摘要:
Détecteur bolométrique (100) de longueurs d'ondes LWIR, comportant : - un substrat (102) ; - une membrane (104) suspendue au-dessus du substrat par des éléments de support (108) ; - un élément absorbeur comprenant plusieurs structures MIM chacune formée d'un élément métallique inférieur (112), d'un élément métallique supérieur (114) propre à chaque structure MIM et d'un élément diélectrique (110, 118) disposé entre les éléments métalliques inférieur et supérieur ; - un élément thermomètre comprenant un matériau thermométrique ; dans lequel : - la membrane comporte l'élément métallique supérieur, le matériau thermométrique et une partie de l'élément diélectrique de chaque structure MIM, - les éléments métalliques supérieurs d'au moins deux structures MIM ont des dimensions différentes dans un plan principal de la membrane, et - l'élément diélectrique de chacune des structures MIM comporte l'un des matériaux suivants présentant des modes vibrationnels dans la gamme LWIR : Al 2 O 3 , AIN, TiO 2 .
摘要翻译:LWIR波长的辐射测量检测器,包括:基板; 通过支撑元件悬浮在基底上的膜; 吸收元件包括多个MIM结构,每个MIM结构均形成有下部金属元件,特定于每个MIM结构的上部金属元件和位于下部和上部金属元件之间的介电元件; 包括至少一种测温材料的测温元件; 其中:所述膜包括所述上金属元件,所述测温材料和每个MIM结构的所述电介质元件的一部分,所述至少两个MIM结构的上金属元件在所述膜的主平面中相对于彼此具有不同的尺寸, 并且每个MIM结构的电介质元件包括在LWIR范围内具有振动模式的以下材料中的至少一种:Al 2 O 3,AlN,TiO 2。
摘要:
L'invention concerne un procédé de dimensionnement d'un masque (1) de lithographie en échelle de gris, le masque comprenant des premières zones opaques (120), étant opaques à rayonnement d'insolation, situées dans des premiers pixels (110) formant un premier réseau (100) du masque (1). Une première densité cible D100* d'une première densité surfacique D100 de premières zones opaques est tout d'abord établie. Cette première densité cible D100* permet d'insoler une résine (20) sur une première épaisseur cible e1* donnée lorsqu'elle est exposée au rayonnement au travers du premier réseau. Les dimensions Px,1, Py,1 des premiers pixels et les dimensions Lx,1, Ly,1 des premières zones opaques sont ensuite établies de façon à ce que la valeur d'une erreur sur la première épaisseur cible e1*, notée MEEF(e1*), soit inférieure à un premier seuil donné. On utilise les dimensions obtenues pour le dimensionnement du premier réseau du masque.
摘要:
Un aspect de l'invention concerne une matrice (10) de filtrage multispectral pour une onde électromagnétique, la matrice comportant au moins un premier (E 1 ) et un deuxième éléments optoélectroniques (E 2 ), chaque élément optoélectronique (Ei) comprenant un filtre de couleur (Fi) et un transducteur photoélectrique (Ti) en regard dudit filtre (Fi), chaque filtre de couleur (Fi) formant une cavité Fabry-Pérot comportant une première couche réfléchissante (Cr 1i ), une deuxième couche réfléchissante (C r2i ) et une couche en matériau diélectrique (CFPi) de cavité de Fabry-Pérot entre la première couche réfléchissante (Cr1i) et la deuxième couche réfléchissante (C r2i ), la couche de matériau diélectrique (C FP i) comportant : - une surface inférieure (S inf_i ), au contact de la première couche réfléchissante (C r1i ), la surface inférieure (S inf_i ) étant courbe; - Une surface supérieure (S sup_i ) au contact de la deuxième couche réfléchissante (C r1i ), la surface supérieure (S sup_i ) étant courbe; les épaisseurs moyennes des deux couches en matériau diélectrique (C FP1 , C FP2 ) des deux filtres (F 1 , F 2 ) étant différentes.