GmbH

    发明人： Kropp, Peter A., Dr.

    IPC分类号： H01J37/09 ,  H01J37/26 ,  H01J37/147

    CPC分类号： H01J37/1475 ,  H01J37/09 ,  H01J37/1471 ,  H01J37/26

    摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung und ein Verfahren zum Abbilden, Untersuchen und/oder Bearbeiten einer Probe mittels Elektronen. Die Anordnung umfasst ein Elektronenmikroskop zum Bereitstellen der Elektronen, eine Kammer mit einem Probehalter, auf welchem eine Probe so positionierbar ist, dass die Probe mittels der Elektronen abgebildet, untersucht und/oder bearbeitet werden kann. Es ist zudem ein System vorgesehen zur Magnetfeldkompensation in zumindest einer Raumrichtung (X, Y, Z) mit wenigstens einer Kompensationsspule, wobei wenigstens eine Wand der Kammer zumindest abschnittsweise einen Aufnahmebereich für zumindest einen Abschnitt der Kompensationsspule (41) aufweist. Im Wesentlichen wird allein die Kammer, in der die Probe angeordnet ist, als Kompensationsvolumen betrachtet. Es ist ausreichend, das Kompensationsvolumen auf den sensitiven Bereich des Elektronenmikroskops zu reduzieren. Denn der Elektronenstrahl ist in der Kammer, kurz nach einer letzten Fokussierung und/oder Filterung am empfindlichsten in Bezug auf die Bildqualität, wenn externe elektromagnetische Störungen einwirken. Zudem ist dadurch die wenigstens eine Kompensationsspule so in die Anordnung integriert, dass die Bedienbarkeit der Anordnung nicht beeinträchtigt ist.

    摘要翻译： 该装置具有用于提供带电粒子的装置（10）。 一个室（20）上设置一个样品架（23），样品（30）定位在样品（30）上，使得样品由该装置提供的颗粒单位指示，测试和处理。 提供了一种系统（40），用于在空间方向（X，Y，Z）上进行磁场补偿，具有由导体的绕组提供的抵抗线圈（41），其中所述腔的壁（21）具有 用于所述抗弯线圈的一部分的接收区域（21a，21b）。 包含用于以带电粒子为单位指示，测试和处理样品的方法的独立权利要求。

    Verfahren zur Dimensionierung eines Schwingungsisolators
    8.
    发明公开
    Verfahren zur Dimensionierung eines Schwingungsisolators 审中-公开

    公开(公告)号：EP2772661A1

    公开(公告)日：2014-09-03

    申请号：EP13157277.8

    申请日：2013-02-28

    申请人： Integrated Dynamics Engineering GmbH

    发明人： Kappel, Roland

    IPC分类号： F16F15/027 ,  G03F7/20

    摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Dimensionierung eines Schwingungsisolators, insbesondere zur Verwendung in Vakuumkammern, wobei bei der Dimensionierung eines Arbeitsraumes die negative Steifigkeit berücksichtigt wird.

    摘要翻译： 该方法涉及在水平和垂直方向上振动隔离地支撑活塞。 在计算隔离器的期望固有频率所需的体积的工作室（3）的体积的计算期间，考虑振动隔离器（1）的负刚度添加单元（9）的负刚性。 隔离器的尺寸为三个，优选六个自由度。 在尺寸设计过程中，室的体积被最小化。 在计算自由度时形成正刚性和负刚性的总和。 还包括以下独立权利要求：（1）振荡隔离器（2）静止振荡隔离系统（3）的布置。