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1.发明公开PROCESS FOR CONTROLLING A GAS PHASE OXIDATION REACTOR FOR PREPARATION OF PHTHALIC ANHYDRIDE 有权一种用于控制气相氧化反应器的生产邻苯二甲酸酐
公开(公告)号：EP2558453A4
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：EP11768534
申请日：2011-04-06
Applicant: BASF SE
Inventor： ALTWASSER STEFAN , ZUEHLKE JUERGEN , CHEN HAO , DOBNER CORNELIA KATHARINA , ROSOWSKI FRANK
IPC: C07D307/89 , C07C51/21 , C07C51/255
CPC classification number: C07D307/89 , C07C51/265 , C07C51/313 , C07C63/16
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：EP2558198A4
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：EP11768541
申请日：2011-04-12
Applicant: BASF SE
Inventor： KRAEMER MICHAEL , SCHUBERT MARKUS , LAUTENSACK THOMAS , HILL THOMAS , KOERNER REINHARD , ROSOWSKI FRANK , ZUEHLKE JUERGEN
IPC: B01J23/22
CPC classification number: B01J21/08 , B01J23/22 , B01J27/053 , B01J35/0026 , B01J35/023 , B01J35/1038 , B01J35/1052 , B01J37/0018 , C01B17/79
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公开(公告)号：EP2558197A4
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：EP11768535
申请日：2011-04-12
Applicant: BASF SE
Inventor： KRAEMER MICHAEL , SCHUBERT MARKUS , LAUTENSACK THOMAS , HILL THOMAS , KOERNER REINHARD , ROSOWSKI FRANK , ZUEHLKE JUERGEN
IPC: B01J23/22
CPC classification number: B01J21/08 , B01D53/8609 , B01D2251/102 , B01D2255/202 , B01D2255/2022 , B01D2255/30 , B01D2255/9205 , B01D2257/302 , B01J23/22 , B01J29/06 , B01J37/20
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4.发明公开
公开(公告)号：EP2872251A4
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：EP13820174
申请日：2013-07-12
Applicant: BASF SE
Inventor： KRÄMER MICHAEL , ZÜHLKE JÜRGEN , ALTWASSER STEFAN , FISCHER NICO FREDERIK , ROSOWSKI FRANK , ALLMANN HANS-MARTIN
IPC: B01J23/16 , C07C51/265
CPC classification number: B01J23/22 , B01J35/0046 , B01J35/006 , B01J35/1014 , B01J37/0215 , B01J37/0225 , B01J37/0244 , B01J37/04 , C07D307/89
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5.发明公开CATALYST FOR OXIDATION OF O-XYLENE AND/OR NAPHTHALENE TO PHTHALIC ANHYDRIDE 审中-公开催化剂的邻二甲苯和/或萘的氧化成邻苯二甲酸酐
公开(公告)号：EP2598238A4
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：EP11811912
申请日：2011-07-26
Applicant: BASF SE
Inventor： ALTWASSER STEFAN , ZÜHLKE JÜRGEN , ROSOWSKI FRANK , KRÄMER MICHAEL
IPC: B01J23/22 , B01J23/18 , C07C51/265
CPC classification number: B01J23/18 , B01J21/063 , B01J23/22 , B01J35/002 , B01J37/0219 , B01J37/0221 , C07D307/89
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6.发明公开CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC HETEROPOLYACID 审中-公开使用杂用于化学机械抛光（CMP）组合物
公开(公告)号：EP2625241A4
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：EP11830275
申请日：2011-10-04
Applicant: BASF SE
Inventor： SCHMITT CHRISTINE , KARPOV ANDREY , ROSOWSKI FRANK , BRANDS MARIO , LI YUZHUO
IPC: C09G1/02 , H01L21/306 , H01L21/321
CPC classification number: H01L21/30625 , C09G1/02 , H01L21/3212
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