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发明授权
METHOD FOR HIGH-RESOLUTION ETCHING OF THIN LAYERS WITH ELECTRON BEAMS 有权
标题翻译：用电子束对薄层进行高分辨率蚀刻的方法

公开(公告)号：EP1664924B8

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：EP04764051.1

申请日：2004-08-12

申请人： Carl Zeiss SMS GmbH

发明人： KOOPS, Hans, W., P. , EDINGER, Klaus , BABIN, Sergey , HOFMANN, Thorsten , SPIES, Maria

IPC分类号： G03F1/74 , H01J37/305 , C23F4/00 , H01L21/768 , H01L21/3213

CPC分类号： G03F1/74 , H01J37/3056 , H01J2237/31744 , H01L21/31122 , H01L21/32135