-
1.发明公开
公开(公告)号：EP2801640A1
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：EP13167074.7
申请日：2013-05-08
发明人： Schulz, Klaus-Dieter , Hartmann, Dr. Philip , Wachter, Philipp , Briese, Mike , Brunner, Dr. Heiko , Richter, Richard , Kohlmann, Lars
CPC分类号： C25D3/562 , C07D213/74 , C07D295/192 , C25D3/18
摘要： The present invention is related to a galvanic nickel or nickel alloy electroplating bath for depositing a semi-bright nickel or nickel alloy coating characterized in that the electroplating bath comprises at least one compound having the general formula (I)
wherein R 1 = C 1 - C 18 hydrocarbon moiety substituted with a SO 3 group, C 1 - C 18 hydrocarbon moiety substituted with a carboxylic group or C 1 - C 18 hydrocarbon moiety substituted with at least an aromatic and/or a heteroaromatic group;
R 2 = NR 3 R 4 moiety, OR 5 moiety, or cyclic NR 6 moiety, wherein
R 3 , R 4 , R 5 = hydrogen or C 1 - C 18 hydrocarbon moiety or C 1 - C 18 hydrocarbon moiety substituted with at least an aromatic and/or a heteroaromatic group, wherein R 3 , R 4 and R 5 are identical or different;
R 6 = C 3 - C 8 hydrocarbon moiety or C 3 - C 8 hydrocarbon moiety, wherein at least one carbon atom is substituted by a heteroatom; and
n = 1 - 3.摘要翻译： 本发明涉及用于沉积半光亮镍或镍合金涂层的电镀镍或镍合金电镀浴，其特征在于电镀浴包含至少一种具有通式（I）的化合物，其中R 1 = C 1〜 被SO 3基取代的C 18烃部分，被羧基取代的C 1 -C 18烃部分或被至少一个芳族和/或杂芳基取代的C 1 -C 18烃部分; R 2 = NR 3 R 4部分，OR 5部分或环状NR 6部分，其中R 3，R 4，R 5 =氢或C 1 -C 18烃部分或C 1 -C 18烃部分至少被至少取代 芳族和/或杂芳族基团，其中R 3，R 4和R 5相同或不同; R 6 = C 3 -C 8烃部分或C 3 -C 8烃部分，其中至少一个碳原子被杂原子取代; 和n = 1-3。
-
2.发明公开Pyrophosphathaltiges Bad zur cyanidfreien Abscheidung von Kupfer-Zinn-Legierungen 有权Pyrophosphathaltiges on ur ur en en en en en en en en en en en en en en en en en en en en en en en en
公开(公告)号：EP2130948A1
公开(公告)日：2009-12-09
申请号：EP08010058.9
申请日：2008-06-02
摘要： Beschrieben wird ein pyrophosphathaltiges Bad zur cyanidfreien Abscheidung von Kupferlegierungen auf Substratoberflächen, umfassend ein Umsetzungsprodukt eines sekundären Monoamins mit einem Diglycidylether. Das Elektrolytbad eignet sich zur galvanischen Abscheidung von glänzenden weißen, ebenen und einheitlichen Kupfer-Zinn-Legierungsüberzügen.
摘要翻译： 含有焦磷酸盐的浴（I）包括二次单胺与二缩水甘油醚的反应产物，其中二元单胺是吗啉，二缩水甘油醚是甘油二缩水甘油醚，聚（丙二醇）二缩水甘油醚和/或聚（乙二醇）二缩水甘油醚。 包括以下独立权利要求：（1）光亮剂和铜 - 锡合金涂层的电离分离，包括使待涂覆的基底和不含氰酸水溶液（I）接触并分离基底上的铜 - 锡合金涂层; 和（2）反应产物。
-
公开(公告)号：EP3933072A1
公开(公告)日：2022-01-05
申请号：EP21186683.5
申请日：2018-06-18
摘要： The present invention is related to a nickel electroplating bath for depositing a decorative nickel coating on a substrate to be treated characterized in that the electroplating bath comprises at least a nickel ion source, at least one amino acid and/or at least one carboxylic acid, which is not an amino acid; wherein the total concentration of the amino acid(s) is ranging from 1 to 10 g/l, wherein the total concentration of carboxylic acid(s), which is/are not an amino acid, is ranging from 10 to 40 g/l; wherein the electroplating bath is free of boric acid; wherein the total concentration of the nickel ions is ranging from 55 to 80 g/l; and wherein the nickel electroplating bath has a chloride content ranging from 7.5 to 40 g/l.
The present invention is also related to a method for depositing a nickel coating on a substrate to be treated; and the use of such an inventive nickel electroplating bath for depositing a bright, semi-bright, satin, matte or non-conductive particle containing nickel coating by conducting such a method.-
公开(公告)号：EP2886683B1
公开(公告)日：2019-12-18
申请号：EP14198132.4
申请日：2012-04-27
-
5.发明授权Pyrophosphathaltiges Bad zur cyanidfreien Abscheidung von Kupfer-Zinn-Legierungen 有权Pyrophosphathaltiges浴铜 - 锡合金的无氰沉积
公开(公告)号：EP2130948B1
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：EP08010058.9
申请日：2008-06-02
-
公开(公告)号：EP2886683A2
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：EP14198132.4
申请日：2012-04-27
摘要： The invention relates to methods and plating baths for electrodepositing a dark chromium layer on a workpiece. The trivalent chromium electroplating baths comprise sulphur compounds and the methods for electrodepositing a dark chromium layer employ these trivalent chromium electroplating baths. The dark chromium deposits and workpieces carrying dark chromium deposits are suited for application for decorative purposes.
摘要翻译： 本发明涉及用于在工件上电沉积深铬层的方法和电镀槽。 三价铬电镀浴包含硫化合物，用于电沉积深铬层的方法使用这些三价铬电镀浴。 深色铬沉积物和携带深色铬沉积物的工件适用于装饰用途。
-
7.发明公开Electroplating bath and method for producing dark chromium layers 审中-公开Elektroplattierbad und Verfahren zur Herstellung von dunklen Chromschichten
公开(公告)号：EP2886683A3
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：EP14198132.4
申请日：2012-04-27
摘要： The invention relates to methods and plating baths for electrodepositing a dark chromium layer on a workpiece. The trivalent chromium electroplating baths comprise sulphur compounds and the methods for electrodepositing a dark chromium layer employ these trivalent chromium electroplating baths. The dark chromium deposits and workpieces carrying dark chromium deposits are suited for application for decorative purposes.
摘要翻译： 本发明涉及用于在工件上电沉积暗铬层的方法和电镀液。 三价铬电镀浴包含硫化合物，电沉积黑铬层的方法采用这些三价铬电镀浴。 暗铬沉积物和携带暗铬沉积物的工件适用于装饰目的。
-
-
-
-
-
-
搜索结果
7 条记录 (耗时 0.013 秒)
