摘要:
The invention relates to a method for quenching arcs in a gas discharge chamber (5), in which power is fed to a gas discharge chamber (5) and in which, both when there is a flow of current in a first direction and when there is a flow of current in a second, reverse direction, a gas discharge is generated. When an arc is detected, the supply of power to the gas discharge chamber (5) is interrupted and residual energy which is present in a feed line (17, 19) to the gas discharge chamber (5) and/or in the gas discharge chamber (5) is fed to an energy store (30).
摘要:
Ein Verfahren zum Betrieb einer Plasmaversorgungseinrichtung mit zumindest einer wenigstens zwei schaltende Elemente (1-4) aufweisenden Schaltbrücke (100, 101), wobei die Plasmaversorgungseinrichtung, ein Hochfrequenzausgangssignal mit einer Leistung > 500W und einer im Wesentlichen konstanten Grundfrequenz > 3MHz an eine Plasmalast (60) liefert, umfasst die Schritte - Ermitteln zumindest eines Betriebsparameters, zumindest eines Umgebungsparameters von wenigstens einem schaltenden Element und/oder eines Schaltbrückenparameters - Ermitteln von individuellen Ansteuersignalen für die schaltenden Elemente (1-4) unter Berücksichtigung des zumindest einen Betriebsparameters, des zumindest einen Umgebungsparameters und/oder des Schaltbrückenparameters - Individuelles Ansteuern der schaltenden Elemente (1-4) mit jeweils einem Ansteuersignal.
摘要:
The invention relates to a plasma supply device (10, 10') for the generation of a power output > 500 W at a substantially constant base frequency > 3 MHz and for the power supply of a plasma process, to which the power output generated is supplied and from which power reflected is conducted back to the plasma supply device (10, 10') at least in the event of a maladjustment, having at least one inverter (11, 12), which is connected to a DC power supply (13, 14, 13', 14') and has at least one switching element (11.1, 11.2, 12.1, 12.2.), and having an output network (15, 15'), the output network (15, 15') being disposed on a circuit board (38). In this way, the output network (15, 15') can be implemented inexpensively and precisely.
摘要:
Bei einem MF-Plasmaleistungsgenerator (1) für einen Plasmaprozess mit einer DC-Stromversorgung (2), einem daran angeschlossenen Inverter (6), der zumindest ein an ein Stromversorgungspotential erster Polarität (11) angeschlossenes schaltendes Element (101, 102) aufweist, und einem Ausgangsnetzwerk (7), ist für jedes schaltende Element (101, 102) eine Entkoppelschaltung zur Entkopplung des schaltenden Elements (101, 102) von einer Spannung des Ausgangsnetzwerks (7) vorgesehen. Dadurch können die schaltenden Elemente (101, 102) verlustarm geschaltet werden.
摘要:
Bei einer Messeinrichtung (7) eines HF-Plasmasystems mit einer Auskoppeleinrichtung (8) zur Auskopplung eines oder mehrerer mit einer Leistung in Beziehung stehenden Signale und wenigstens einer Filteranordnung, der ein solches Signal zugeführt ist, ist die Filteranordnung als Bandpassfilteranordnung (14,15) ausgebildet und umfasst ein erstes und ein zweites Filterelement (22, 32, 25, 35), zwischen denen ein Entkoppelglied (24, 34) angeordnet ist. Dadurch können die Vorwärtsleistung und eine reflektierter Leistung mit sehr hoher Genauigkeit bestimmt werden.
摘要:
Die Erfindung betrifft eine Arcunterdrückungsanordnung (23.1) zum Löschen von Arcs in einer mit einer Wechselspannung, insbesondere MF-Wechselspannung, betriebenen Gasentladungseinrichtung (5), mit einer Arcunterdrückungseinrichtung (18) und einer diese ansteuernden Arcerkennungseinrichtung (22), wobei die Arcunterdrückungseinrichtung (18) zumindest einen steuerbaren Widerstand aufweist, der in Serienschaltung in einer von einer Wechselspannungsquelle zu einer Elektrode (3) der Gasentladungseinrichtung (5) führenden elektrischen Leitung (17) angeordnet ist. Dadurch kann verhindert werden, dass ein Arc mit Energie versorgt wird.
摘要:
Bei einem 3dB-Koppler (100) mit mindestens einem ersten und einem zweiten elektrischen Leiter (110, 111), die voneinander beabstandet sind und die in einem Kopplungsbereich (101) kapazitiv und induktiv miteinander gekoppelt sind, wobei der erste Leiter (110) die Primärseite und der zweite Leiter (111) die Sekundärseite eines Übertragers darstellt, weisen der erste und der zweite Leiter (110, 111) jeweils eine Windungszahl n > 1 auf. Dadurch wird eine gute induktive und kapazitive Kopplung erzielt.