公开(公告)号：EP1312985B1

公开(公告)日：2012-08-01

申请号：EP02257942.9

申请日：2002-11-18

申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA

发明人： Nakano, Hitoshi ,  Arakawa, Kiyoshi

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  H01L21/20 ,  B01D46/00 ,  B05C15/00 ,  F24F3/16

CPC分类号： B01D46/12 ,  B01D46/0036 ,  B01D46/521 ,  B01D53/0438 ,  B01D53/0446 ,  B01D53/0454 ,  B01D2253/102 ,  B01D2253/206 ,  B01D2253/3425 ,  B01D2257/30 ,  B01D2257/70 ,  B01D2258/0216 ,  B01D2267/40 ,  F24F3/161 ,  F24F2003/1621 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70916

公开(公告)号：EP2113812A1

公开(公告)日：2009-11-04

申请号：EP09005117.8

申请日：2009-04-07

申请人： Canon Kabushiki Kaisha

发明人： Chibano, Takahito ,  Nakano, Hitoshi

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： An exposure apparatus that exposes a substrate (6) through liquid (18) includes a projection optical system (4) that projects a pattern of an original (2) onto the substrate; a supply port (12) that supplies the liquid; a recovery port (13) that recovers the liquid; and a plurality of pressure resistance portions (22, 24, 25, 27) arranged at a passage of at least one of the supply port and the recovery port, to apply pressure resistances to the liquid passing through the passage. The pressure resistance portions surround a final surface of the projection optical system and are distant from each other in a direction in which the liquid flows through the passage. One of the plurality of pressure resistance portions, which is nearest to the substrate, faces the substrate.

摘要翻译： 通过液体（18）曝光基板（6）的曝光装置包括：投影光学系统（4），其将原件（2）的图案投影到基板上; 供给液体的供给口（12） 回收液体的回收口（13） 和布置在供给口和回收口中的至少一个的通道上的多个耐压部分（22,24,25,27），以对通过通道的液体施加耐压性。 耐压部分围绕投影光学系统的最终表面并且在液体流过通道的方向上彼此远离。 最接近基板的多个耐压部中的一个面向基板。